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제1기판상에 폴리머 레진을 도포하는 폴리머 레진 도포단계; 베이스부로 갈수록 단면적이 증가하는 형상의 제1패턴부가 형성된 스탬프를 마련하는 스탬프 마련단계;상기 스탬프로 상기 폴리머 레진을 가압하고 상기 폴리머 레진을 경화시켜, 상기 폴리머 레진에 상기 제1기판으로 갈수록 단면적이 증가하는 기본패턴과, 상기 제1기판상에 밀착되도록 마련되고 상기 기본패턴의 하부를 연결하는 잔류층을 가지는 제2패턴부가 형성되도록 하는 기본패턴 형성단계; 상기 스탬프를 제거하는 스탬프 제거단계; 상기 제2패턴부의 상부에 제2기판을 밀착하고, 상기 제2패턴부를 상기 제2기판으로 전사하는 전사단계; 그리고 상기 잔류층을 제거하여 상기 제2기판으로 갈수록 단면적이 감소하는 역형상 패턴이 남도록 하는 역형상 패턴 형성단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 패턴 제작 방법
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제1항에 있어서, 상기 폴리머 레진 도포단계에서, 상기 폴리머 레진은 드롭(Drop) 방식 또는 스핀 코팅 방식으로 상기 제1기판상에 도포되는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 패턴 제작 방법
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제1항에 있어서, 상기 기본패턴 형성단계에서, 상기 폴리머 레진은 상기 스탬프에 가압된 상태에서 고온 및 고압이 가해지는 열경화 방식 또는 자외선을 조사하는 UV 경화 방식에 의해 경화되는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 패턴 제작 방법
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제1항에 있어서, 상기 잔류층은 상기 폴리머 레진 중에 상기 제1패턴의 돌출 단부와 상기 제1기판의 사이에 개재된 부분이 경화되어 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 패턴 제작 방법
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제1항에 있어서, 상기 전사단계에서, 상기 제2기판의 일면에는 점착층이 마련되고,상기 제1기판과 상기 제2패턴부 사이의 제1점착력보다 상기 점착층과 상기 제2패턴부 사이의 제2점착력이 더 큰 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 패턴 제작 방법
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제5항에 있어서,상기 점착층은 상기 제2패턴부에 밀착 시에 상기 제2점착력을 발생하도록 상기 제2기판에 부착되는 점착필름인 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 패턴 제작 방법
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제5항에 있어서,상기 점착층은 상기 제2패턴부에 밀착 시에 상기 제2점착력을 발생하도록 상기 제2기판의 일면에 도포된 점착물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 패턴 제작 방법
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제5항에 있어서,상기 점착층은 상기 제2패턴부에 밀착 시에 상기 제2점착력을 발생하도록 상기 제2기판의 일면이 표면처리되어 형성되는 표면처리층인 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 패턴 제작 방법
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제8항에 있어서, 상기 표면처리는 프라이머(Primer) 처리 및 플라즈마 처리 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 패턴 제작 방법
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10
제1항에 있어서, 상기 역형상 패턴 형성단계에서, 상기 잔류층은 UV 레이저에 의해 제거되는 것을 특징으로 하는 나노 임프린팅 패턴 제작 방법
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제1항 내지 제10항 중 어느 하나의 방법에 의해 제작되는 나노 임프린팅 패턴
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