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폴리벤즈이미다졸 또는 이의 유도체 기반의 고분자 주쇄를 포함하고,상기 고분자 주쇄에 포함된 -NH- 그룹의 1 내지 90%는 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄로 치환되며,상기 고분자 주쇄에 포함된 -NH- 그룹 중 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄로 치환되지 않은 잔여 -NH- 그룹의 50% 이상이 O, N, P 또는 S의 헤테로원소를 포함하지 않는 탄화수소사슬로 치환된, 고분자
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제1항에 있어서,상기 고분자는 음이온 전도성 고분자인 것인, 고분자
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제1항에 있어서,상기 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄는 비치환 또는 치환된 이미다졸리움 또는 4차 암모늄 그룹을 하나 이상 포함하는 것인, 고분자
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제3항에 있어서,상기 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄는 하나 이상의 이미다졸리움, 4차 암모늄, 또는 이들의 조합이 직접; 또는 C1-6 알킬 또는 C6-10 아릴-C1-4 알킬로; 연결된 사슬인 것인, 고분자
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제1항에 있어서,상기 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄는 일말단 또는 양말단에 치환된, 분자내 또는 분자간 교차결합 가능한 할로겐 원소를 포함하는 것인, 고분자
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6
제1항에 있어서,상기 탄화수소사슬은 C1-6 알킬 또는 C6-10 아릴-C1-4 알킬인 것인, 고분자
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7
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 고분자를 포함하는 멤브레인
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제7항에 있어서,상기 멤브레인은 음이온 전도성인 것인, 멤브레인
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9
폴리벤즈이미다졸 또는 이의 유도체 기반의 고분자에서 상기 고분자 주쇄에 포함된 -NH- 그룹에 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄 또는 O, N, P 또는 S의 헤테로원소를 포함하지 않는 탄화수소사슬을 도입하는 제1단계; 및상기 고분자 주쇄에 포함된 -NH- 그룹 중 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄 또는 O, N, P 또는 S의 헤테로원소를 포함하지 않는 탄화수소사슬로 치환되지 않은 잔여 -NH- 그룹에 각각 O, N, P 또는 S의 헤테로원소를 포함하지 않는 탄화수소사슬 또는 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄를 도입하는 제2단계;를 포함하는,제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 고분자의 제조방법
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10
제9항에 있어서,폴리벤즈이미다졸 또는 이의 유도체 기반의 고분자에서 상기 고분자 주쇄에 포함된 -NH- 그룹에 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄를 도입하는 제1'단계; 및상기 고분자 주쇄에 포함된 -NH- 그룹 중 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄로 치환되지 않은 잔여 -NH- 그룹에 O, N, P 또는 S의 헤테로원소를 포함하지 않는 탄화수소사슬을 도입하는 제2'단계;를 포함하는 것인, 제조방법
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11
제10항에 있어서,제2'단계에 의해 잔여 -NH- 그룹의 50% 이상에 O, N, P 또는 S의 헤테로원소를 포함하지 않는 탄화수소사슬이 도입되는 것인, 제조방법
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12
제9항에 있어서,고분자 주쇄에 포함된 -NH- 그룹에 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄의 도입은 폴리벤즈이미다졸 또는 이의 유도체 기반의 고분자와 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄의 일말단 또는 양말단에 반응성 할라이드가 치환된 화합물을 반응시켜 수행하는 것인, 제조방법
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13
제12항에 있어서,고분자 주쇄에 포함된 -NH- 그룹에 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄의 도입은 유기 용매에 용해시킨 용액 상태로 50 내지 140℃의 온도에서 반응시키는 것인, 제조방법
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14
제12항에 있어서,상기 양이온성 그룹을 포함하는 측쇄의 일말단 또는 양말단에 반응성 할라이드가 치환된 화합물은 하나 이상의 이미다졸, 2차 아민, 또는 이들의 조합을 디할로-C1-6 알칸, 또는 디할로(C6-10 아릴-C1-6 알칸)과 반응시켜 준비한 단량체 또는 올리고머인 것인, 제조방법
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제10항에 있어서,상기 제2'단계는 제1'단계로부터 수득한 고분자를 이의 건조중량을 기준으로 1당량 이상의 O, N, P 또는 S의 헤테로원소를 포함하지 않는, 할로겐화 탄화수소 화합물과 염기성 조건 하에 반응시켜 수행하는 것인, 제조방법
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제7항의 멤브레인을 구비한 전기화학 시스템
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제16항에 있어서,상기 전기화학 시스템은 전해조(electrolyzers), 연료전지(fuel cells), 또는 배터리(batteries)인 것인, 전기화학 시스템
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