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정렬된 3차원 네트워크 형상을 갖는 3차원 다공성 고분자 지지부; 상기 3차원 다공성 고분자 지지부의 기공 내에 형성되어, 상기 3차원 다공성 고분자 지지부의 표면을 커버하는 세라믹 박막; 및 상기 기공 내에 충진되어, 상기 세라믹 박막과 결합된 상기 3차원 다공성 고분자 지지부의 역상을 가지는 고분자 충진부를 포함하고,상기 3차원 다공성 고분자 지지부는 에폭시 수지, 페놀 수지 및 아크릴 수지로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 고분자-세라믹 나노 복합체
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제1항에 있어서, 상기 세라믹 박막은, 알루미늄 산화물, 아연 산화물, 인듐 산화물, 주석 산화물, 티타늄 산화물, 갈륨 산화물 및 하프늄 산화물으로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 고분자-세라믹 나노 복합체
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제3항에 있어서, 상기 세라믹 박막의 두께는, 1 nm 내지 70 nm인 것을 특징으로 하는 3차원 고분자-세라믹 나노 복합체
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제1항에 있어서, 상기 세라믹 박막의 부피 분율은, 1% 내지 20%인 것을 특징으로 하는 3차원 고분자-세라믹 나노 복합체
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제5항에 있어서, 상기 세라믹 박막의 부피 분율은, 5% 내지 10%인 것을 특징으로 하는 3차원 고분자-세라믹 나노 복합체
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제1항에 있어서, 체심 정방(body-centered tertragonal) 격자 구조 또는 면심 입방(face-centered cubic) 격자 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 3차원 고분자-세라믹 나노 복합체
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기판 위에, 정렬된 3차원 네트워크 형상을 갖는 3차원 다공성 고분자 지지부를 형성하는 단계;상기 3차원 다공성 고분자 지지부의 기공 내에, 상기 3차원 다공성 고분자 지지부를 커버하는 세라믹 박막을 형성하는 단계; 및상기 3차원 다공성 고분자 지지부의 기공 내에, 고분자 충진부를 형성하는 단계를 포함하는 3차원 고분자-세라믹 나노 복합체의 제조 방법
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제8항에 있어서, 상기 3차원 다공성 고분자 지지부를 형성하는 단계는, 상기 기판 위에 포토레지스트 막을 형성하는 단계; 및상기 포토레지스트 막을 근접장 나노 패터닝에 의해 패터닝에 의해 패터닝하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 고분자-세라믹 나노 복합체의 제조 방법
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제8항에 있어서, 상기 세라믹 박막은, 원자층 증착에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 복합체의 제조 방법
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제10항에 있어서, 상기 세라믹 박막을 형성하는 단계는,금속 전구체를 제공하는 단계;상기 금속 전구체를 퍼지하는 단계;반응 가스를 제공하는 단계; 및상기 반응 가스를 퍼지하는 단계를 적어도 1회 이상 수행하는 것을 특징으로 하는 3차원 고분자-세라믹 나노 복합체의 제조 방법
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제8항에 있어서, 상기 세라믹 박막의 부피 분율은, 5% 내지 10%인 것을 특징으로 하는 3차원 고분자-세라믹 나노 복합체의 제조 방법
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