맞춤기술찾기

이전대상기술

굽힘 각도의 조절이 가능한 정전용량형 미세가공 초음파 트랜스듀서 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2022019518
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 굽힘 각도의 조절이 가능한 정전용량형 미세가공 초음파 트랜스듀서 및 이의 제조 방법이 개시된다. 일 실시예 따른 초음파 트랜스듀서는, 기판과 상기 기판의 상부에 각각이 이격되어 적층된 복수의 트랜스듀서 엘리먼트와 상기 복수의 트랜스듀서 엘리먼트 사이에 위치하고 상기 기판을 통과하도록 형성되는 스트레처블 힌지와 상기 기판의 하부를 덮도록 형성되는 제1 폴리머층과 상기 제1 폴리머층의 하부에 형성된 액츄에이터층을 포함할 수 있다.
Int. CL B06B 1/02 (2006.01.01) A61B 8/00 (2006.01.01) A61N 7/02 (2006.01.01)
CPC B06B 1/0292(2013.01) B06B 1/0207(2013.01) A61B 8/4494(2013.01) A61N 7/02(2013.01) H01B 13/0036(2013.01) H01B 3/42(2013.01) B06B 2201/76(2013.01)
출원번호/일자 1020210139283 (2021.10.19)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-2452984-0000 (2022.10.05)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20221012) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.10.19)
심사청구항수 20

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이현주 대전광역시 유성구
2 이상목 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.10.19 수리 (Accepted) 1-1-2021-1195341-12
2 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2022.01.03 수리 (Accepted) 1-1-2022-0002356-37
3 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2022.01.27 수리 (Accepted) 1-1-2022-0104051-87
4 [우선심사신청]심사청구서·우선심사신청서
2022.04.25 수리 (Accepted) 1-1-2022-0442150-37
5 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2022.04.29 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2022.05.02 수리 (Accepted) 9-1-2022-0006179-09
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2022.06.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0463114-87
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2022.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2022-0668131-14
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2022.06.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2022-0668130-68
10 등록결정서
Decision to grant
2022.07.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0503954-39
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판;상기 기판의 상부에 각각이 이격되어 적층된 복수의 트랜스듀서 엘리먼트;상기 복수의 트랜스듀서 엘리먼트 사이에 위치하고 상기 기판을 통과하도록 형성되는 스트레처블 힌지;상기 기판의 하부를 덮도록 형성되는 제1 폴리머층; 및상기 제1 폴리머층의 하부에 형성된 액츄에이터층을 포함하는, 초음파 트랜스듀서
2 2
제1항에 있어서,상기 스트레처블 힌지는,인접한 트랜스듀서 엘리먼트들 사이에 형성된 이격 공간 상에 위치하는 제2 폴리머층; 및상기 제2 폴리머층의 하부로부터 연장되어 상기 기판을 통과하는 액체 금속층을 포함하는, 초음파 트랜스듀서
3 3
제1항에 있어서,상기 액츄에이터층은,상기 제1 폴리머층의 하부에 형성된 절연층;상기 절연층의 하부에 형성된 제1 전극층;상기 제1 전극층의 하부에 형성된 유전 탄성체; 및상기 유전 탄성체의 하부에 형성된 제2 전극층을 포함하는, 초음파 트랜스듀서
4 4
제1항에 있어서,상기 제1 폴리머층은,폴리다이메틸실록산(Polydimethylsiloxane)을 포함하는,초음파 트랜스듀서
5 5
제2항에 있어서,상기 제2 폴리머층은,폴리이미드(Polyimide)를 포함하는,초음파 트랜스듀서
6 6
제2항에 있어서,상기 액체 금속층은,비스무트-납-인듐-주석-카드뮴 가융 합금(Bi-Pb-In-Sn-Cd fusible alloy)을 포함하는,초음파 트랜스듀서
7 7
제2항에 있어서상기 액체 금속층은,상기 기판에 인가된 전압에 의해 발생되는 열에 기초하여 고체에서 액체로 상전이 되는 것인,초음파 트랜스듀서
8 8
제3항에 있어서,상기 유전 탄성체는,상기 스트레처블 힌지에 포함된 가융 합금이 액체 상태인 경우 상기 제1 전극층 및 상기 제2 전극층에 인가된 전압에 의해 구부러지는,초음파 트랜스듀서
9 9
기판을 형성하는 동작;상기 기판의 상부에 복수의 트랜스듀서 엘리먼트를 각각이 이격하여 적층하는 동작;상기 복수의 트랜스듀서 엘리먼트 사이에 위치하고 상기 기판을 통과하도록 스트레처블 힌지를 형성하는 동작;상기 기판의 하부를 덮도록 제1 폴리머층을 형성하는 동작; 및상기 제1 폴리머층의 하부에 액츄에이터층을 형성하는 동작을 포함하는, 초음파 트랜스듀서 제조 방법
10 10
제9항에 있어서,상기 스트레처블 힌지를 생성하는 동작은,인접한 트랜스듀서 엘리먼트들 사이에 형성된 이격 공간 상에 위치하는 제2 폴리머층을 형성하는 동작; 및상기 제2 폴리머층의 하부로부터 연장되어 상기 기판을 통과하는 액체 금속층을 형성하는 동작을 포함하는, 초음파 트랜스듀서 제조 방법
11 11
제10항에 있어서,상기 제2 폴리머층을 형성하는 동작은,상기 기판 및 상기 복수의 트랜스듀서 엘리먼트 위에 폴리머 물질을 적층하는 동작; 및상기 폴리머 물질을 패터닝함으로써 제2 폴리머층을 형성하는 동작을 포함하는, 초음파 트랜스듀서 제조 방법
12 12
제11항에 있어서,상기 액체 금속층을 형성하는 동작은,상기 제2 폴리머층의 하부에 위치한 기판을 식각함으로써 트랜치를 형성하는 동작; 및상기 트랜치에 액체 금속을 채움으로써 액체 금속층을 형성하는 동작을 포함하는, 초음파 트랜스듀서 제조 방법
13 13
제9항에 있어서,상기 액츄에이터층을 형성하는 동작은,상기 제1 폴리머층의 하부에 절연층을 형성하는 동작;상기 절연층의 하부에 제1 전극층을 형성하는 동작;상기 제1 전극층의 하부에 유전 탄성체를 형성하는 동작; 및상기 유전 탄성체의 하부에 제2 전극층을 형성하는 동작을 포함하는, 초음파 트랜스듀서 제조 방법
14 14
제9항에 있어서,상기 제1 폴리머층은,폴리다이메틸실록산(Polydimethylsiloxane)을 포함하는,초음파 트랜스듀서 제조 방법
15 15
제11항에 있어서,상기 폴리머 물질을 적층하는 동작은,스핀 코팅을 통해 폴리이미드(Polyimide)를 적층하는 동작을 포함하는, 초음파 트랜스듀서 제조 방법
16 16
제10항에 있어서,상기 액체 금속층은,비스무트-납-인듐-주석-카드뮴 가융 합금(Bi-Pb-In-Sn-Cd fusible alloy)을 포함하는,초음파 트랜스듀서 제조 방법
17 17
제10항에 있어서상기 액체 금속층은,상기 기판에 인가된 전압에 의해 발생되는 열에 기초하여 고체에서 액체로 상전이 되는 것인,초음파 트랜스듀서 제조 방법
18 18
제13항에 있어서,상기 유전 탄성체는,상기 스트레처블 힌지에 포함된 가융 합금이 액체 상태인 경우 상기 제1 전극층 및 상기 제2 전극층에 인가된 전압에 의해 구부러지는,초음파 트랜스듀서 제조 방법
19 19
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 초음파 트랜스듀서; 및상기 초음파 트랜스듀서를 제어하는 컨트롤러를 포함하는 초음파 트랜스듀서 시스템
20 20
제19항에 있어서,상기 컨트롤러는,상기 초음파 트랜스듀서에 포함된 스트레쳐블 힌지 및 상기 초음파 트랜스듀서에 포함된 액츄에이터층을 상기 초음파 트랜스듀서의 구동과 독립적으로 제어하는, 초음파 트랜스듀서 시스템
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국과학기술원 개인기초연구(과기정통부)(R&D) 혈류 기반 생체신호 측정을 위한 웨어러블 초소형 유연 초음파 어레이 및 피부 부착형 무선 패치 개발
2 과학기술정보통신부 한국과학기술원 범부처전주기의료기기연구개발사업(R&D) (참여1)차세대 인체 삽입 메디봇을 위한 저전압 구동 CMUT기반 링 타입 초음파 영상 센서 개발
3 과학기술정보통신부 한국과학기술원 차세대지능형반도체기술개발(R&D) 비침습 고정밀 초음파 뇌자극 시스템 개발 및 동물실험을 통한 검증
4 과학기술정보통신부 한국과학기술원 타기관 자체사업 뇌질환 극복을 위한 최소침습 인공지능 전자뇌 개발