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1) PVDF 고분자, 및
주쇄 또는 측쇄에 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate, PMMA) 고분자를 50 내지 99
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제1항에 있어서,
단계 1)에서 PVDF 고분자 100 중량부, 및 이에 대해 고분자 바인더 1 내지 700 중량부를 용매 300 내지 20,000 중량부에 용해시키는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서,
단계 1)에서 PVDF 고분자가 PVDF 단일 중합체 또는 PVDF와 트라이플루오로에틸렌(trifluoroethylene, TrFE)의 공중합체인 P(VDF-TrFE)인 것을 특징으로 하는 방법
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삭제
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제1항에 있어서,
상기 고분자 바인더가 하기 화학식 1로 표시되는 고분자인 것을 특징으로 하는 방법:
[화학식 1]
상기 식에서, Me는 CH3이고, Y는 UV 경화가 가능한 작용기이고, x는 0
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제5항에 있어서,
상기 고분자 바인더에서 UV 경화가 가능한 작용기가 불포화 이중결합(C=C), 아자이드(-N3) 작용기, 에폭사이드 작용기 및 글리시딜 작용기로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
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제6항에 있어서,
상기 고분자 바인더가 PMMA 주쇄에 UV 경화가 가능한 작용기로 불포화 이중결합을 포함하는, 하기 화학식 2로 표시되는 고분자인 것을 특징으로 하는 방법:
[화학식 2]
상기 식에서, Me는 CH3이고, x는 0
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제6항에 있어서,
상기 고분자 바인더가 PMMA 주쇄에 UV 경화가 가능한 작용기로 아자이드(-N3) 작용기를 포함하는, 하기 화학식 3으로 표시되는 고분자인 것을 특징으로 하는 방법:
[화학식 3]
상기 식에서, Me는 CH3이고, x는 0
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제6항에 있어서,
상기 고분자 바인더가 PMMA 주쇄에 UV 경화가 가능한 작용기로 글리시딜 작용기를 포함하는, 하기 화학식 4로 표시되는 고분자인 것을 특징으로 하는 방법:
[화학식 4]
상기 식에서, Me는 CH3이고, x는 0
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제1항에 있어서,
단계 1)에서 용매가 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 다이에틸렌글리콜다이메틸에테르, 다이에틸렌글리콜다이메틸에틸에테르, 메틸메톡시프로피오네이트, 에틸에톡시프로피오네이트(EEP), 에틸락테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 (PGMEA), 프로필렌글리콜메틸에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 다이에틸렌글리콜메틸아세테이트, 다이에틸렌글리콜에틸아세테이트, 아세톤, 메틸아이소부틸케톤, 사이클로헥사논, 다이메틸포름아마이드 (DMF), N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc), N-메틸-2-피롤리돈(NMP), γ-부틸로락톤, 다이에틸에테르, 에틸렌글리콜다이메틸에테르, 다이글라임(Diglyme), 테트라하이드로퓨란(THF), 메탄올, 에탄올, 프로판올, 아이소-프로판올, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 다이에틸렌글리콜메틸에테르, 다이에틸렌글리콜에틸에테르, 다이프로필렌글리콜메틸에테르, 톨루엔, 크실렌, 헥산, 헵탄, 옥탄 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서,
단계 1)에서 PVDF 고분자와 고분자 바인더의 혼합물이 첨가제로서 광개시제(photoinitiator), 다기능 단량체(multifunctional monomer) 및 광산 발생제(photoacid generator) 중의 하나 이상을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
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제11항에 있어서,
상기 첨가제가 PVDF 고분자 100 중량부에 대해 1 내지 100 중량부의 양으로 사용되는 것을 특징으로 하는 방법
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제11항에 있어서,
상기 광개시제가 이가큐어(Irgacure) 369, 이가큐어 651, 이가큐어 907, TPO, CGI124, EPD/BMS 혼합계, 벤조페논, 페닐비페닐케톤, 1-하이드록시-1-벤조일사이클로헥산, 벤질, 벤질다이메틸케탈, 1-벤질-1-다이메틸아미노-1-(4-몰포리노-벤조일)프로판, 2-몰포일-2-(4-메틸머캅토)벤조일프로판, 티오크산톤(thioxanthone), 1-클로로-4-프록시티오크산톤, 아이소프로필티오크산톤, 다이에틸티오크산톤, 에틸안트라퀴논, 4-벤조일-4-메틸다이페닐설파이드, 벤조인부틸에테르, 2-하이드록시-2-벤조일프로판, 2-하이드록시-2-(4-아이소프로필)벤조일프로판, 4-부틸벤조일트라이클로로메탄, 4-페녹시벤조일다이클로로메탄, 벤조일포름산메틸, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 9-n-부틸-3,6-비스(2-몰포리노-아이소부틸로일)카바졸, 2-메틸-4,6-비스(트라이클로로메틸)-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트라이클로로메틸)-s-트리아진, 2-나프틸-4,6-비스(트라이클로로메틸)-s-트리아진, 4,4-비스(다이페닐설포니오)-다이페닐설파이드 헥사플루오로안티모네이트(BDSDS), 4,4-(페닐티오)페닐다이페닐설포늄 헥사플루오로안디모네이트(PTPDS), 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
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제11항에 있어서,
상기 다기능 단량체가 메타-다이비닐벤젠, 파라-다이비닐벤젠, 4,4'-다이비닐비페닐렌, 1,5-다이비닐나프탈렌, 사이클로헥산다이메탄올다이아크릴레이트, 다이에틸렌글리콜다이아크릴레이트, 트라이에틸렌글리콜다이아크릴레이트, 다이프로필렌글리콜다이아크릴레이트, 트라이프로필렌글리콜다이아크릴레이트, 비닐아크릴레이트, 1,2-에탄디올다이아크릴레이트, 1,3-프로판디올다이아크릴레이트, 1,3-부탄디올다이아크릴레이트, 1,4-부탄디올다이아크릴레이트, 1,5-펜탄디올다이아크릴레이트, 네오펜틸글리콜다이아크릴레이트, 1,6-헥산디올다이아크릴레이트, 비스페놀A다이아크릴레이트, 사이클로헥산다이메탄올다이메타크릴레이트, 비스페놀A다이메타크릴레이트, 메타크릴레이티드폴리부타디엔, 트라이에틸렌글리콜다이메타크릴레이트, 에틸렌글리콜다이메타크릴레이트, 1,4-부탄디올다이메타크릴레이트, 1,6-헥산디올다이메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜다이메타크릴레이트, 우레탄아크릴레이트 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
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제11항에 있어서,
상기 광산 발생제가 다이아조늄염, 요오도늄염, 설포늄염, 다이아조설포닐 화합물, 설포닐옥시이미드, 니트로벤질설포네이트 에스테르, 다이페닐요오도늄 트라이플루오로메탄 설포네이트, 다이페닐요오도늄 노나플루오로부탄 설포네이트, 트라이페닐설포늄 트라이플루오로메탄 설포네이트, 트리아진, 옥사졸, 옥사다이아졸, 티아졸, 페놀계 설폰산 에스테르, 비스-설포닐메탄, 비스-설포닐메탄, 비스-설포닐다이아조메탄, 트라이페닐설포늄 트라이스(트라이플루오로메틸설포닐)메타이드, 다이페닐요오도늄 비스(트라이플루오로메틸설포닐)이미드 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서,
단계 1)에서 제조된 PVDF 박막이 30 ㎚ 내지 1 ㎜ 범위의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서,
단계 2)에서 UV 조사가 100 내지 700 ㎚의 파장에서 UV를 10 내지 10,000 mJ/㎠의 출력으로 1 내지 10,000초간 조사하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서,
단계 2)에서 용매가 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 다이에틸렌글리콜다이메틸에테르, 다이에틸렌글리콜다이메틸에틸에테르, 메틸메톡시프로피오네이트, 에틸에톡시프로피오네이트(EEP), 에틸락테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 (PGMEA), 프로필렌글리콜메틸에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 다이에틸렌글리콜메틸아세테이트, 다이에틸렌글리콜에틸아세테이트, 아세톤, 메틸아이소부틸케톤, 사이클로헥사논, 다이메틸포름아마이드 (DMF), N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc), N-메틸-2-피롤리돈(NMP), γ-부틸로락톤, 다이에틸에테르, 에틸렌글리콜다이메틸에테르, 다이글라임(Diglyme), 테트라하이드로퓨란(THF), 메탄올, 에탄올, 프로판올, 아이소-프로판올, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 다이에틸렌글리콜메틸에테르, 다이에틸렌글리콜에틸에테르, 다이프로필렌글리콜메틸에테르, 톨루엔, 크실렌, 헥산, 헵탄, 옥탄 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서,
단계 2) 이후에 형성된 PVDF 박막의 패턴 어레이의 강유전성 특성을 극대화하기 위하여 열처리 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
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제19항에 있어서,
상기 열처리가 형성된 PVDF 박막의 패턴 어레이를 PVDF 결정의 용융점 이상의 온도로 승온하여 1 내지 30분간 열처리를 한 후 상온 이하의 온도로 급속 냉각시키고, 이어서 상기 용융점보다 10 내지 100℃ 정도 낮은 온도로 승온하여 1 내지 1,000분 동안 열처리를 한 후 다시 상온으로 냉각시켜 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
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