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(a) 기판상에 자기조립 분자막을 형성하는 단계;(b) 자기조립 분자막이 형성된 기판상에 유기 박막을 증착하는 단계;(c) 기판상에 증착된 자기조립 분자막을 에칭시켜 제거하는 단계;(d) 기판상에 금속산화물 박막 증착 및 유기 박막을 하이브리드 박막으로 변환하는 단계;(e) 금속산화물 박막과 하이브리드 박막이 교차 배열된 패턴 박막 상에 유기 박막을 증착하는 단계; 및(f) 상기 (a) ~ (e) 과정의 반복을 통해 패턴 박막을 다층 구조로 적층하여 브릭 앤 몰탈 구조 박막을 형성하는 단계;를 포함하는 패턴 박막 적층 기반 브릭 앤 몰탈 구조 유무기 박막을 제조하는 방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계는,PDMS 스탬프의 돌출부를 OTS 용액에 일정 시간 침지시킨 후, 질소 조건에서 건조 후 기판 상에 스탬프의 돌출부를 접촉시켜 패터닝하는 것을 특징으로 하는 패턴 박막 적층 기반 브릭 앤 몰탈 구조 유무기 박막을 제조하는 방법
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제2항에 있어서,상기 PDMS 스탬프의 돌출부를 이용한 자기조립 분자막의 패터닝 단계 이전에 O2 플라즈마 처리를 이용하여 기판 표면의 개질을 행하는 것을 특징으로 하는 패턴 박막 적층 기반 브릭 앤 몰탈 구조 유무기 박막을 제조하는 방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계는,자기조립 분자막이 패터닝된 기판을 톨루엔과 이소프로필알콜(isopropyl alcohol)을 이용하여 세척한 후 질소 조건에서 건조시키는 단계;건조 후, 기판을 진공 챔버 내부에 로딩하는 단계;상기 진공 챔버 내부 압력은 0
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제4항에 있어서,상기 기판 상에 유기 박막을 증착하는 단계는,분자층 증착법에 따라, 제1 전구체와 제2 전구체를 교차로 챔버 내부로 투입시키고, 각 전구체 투입 시간 사이에 챔버 내부를 질소 가스로 퍼징시키는 제1 전구체 투입 - 질소 가스 퍼징 - 제2 전구체 투입 - 질소 가스 퍼징의 순환단계를 1 사이클로 진행하는 것을 특징으로 하는 패턴 박막 적층 기반 브릭 앤 몰탈 구조 유무기 박막을 제조하는 방법
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제5항에 있어서,상기 제1 전구체는, 챔버 내부로 투입 시, 자기조립 분자막이 증착되지 않은 기판 표면의 하이드록실기와 반응하여 기판 표면에 흡착되어 제1 흡착층을 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴 박막 적층 기반 브릭 앤 몰탈 구조 유무기 박막을 제조하는 방법
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제5항에 있어서,상기 제2 전구체는 챔버 내부로 투입 시, 기판상의 제1 흡착층과 반응하여 유기 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴 박막 적층 기반 브릭 앤 몰탈 구조 유무기 박막을 제조하는 방법
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제5항에 있어서,상기 1사이클을 반복하여 수행함으로써, 유기 박막의 두께를 조절하되, 1 사이클 당 증착되는 유기 박막의 두께는 1 ~ 50 nm로 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴 박막 적층 기반 브릭 앤 몰탈 구조 유무기 박막을 제조하는 방법
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제1항에 있어서,상기 (d) 단계는,유기 박막이 증착되지 않은 기판 표면 상에 금속산화물 박막이 형성되도록 하는 동시에 이미 형성된 유기 박막을 하이브리드 박막으로 변환하되,원자층 증착법에 따라, 제1 전구체와 제2 전구체를 교차로 챔버 내부로 투입시키고, 각 전구체 투입 시간 사이에 챔버 내부를 질소 가스로 퍼징시키는 제1 전구체 투입 - 질소 가스 퍼징 - 제2 전구체 투입 - 질소 가스 퍼징의 순환단계를 1 사이클로 진행하는 것을 특징으로 하는 패턴 박막 적층 기반 브릭 앤 몰탈 구조 유무기 박막을 제조하는 방법
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제9항에 있어서,상기 제1 전구체는 챔버 내부로 투입 시, 자기조립 분자막이 패터닝 된 기 판 표면의 하이드록실기와 반응하여 기판 표면에 흡착되어, 제1 흡착층을 형성하는 동시에 유기 박막 내부로 확산되어 유기 박막 내부에서 제1 흡착층을 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴 박막 적층 기반 브릭 앤 몰탈 구조 유무기 박막을 제조하는 방법
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제9항에 있어서,상기 제2 전구체는 수증기(H2O)를 사용하며, 제1 흡착층과 반응하여 금속산화물 박막을 형성하고, 유기 박막 내부에서 생성된 제1 흡착층과 반응하여, 유기 박막을 금속 산화물 박막과 유기 박막이 혼합된 하이브리드 박막으로 변환하는 것을 특징으로 하는 패턴 박막 적층 기반 브릭 앤 몰탈 구조 유무기 박막을 제조하는 방법
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제1항에 있어서,상기 패턴 박막은, 금속산화물 박막의 종횡비는 10 ~ 100의 값이 되도록 하고, 금속산화물 박막의 너비는 하이브리드 박막의 10 ~ 100 배의 값이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 패턴 박막 적층 기반 브릭 앤 몰탈 구조 유무기 박막을 제조하는 방법
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제1항에 있어서,상기 (f) 단계에서 브릭 앤 몰탈 구조 박막은 금속 산화물 박막과 하이브리드 박막이 횡방향으로 교차 배열되어 패턴 박막을 형성하고, 패턴 박막과 유기 박막이 깊이 방향으로 교차 배열되어 다층 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 패턴 박막 적층 기반 브릭 앤 몰탈 구조 유무기 박막을 제조하는 방법
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제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 의한 방법으로 제조된 패턴 박막 적층 기반 브릭 앤 몰탈 구조 유무기 박막
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