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(a) 스텐트를 준비하는 단계;(b) 상기 스텐트 표면에 3차원 나노 구조 필름을 형성하는 단계; 및(c) 상기 3차원 나노 구조 필름의 표면을 개질하는 단계;를 포함하는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (b) 단계는,(b1) 스텐트가 담지된 반응조에 이온성 계면활성제와 보조 스페이서(spacer)를 첨가하여 교반 및 가열하는 단계;(b2) 세라믹 전구체 용액을 반응조에 첨가하여 교반 및 가열하는 단계; 및(b3) 스텐트를 세척하여 잔류 물질을 제거하는 단계;를 포함하는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 이온성 계면활성제는 양이온성 또는 음이온성을 가지며, 상기 보조 스페이서는 상기 이온성 계면활성제와 반대 이온을 가지는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 (b1) 단계에서,상기 이온성 계면활성제와 보조 스페이서가 자기 조립(self-assembly)하여 상기 스텐트 표면에 마이셸(micelle) 구조를 형성하는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 (b2) 단계에서,상기 스텐트 표면에 세라믹 전구체가 적층되는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 스텐트는,합금, 생분해성 폴리머 및 비분해성 폴리머로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 재료로 형성되는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 합금으로는 스테인리스 스틸(Stainless steel), 코발트-크롬(Cobalt-Chromium), 니켈 티타늄(Nickel-Titauim) 및 플래티늄-크로뮴(Platinium-Chromium)로 이루어진 그룹에서 선택된 1종 이상을 사용하고, 상기 생분해성 폴리머로는 PLA(Polylacticacid), PGA(Polyglycolide), PCL(Polycaprolactone), PEG(Polyethyleneglycol) 및 PLGA(Polylactic-co-glycolicacid)로 이루어진 그룹에서 선택된 1종 이상을 사용하고, 상기 비분해성 폴리머로는 PTFE(Polytetrafluoroethylene), PVA(Polyvinylalcohol), PU(Polyurethane) 및 PET(Polyethylene terephthalate)로 이루어진 그룹에서 선택된 1종 이상을 사용하는, 약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 세라믹 전구체 용액은,실리카 전구체 용액 또는 금속 산화물 전구체 용액인,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 8 항에 있어서,상기 실리카 전구체 용액은,테트라에톡시 오소실리케이트(Tetraethyl orthosilicate; TEOS), 테트라프로필 오소실리케이트(Tetramethyl orthosilicate; TPOS), 테트라부틸 오소실리케이트(Tetrapropyl orthosilicate; TBOS), 테트라메틸 오소실리케이트(Tetrabutyl orthosilicate; TMOS), 테트라메톡시 비닐실란(Tetramethoxyvinylsilane; TMVS), 테트라키스(2-하이드록시에틸) 오소실리케이트(Tetrakis(2-hydroxyethyl) orthosilicate; THEOS) 및 규산 나트륨(Sodium metasilicate) 으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 (b2) 단계는,40 내지 95 ℃의 온도 범위에서 수행되는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 이온성 계면활성제는,염화 세트리모늄(Cetyltrimethylammonium chloride; CTAC), 세트리모늄브로마이드(Cetyltrimethylammonium bromide; CTAB), 도데실트리메틸암모늄브로마이드(Dodecyltrimethylammonium bromide; DTAB), 테트라데실트리메틸암모늄브로마이드(Tetradecyltrimethylammonium bromide; TTAB 로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 양이온성 계면활성제 또는 도데실 황산 나트륨(Sodium dodecyl sulphate; SDS) 또는 도데실벤젠설폰산나트륨(Sodium dodecyl benzene sulfonate; SDBS)인 음이온성 계면활성제가 사용되는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 11 항에 있어서, 양이온성 계면활성제가 사용되는 경우, 상기 보조 스페이서(spacer)는 살리실산 나트륨(Sodium salicylate), 벤조산나트륨(Sodium benzoate), 신남산나트륨(Sodium cinnamate), 살리실산(Salicylic acid), 벤조산(Benzoic acid), 신남산(Cinnamic acid), 메톡시벤조산나트륨(Sodium methoxybenzoate), 메톡시벤조산(Methoxybenzoic acid), 비닐벤조산나트륨(Sodium vinylbenzoate), 비닐벤조산(Vinylbenzoic acid), 파라-톨루엔설폰산나트륨(Sodium p-toluenesulfonate)으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상이 사용되는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c) 단계는,(c1) 3차원 나노 구조 필름이 형성된 스텐트가 담지된 반응조에 표면 개질 화합물을 첨가하여 교반 및 가열하는 단계; 및(c2) 상기 스텐트를 세척하여 잔류 물질을 제거하는 단계;를 포함하는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 표면 개질 화합물은,실란 커플링제를 사용하는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c) 단계 이후에,(d) 3차원 나노 구조 필름 표면에 약물을 코팅하는 단계;를 더 포함하는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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제 15 항에 있어서, 상기 코팅 단계는, 딥 코팅(Dip coating), 스핀 코팅(Spin coating), 초음파 코팅(Ultrasonic spray coating), 전기방사 코팅(Electrospray coating) 및 증기증착법(Vapor deposition coating)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 방법에 의해 수행되는,약물 방출용 스텐트의 제조방법
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스텐트; 및상기 스텐트 표면에 형성된 3차원 나노 구조 필름;을 포함하고,상기 3차원 나노 구조 필름의 표면에, 시롤리무스(sirolimus), 에버롤리무스(everolimus), 바이오리무스(biolimus), 조타롤리무스(Zotarolimus), 파클리탁셀(paclitaxel), 젬시타빈(Gemcitabine) 및 헤파린(Heparin)으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 약물이 코팅 가능한,약물 방출용 스텐트
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제 17 항에 있어서,상기 스텐트 및 상기 3차원 나노 구조 필름은 교대로 적층된 것인,약물 방출용 스텐트
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제 17 항에 있어서,상기 3차원 나노 구조 필름은, 표면이 소수성인,약물 방출용 스텐트
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혈관용 스텐트; 및상기 혈관용 스텐트 표면에 형성된 3차원 나노 구조 필름;을 포함하는,약물 방출용 스텐트
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비혈관용 스텐트; 및상기 비혈관용 스텐트 표면에 형성된 3차원 나노 구조 필름;을 포함하는,약물 방출용 스텐트
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