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양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체 제조방법

  • 기술번호 : KST2014057182
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 에폭시 고분자 사슬에 양자점 표면 코팅 물질과 친화성이 있는 알킬기를 도입하여, 양자점 나노입자가 에폭시 고분자 매트릭스에 분산될 때 분산안정성을 증가시키고, 최종적으로는 양자점 나노입자의 형광 특성을 증가시킨 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체를 제조하는 방법 및 상기 방법으로 제조된 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체에 관한 것으로, 디스플레이(display), 엘이디(LED) 조명 등에서 사용되는 형광물질인 반도성 크리스탈 양자점 나노소재를 고분자 매트릭스에 안정하게 분산시키는데 유용하게 이용될 수 있다.
Int. CL C08K 3/10 (2006.01) B82Y 20/00 (2011.01) C08L 63/00 (2006.01) C08G 59/00 (2006.01)
CPC C08L 63/00(2013.01) C08L 63/00(2013.01) C08L 63/00(2013.01) C08L 63/00(2013.01)
출원번호/일자 1020110014825 (2011.02.19)
출원인 충남대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1223671-0000 (2013.01.11)
공개번호/일자 10-2012-0095486 (2012.08.29) 문서열기
공고번호/일자 (20130117) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.02.19)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임용택 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이은철 대한민국 서울특별시 송파구 법원로**길 **, A동 *층 ***호 (문정동, H비지니스파크)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.02.19 수리 (Accepted) 1-1-2011-0119815-12
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.05.31 수리 (Accepted) 4-1-2011-5108981-12
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.01.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.02.20 수리 (Accepted) 9-1-2012-0014531-65
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.08.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0495149-12
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.10.24 수리 (Accepted) 1-1-2012-0868664-16
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.10.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0868666-18
8 등록결정서
Decision to grant		 2013.01.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0020095-73
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.12.26 수리 (Accepted) 4-1-2013-5174286-48
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116888-44
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116889-90
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(1) 비스페놀 A형 에폭시 수지(Bisphenol A type epoxy resin), 노볼락형 에폭시 수지(novolac type epoxy resin), 수소화된 비스페놀 A 디글리시딜 에테르형 수지(hydrogenated Bisphenol A diglycidyl ether type resin), 비스페놀 A 측쇄형 디글리시딜 에테르 수지(Bisphenol A side chain type diglycidyl ether resin), 우레탄 변형 에폭시 수지(urethane-modified epoxy resin), 레조르신 디글리시딜 에테르 에폭시 수지(resorcin diglycidyl ether epoxy resin), 글리시딜 에테르형 에폭시 수지(glycidyl ester type epoxy resin), p-옥시벤조산 디글리시딜 에테르-에스테르 수지(p-oxybenzoic acid diglycidyl ether-ester resin), 지방족고리 에폭시 수지(alicyclic epoxy resins) 및 글리시딜아민 에폭시 수지(glycidylamine epoxy resins)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 에폭사이드(epoxide)를 포함하는 에폭시 올리고머; 혹은 디메틸아미노에틸 아크릴레이트(dimethylaminoethyl acrylate), 디에틸아미노에틸 아크릴레이트(diethylaminoethyl acrylate), 2-하이드록시에틸 아크릴레이트(2-hydroxyethyl acrylate), 2-하이드록시프로필 아크릴레이트(2-hydroxypropyl acrylate), 아크릴로일에틸 하이드로겐 프탈레이트(acryloyloxyethyl hydrogen phthalate), β-하이드록시에틸-β'-아크릴로일옥시에틸 프탈레이트(β-hydroxyethyl-β'-acryloyloxyethyl phthalate), 2-하이드록시에틸 아크릴로일 포스페이트(2-hydroxyethyl acryloyl phosphate), 테트라하이드로푸르푸릴 아크릴레이트(tetrahydrofurfuryl acrylate), 벤질 아크릴레이트(benzyl acrylate), 페녹시에틸 아크릴레이트(phenoxyethyl acrylate), 메톡시에틸 아크릴레이트(methoxyethyl acrylate), 에톡시에틸 아크릴레이트(ethoxyethyl acrylate), 부톡시에틸 아크릴레이트(butoxyethyl acrylate), 메톡시에톡시에틸 아크릴레이트(methoxyethoxyethyl acrylate), 스테아릴 아크릴레이트(stearyl acrylate), 라우릴 아크릴레이트(lauryl acrylate), 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트(ethylene glycol diacrylate), 디에틸렌 글리콜 디아크릴레이트(diethylene glycol diacrylate), 트리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트(triethylene glycol diacrylate), 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(1,6-hexanediol diacrylate), 글리세린 트리아크릴레이트(glycerin triacrylate), 디-펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(di-pentaerythritol hexaacrylate), 트리메틸롤프로판 트리아크릴레이트(trimethylolpropane triacrylate), 비스-(옥시에틸렌화된) 비스페놀 A 디아크릴레이트(bis-(oxyethylenated) Bisphenol A diacrylate), 페닐 글리시딜 에테르 아크릴레이트(phenyl glycidyl ether acrylate), 에틸렌 글리콜 글리시딜 에테르 아크릴레이트(ethylene glycol glydidyl ether acrylate), 프로판-1,2-디올 글리시딜 에테르 아크릴레이트(propane-1,2-diol glycidyl ether acrylate), 트리메틸롤프로판 글리시딜 에테르 아크릴레이트(trimethylolpropane glycidyl ether acrylate) 및 비스페놀 A형 에폭시 화합물의 아크릴레이트(acrylate of Bisphenol A type epoxy compound)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 에폭시 고분자 전구체를 포함하는 아크릴계열의 에폭시 올리고머;와, 한쪽은 에폭시 올리고머와 반응할 수 있는 반응성기인 에폭사이드(epoxide) 혹은 이중결합을 포함하고 다른 한쪽은 C6-C18로 구성된 알킬사슬 구조를 갖는 알킬기를 포함하는 중간 반응물질을 혼합하는 단계;(2) 상기 에폭시 올리고머와 알킬기를 포함하는 중간 반응물질이 혼합된 용액에 양자점 나노입자를 혼합하는 단계; 및(3) 상기 에폭시 올리고머와 알킬기를 포함하는 중간 반응물질이 혼합된 용액에 양자점 나노입자가 혼합된 혼합액을 가교제를 이용하여 중합하는 단계;를 포함하는 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 한쪽은 에폭시 올리고머와 반응할 수 있는 반응성기인 에폭사이드(epoxide) 혹은 이중결합을 포함하고 다른 한쪽은 C6-C18로 구성된 알킬사슬 구조를 갖는 알킬기를 포함하는 중간 반응물질은 에폭시 헥산, 에폭시 헵탄, 에폭시 옥탄, 에폭시 노난, 에폭시 데칸, 에폭시 운데칸, 및 에폭시 도데칸으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체 제조방법
7 7
제 1항에 있어서,상기 양자점 나노입자는 Ⅱ-Ⅵ 또는 Ⅲ-Ⅴ족 화합물인 것을 특징으로 하는 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체 제조방법
8 8
제 7항에 있어서,상기 양자점 나노입자는 CdSe, CdSe/ZnS, CdTe/CdS, CdTe, ZnSe/ZnS, ZnTe/ZnSe, PbSe, PbS, InAs, InP, InGaP, InGaP/ZnS 및 HgTe로 구성된 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체 제조방법
9 9
제 7항에 있어서,상기 양자점 나노입자는 단일 코어(core) 또는 코어(core)/쉘(shell) 형태인 것을 특징으로 하는 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체 제조방법
10 10
제 1항에 있어서,상기 가교제는 화학적 가교제(chemical crosslinker) 또는 광학적 가교제(photo-initiator)인 것을 특징으로 하는 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체 제조방법
11 11
제 10항에 있어서,상기 화학적 가교제는 이민(imine) 계열 또는 다이아민(diamine) 계열에서 선택되는 것을 특징으로 하는 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체 제조방법
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제 11항에 있어서,상기 화학적 가교제는 폴리아미도-아민(polyamido-amines), 지방족 폴리아민(aliphatic polyamines), 지방족고리 폴리아민(alicyclic polyamines), 방향족 폴리아민(aromatic polyamines), 및 3차 아민(tertiary amines)으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 화학적 가교제는 디에틸렌-트리아민(diethylene-triamine), 트리에틸렌-테르라아민(triethylene-tetramine), 테트라에틸렌-펜타민(tetraethylene-pentamine), 펜타에틸렌-헥사민(pentaethylene-hexamine), 헥사메틸렌-디아민(hexamethylene-diamine), 폴리에테르-디아민(polyether-diamine), 비스-헥사메틸렌-트리아민(bis-hexamethylene-triamine), 디에틸아미노프로필아민(diethylaminopropylamine), 트리아민(triamine), 트리메틸헥사메틸렌디아민(trimethylhexamethylenediamine), 올레일아민(oleylamine), 디프로필렌-트리아민(dipropylene-triamine), 비스(헥사메틸렌)-트리아민(bis(hexamethylene)-triamine), 1,3,6-트리스-아미노메틸-헥산(1,3,6-tris-aminomethyl-hexane), 3,9-비스(3-아미노프로필)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]-운데칸(3,9-bis(3-aminopropyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5,5]-undecane), 크실렌-디아민(xylene-diamine), 1,3-비스-아미노메틸-시크로헥산(1,3-bis-aminomethyl-cyclohexane), 비스(4-아미노시크로헥실)-메탄(bis(4-aminocyclohexyl)-methane), 비스(4-아미노-3-페틸시크로헥실)-메탄(bis(4-amino-3-methylcyclohexyl)-methane), 이소포론-디아민(isophorone-diamine), N-아미노에틸-피페라진(N-aminoethyl-piperazine), 멘텐-디아민(menthene-diamine), 디아미노페닐메탄(diaminophenylmethane), 저분자량 축합 아닐린-포름알데히드(aniline-formaldehyde low molecular weight condensate), m-페닐렌디아민(m-phenylenediamine), 디아미노디페닐-설폰(diaminodiphenyl-sulfone), 및 디메틸아미노메틸페놀(dimethylaminomethylphenol), 트리스(디메틸)-아미노에틸페놀(tris(dimethyl)-aminoethylphenol)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 광학적 가교제는 마이클러스(MiChler's) 케톤, 비스-4,4'-디에틸아미노벤조페논, 벤조페논, 3,5-비스(4'-디에틸아미노벤질리덴)-N-메틸-피페리돈, 3,5-비스(4'-디메틸아미노벤질리덴)-N-메틸-피페리돈, 2,6-비스(4'-디메틸아미노벤질리덴)-4-카르복시시크로헥사논, 2,6-비스(4'-디메틸아미노벤질리덴)-4-히드록시시크롤헥사논, 2,6-비스(4'-디에틸아미노벤질리덴)-4-카르복시시크로헥사논, 2,6-비스(4'-디에틸아미노벤질리덴)-4-히드록시시크로헥사논, 2,6-비스(4'-디메틸아미노벤질리덴)-4-히드록시메틸시크로헥사논,2,6-비스(4'-디에틸아미노벤질리덴)-4-히드록시메틸시크로헥사논, 3,3'-카르보닐 비스(7-디에틸아미노) 쿠마린, 7-디에틸아미노-4-메틸 쿠마린,3-(2-벤조티아졸일)-7-디에틸아미노쿠마린, 3-(2-벤질이미다졸일)-7-디에틸아미노쿠마린, 2-(p-디메틸아미노스티릴) 퀴놀린, 4-(p-디메틸아미노스티릴)퀴놀린, 2-(p-디메틸아미노스티릴)벤조티아졸, 2-(p-디메틸아미노스티릴)벤족사졸, 2-(p-디메틸아미노스티릴)-3,3'-디메틸-3H-인돌, 리보프라빈 테트라부틸레이트, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르포리노프로판-1-온, 2,4-디메틸티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디이소프로필티옥산톤, 3,5-디이소프로필티옥산톤, 3,5-디메틸티옥산톤, 티옥산텐-9-온, 1-페닐-5-메르캅토-1H-테트라졸, 3-아세틸인돌, 벤조일 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 1,9-벤잔트론, 5-니트로아세나프텐, 2-니트로플루오렌, 아탄트론, 1,2-벤잔트라퀴논, 2,6-비스(4'-아지도벤질리덴)-시크로헥사논, 2,6-비스(4'-아지도벤질리덴)-4-메틸시크로헥사논, 2,6-비스(4'-아지도벤질리덴)-4-카르복시시크로헥사논, 2,6-비스(4'-아지도벤질리덴)-4-히드록시시크로헥사논, 3,5-비스(4'-아지도벤질리덴)-N-메틸-피페리돈, 2,6-비스(4'-아지도신나미리덴)-4-카르복시시크로헥사논, 및 2,6-비스(4'-아지도신나미리덴-4-히드록시시크로헥사논으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체 제조방법
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제 1항, 또는 제6 항 내지 제 14항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체
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제 15항에 있어서,상기 양자점 나노입자는 CdSe, CdSe/ZnS, CdTe/CdS, CdTe, ZnSe/ZnS, ZnTe/ZnSe, PbSe, PbS, InAs, InP, InGaP, InGaP/ZnS 및 HgTe로 구성된 군에서 선택된 단일 코어(core) 또는 코어(core)/쉘(shell) 형태인 것을 특징으로 하는 양자점 나노입자가 분산된 에폭시 고분자 복합체
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국연구재단 특정기초핵심-공동 면역세포기반 암치료 효능향상을 위한 생체친화 나노메디컬소재 개발