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기판 상에 기반 재료 및 액상의 희생용매가 혼합된 베이스 용액을 제공하는 단계; 상기 베이스 용액 상에 표면 개질 용액을 제공하는 단계; 및 상기 베이스 용액 및 상기 표면 개질 용액이 제공된 상기 기판 상에 극초단파를 인가하여, 상기 희생용매의 기화에 의하여 상기 기반 재료 내에 기공(hole)을 형성시키고, 상기 기반 재료를 소정의 형상으로 경화시키며, 상기 기반 재료의 표면을 개질시키는 단계를 포함하되,상기 기반 재료 내의 기공 형성, 상기 기반 재료의 경화, 및 상기 기반 재료의 표면 개질은 동시에 이루어지는, 개질된 표면을 가지는 다공성 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 베이스 용액 상에 상기 극초단파가 인가되는 경우, 상기 베이스 용액에서는 열이 발생되고, 상기 베이스 용액에서 발생된 열에 의해 상기 표면 개질 용액이 기화되는 것을 포함하는, 개질된 표면을 가지는 다공성 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 기반 재료는, PDMS(polydimethylsiloxane), 및 PU(polyurethane) 중 어느 하나인 것을 포함하는 개질된 표면을 가지는 다공성 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 희생용매는, 물, 불소, DMF(dimethylformamide), NMP(N-methyl-2-pyrrolidone), 및 Acetone 중 적어도 어느 하나인 것을 포함하는 개질된 표면을 가지는 다공성 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 표면 개질 용액은, 불소 용액 및 PTFE(Polytetrafluoroethylene) 용액 중 어느 하나인 것을 포함하는 개질된 표면을 가지는 다공성 구조체의 제조 방법
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베이스 기판 상에 기반 재료 및 액상의 희생용매가 혼합된 베이스 용액을 제공하는 단계; 상기 베이스 용액이 제공된 상기 베이스 기판 상에, 마스터 패턴을 포함하는 마스터 기판을 제공하는 단계; 및상기 베이스 용액 및 상기 마스터 기판이 제공된 상기 베이스 기판 상에 극초단파를 인가하여, 상기 희생용매의 기화에 의하여 상기 기반 재료 내에 기공(hole)을 형성시키는 동시에, 상기 기반 재료가 소정의 형상으로 경화된 경화 패턴을 형성시키는 단계를 포함하되, 상기 경화 패턴은 상기 마스터 패턴의 역상을 갖는, 경화 패턴을 가지는 다공성 구조체의 제조 방법
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제7 항에 있어서, 상기 기반 재료가 상기 극초단파에 의하여 경화되는 정도는, 상기 마스터 기판이 상기 극초단파에 의하여 경화되는 정도보다 큰 것을 포함하는 경화 패턴을 가지는 다공성 구조체의 제조 방법
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제7 항에 있어서, 상기 경화 패턴이 형성된 이후, 상기 마스터 패턴을 제거하는 단계를 더 포함하는 경화 패턴을 가지는 다공성 구조체의 제조 방법
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