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챔버;상기 챔버 내부에 배치되어 공정가스를 분사하는 샤워헤드;상기 샤워헤드에 상기 공정가스를 공급하는 가스공급부;상기 챔버 내부에 배치되어 기판을 지지하는 기판지지부;를 포함하고,상기 샤워헤드는 표시부 상에 알루미늄, 아연, 지르코늄 및 하프늄 중 적어도 2개 이상으로 형성된 복합산화물을 포함하는 무기층을 형성하는 표시 장치의 제조장치
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제 1 항에 있어서,상기 샤워헤드는,제1 분사부;상기 제1 분사부와 인접하게 배치되는 제2 분사부;를 포함하고,상기 제1 분사부와 상기 제2 분사부에서는 서로 상이한 상기 공정가스가 분사되는 표시 장치의 제조장치
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제 2 항에 있어서,상기 제1 분사부와 상기 제2 분사부는 상기 공정가스를 동시에 분사하는 표시 장치의 제조장치
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제 2 항에 있어서, 상기 제1 분사부와 상기 제2 분사부는 상기 공정가스를 순차적으로 분사하는 표시 장치의 제조장치
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제 1 항에 있어서, 상기 가스공급부는,상기 공정가스 중 일부를 상기 샤워헤드로 공급하는 제1 가스공급부; 및상기 제1 가스공급부와 독립적으로 형성되어 상기 제1 가스공급부와 상이한 상기 공정가스 중 일부를 상기 샤워헤드에 공급하는 제2 가스공급부;를 포함하는 표시 장치의 제조장치
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제 5 항에 있어서,상기 제2 가스공급부는 상기 제1 가스공급부와 연결되며, 상기 공정가스는 혼합되어 상기 샤워헤드로 공급되는 표시 장치의 제조장치
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제 1 항에 있어서,상기 기판지지부는 상기 샤워헤드에 대향하도록 배치되어 상기 샤워헤드와 상대 운동을 수행하는 표시 장치의 제조장치
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표시부가 형성된 기판을 챔버 내부로 로딩하는 단계; 및공정가스를 외부로 공급받아 원자층성장공정으로 상기 표시부 상에 무기층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 무기층은 알루미늄, 아연, 지르코늄 및 하프늄 중 적어도 2개 이상으로 형성된 복합산화물을 포함하는 표시 장치의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 공정가스를 외부로 공급받아 원자층성장공정으로 상기 표시부 상에 무기층을 형성하는 단계는,상기 복합산화물을 포함하는 제1 서브무기층을 형성하는 단계; 및상기 제1 서브무기층과 상이한 상기 복합산화물을 포함하는 제2 서브무기층을 형성하는 단계;를 포함하는 표시 장치의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 공정가스를 외부로 공급받아 원자층성장공정으로 상기 표시부 상에 무기층을 형성하는 단계는,상기 복합산화물을 포함하는 제1 서브무기층을 형성하는 단계; 및금속 질화물 또는 금속 산화물 중 하나를 포함하는 제2 서브무기층을 형성하는 단계;를 포함하는 표시 장치의 제조방법
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제 8 항에 있어서,상기 무기층은 비결정 형태인 표시 장치의 제조방법
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제 8 항에 있어서,상기 무기층은 10nm이하인 표시 장치의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 기판은 폴리이미드로 형성된 표시 장치의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 무기층에 유기층을 적층시키는 단계;를 더 포함하는 표시 장치의 제조방법
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제 8 항에 있어서,상기 무기층은 서로 상이한 물질의 다층으로 형성된 표시 장치의 제조방법
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표시부가 형성된 기판을 챔버 내부로 로딩하는 단계; 및공정가스를 외부로 공급받아 원자층성장공정으로 상기 표시부 상에 무기층을 형성하는 단계;를 포함하고,공정가스를 외부로 공급받아 원자층성장공정으로 상기 표시부 상에 무기층을 형성하는 단계는,상기 표시부 상에 알루미늄산화물, 아연산화물, 지르코늄산화물 또는 하프늄산화물 중 하나를 포함하는 제1 서브무기층을 형성하는 단계;상기 제1 서브무기층에 알루미늄산화물, 아연산화물, 지르코늄산화물 또는 하프늄산화물 중 다른 하나를 포함하는 제2 서브무기층을 적층하는 단계;를 포함하는 표시 장치의 제조방법
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