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두 고리형 테트라하이드로퓨란 락톤 화합물과 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015121687
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 두 고리형 테트라하이드로퓨란 락톤 화합물과 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 페닐 할라이드, 팔라듐 촉매 및 염기가 존재하는 조건하에서 테트라하이드로퓨란-알렌 산 유도체의 분자내 고리화 반응을 수행하여 제조되어지는, 다음 화학식 1로 표시되는 신규 구조의 물질로서 두 고리형 테트라하이드로퓨란 락톤 화합물과 이의 제조방법에 관한 것이다.상기 화학식 1에서, n은 1 또는 2이고; R은 페닐기 또는 치환된 페닐기를 나타내고, 이때 치환체는 C1-C6의 알킬기, C1-C6의 알콕시기, 하이드록시기, 및 C1-C6의 하이드록시알킬기 중에서 선택된다.두 고리 테트라하이드로퓨란 락톤 화합물, 분자내 고리화 반응, 알렌 산
Int. CL C07D 493/04 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020050061706 (2005.07.08)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0645372-0000 (2006.11.06)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20061114) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.07.08)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조용서 대한민국 서울특별시 동대문구
2 차주환 대한민국 서울시 노원구
3 배애님 대한민국 서울 송파구
4 고훈영 대한민국 서울시 강북구
5 신철 대한민국 인천 남동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이학수 대한민국 부산광역시 연제구 법원로 **, ****호(이학수특허법률사무소)
2 백남훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, KTB네트워크빌딩**층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.07.08 수리 (Accepted) 1-1-2005-0370934-16
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.09.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 출원심사처리보류통지서
Notice of Deferment of Processing of Application Examination
2006.09.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0552546-10
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.10.16 수리 (Accepted) 9-1-2006-0066009-09
5 등록결정서
Decision to grant
2006.10.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0634237-18
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다음 화학식 1로 표시되는 두 고리형 테트라하이드로퓨란 락톤 화합물 :[화학식 1]상기 화학식 1에서, n은 1 또는 2이고; R은 페닐기 또는 치환된 페닐기를 나타내고, 이때 치환체는 C1-C6의 알킬기, C1-C6의 알콕시기, 하이드록시기, 및 C1-C6의 하이드록시알킬기 중에서 선택된다
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 n은 1이고; R은 페닐기, 또는 치환된 페닐기이고, 상기 치환체는 C1-C6의 알킬기 및 C1-C6의 알콕시기 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 화합물
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 n은 2이고; R은 페닐기, 또는 치환된 페닐기이고, 상기 치환체는 C1-C6의 알킬기 및 C1-C6의 알콕시기 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 화합물
4 4
페닐 할라이드, 팔라듐 촉매 및 염기가 존재하는 조건하에서, 다음 화학식 2로 표시되는 테트라하이드로퓨란-알렌 산 유도체의 분자내 고리화 반응을 수행하여 제조하는 것을 특징으로 하는 다음 화학식 1로 표시되는 두 고리형 테트라하이드로퓨란 락톤 화합물의 제조방법 :[화학식 1]상기 화학식 1 또는 2에서, n은 1 또는 2이고; R은 페닐기 또는 치환된 페닐기를 나타내고, 이때 치환체는 C1-C6의 알킬기, C1-C6의 알콕시기, 하이드록시기, 및 C1-C6의 하이드록시알킬기 중에서 선택된다
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 반응용매는 디에틸에테르, 테트라하이드로퓨란, 디클로로메탄, 디메틸포름아미드, 에틸 아세테이트, 및 클로로포름 중에서 선택 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법
6 6
제 4 항에 있어서, 상기 페닐 할라이드는 1
7 7
제 4 항에 있어서, 상기 팔라듐 촉매로는 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐 (Pd(PPh3)4) 0
8 8
제 4 항에 있어서, 상기 염기는 알칼리금속 또는 알칼리토금속의 탄산염, 탄산수소염, 및 황산염 중에서 선택 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법
9 9
제 8 항에 있어서, 상기 염기로는 포타시움 카보네이트(K2CO3) 1
10 10
제 4 항에 있어서, 상기 반응온도는 0 ℃ 내지 90 ℃ 범위인 것을 특징으로 하는 제조방법
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1 US07223874 US 미국 FAMILY
2 US20070010679 US 미국 FAMILY
3 WO2007007940 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 US2007010679 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US7223874 US 미국 DOCDBFAMILY
3 WO2007007940 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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