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(a) 원자층 증착법(ALD)에 따라 담지 촉매에 전구체를 주입하여, 촉매 표면에 상기 전구체를 증착시키는 단계;(b) 유지(maintenance)하는 단계;(c) 퍼지(purge)하는 단계;(d) 상기 담지 촉매에 산화제를 주입하여, 촉매 표면에 증착된 전구체와 반응시켜 촉매 표면에 무기막을 증착시키는 단계;(e) 유지(maintenance)하는 단계; 및 (f) 퍼지(purge)하는 단계;를 포함하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (a) 단계의 촉매는 백금(Pt), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd), 로듐(Rh) 및 루테늄(Ru)에서 선택되는 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (a) 단계의 담지는 알루미나, 실리카, 제올라이트, 티타니아, 지르코니아 및 탄소에서 선택되는 적어도 어느 하나를 담체로 제공하는 것을 특징으로 하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (a) 단계의 전구체는 알루미나(Al2O3), 티타니아(TiO2), 지르코니아(ZrO2), 징크 옥사이드(ZnO2), 갈륨 옥사이드(GaO2) 및 세리아(CeO2)에서 선택되는 적어도 어느 하나를 형성할 수 있는 전구체인 것을 특징으로 하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (d) 단계의 산화제는 초순수정제수, 알코올, 오존, 아산화질소, 산소에서 선택되는 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (d) 단계의 무기막은 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 징크 옥사이드, 갈륨 옥사이드 및 세리아에서 선택되는 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (a) 및 (d) 단계의 주입은 주입 시간이 0
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제1항에 있어서, 상기 (a) 및 (d) 단계의 주입은 불활성 가스를 운반 기체로 주입하여 진행하는 것을 특징으로 하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (a) 및 (d) 단계의 주입은 불활성 가스를 운반 기체로 주입하여 진행하는 것을 특징으로 하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 및 (e) 단계의 유지(maintenance)는 50℃ 내지 300℃의 온도에서 진행되는 것을 특징으로 하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 및 (e) 단계의 유지(maintenance)는 1 내지 10 torr의 압력에서 진행되는 것을 특징으로 하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 및 (e) 단계의 유지(maintenance)는 닫힌 공간에서 진행되는 것을 특징으로 하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (c) 및 (f) 단계의 퍼지(purge)는 불활성 가스를 주입하여 진행하는 것을 특징으로 하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (c) 및 (f) 단계의 퍼지(purge)는 0
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제1항에 있어서, 상기 제조방법은 1 내지 10 사이클 진행하여 원자층을 증착하는 것을 특징으로 하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법
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제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 따라 제조된 무기막이 증착된 금속 촉매
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제16항에 있어서,상기 무기막의 두께는 0
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