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미세 유체칩을 이용한 나노입자 분리 및 이를 이용한 생체물질분석방법

  • 기술번호 : KST2015136913
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 미세 유체칩을 이용한 나노입자의 분리 및 이를 이용하는 생체물질분석방법에 관한 발명이다. 본 발명에 따른 미세 유체칩은 보다 민감하고 정밀하게 분석 대상을 검출하는 효과가 있으며, 상기 본 발명에 따른 미세 유체칩을 이용하여 생체물질분석방법을 통해 분석을 실시하면 본 발명과 같은 나노입자 분리홀을 이용하여 크기에 따른 나노입자의 분리가 가능하므로 신뢰성 높은 생체물질의 분석이 가능하다. 결과적으로 본 발명에 따른 미세 유체칩은 분리하려는 나노입자의 크기에 맞는 맞춤형 나노입자 분리홀을 제작한 후, 이를 이용하여 생체물질분석의 신뢰도를 크게 높일 수 있는 발명에 관한 것으로서, 미세 유체 공학 및 미세 유체 시스템을 통한 분석의 신뢰도를 크게 향상시킬 수 있다.
Int. CL G01N 35/08 (2006.01.01) G01N 33/48 (2006.01.01)
CPC G01N 35/08(2013.01) G01N 35/08(2013.01) G01N 35/08(2013.01)
출원번호/일자 1020130139222 (2013.11.15)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0068758 (2014.06.09) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020120135918   |   2012.11.28
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020160015542;
심사청구여부/일자 Y (2013.11.15)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김용권 대한민국 서울특별시 강남구
2 이윤식 대한민국 경기도 안양시 동안구
3 고율 대한민국 서울특별시 동작구
4 강호만 대한민국 서울특별시 동대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.11.15 수리 (Accepted) 1-1-2013-1043046-17
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.11.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0798891-14
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2015.01.19 수리 (Accepted) 1-1-2015-0050668-05
4 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2015.02.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0159048-85
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2015.03.20 수리 (Accepted) 1-1-2015-0273732-48
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2015-0380539-19
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.04.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0380552-14
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2015.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0590792-15
11 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)		 2015.09.30 수리 (Accepted) 7-1-2015-0044931-18
12 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2015.10.30 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-1055148-60
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.10.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-1055141-41
14 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2015.12.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0864739-10
15 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)		 2016.01.11 수리 (Accepted) 7-1-2016-0000868-43
16 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2016.02.11 수리 (Accepted) 1-1-2016-0133169-37
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
시료 주입부, 유동용액 주입부 및 유동채널로 이루어지며, 상기 유동채널은 반응부, 분리부 및 배출부가 순차적으로 위치하여 이루어진 것으로서, 상기 분리부는 하나 이상의 나노입자 분리홀이 포함된 분리막을 포함하는 미세 유체칩
2 2
제 1항에 있어서,상기 유동채널의 분리부는 유동채널의 하층이 오목한 홈으로 이루어져 있으며, 상기 오목한 홈은 상기 분리막으로 덮혀 있는 것을 특징으로 하는 미세 유체칩
3 3
제 1항에 있어서,상기 분리막은 복수개의 나노입자 분리홀을 포함하는 복수개의 선형 나노입자 분리홀 집단이 지그재그 형태로 배열되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세유체칩
4 4
제 2항에 있어서,상기 분리막의 상부면은 상기 유동채널의 상층으로부터 연장된 격벽과 접촉하는 것을 특징으로 하는 미세 유체칩
5 5
제 4항에 있어서,상기 격벽은 상기 주입부를 향하는 분리막의 전단과 상기 배출부를 향하는 분리막의 후단을 제외한 분리막의 중단과 접촉하는 것을 특징으로 하는 미세 유체칩
6 6
제 1항에 있어서,상기 나노입자 분리홀의 크기는 100nm~1000nm인 것을 특징으로 하는 미세 유체칩
7 7
제 1항에 있어서,상기 분리막의 표면은 질화규소 막 위에 산화규소 막이 위치하여 이루어진 것을 특징으로 하는 미세 유체칩
8 8
제 1항에 있어서,상기 나노입자 분리홀의 표면은 산화규소 막으로 이루어진 것을 특징으로 하는 미세 유체칩
9 9
제 1항에 있어서,상기 유동채널의 반응부와 분리부 사이에 자기력 인가부가 위치하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세 유체칩
10 10
제 8항에 있어서,상기 자기력 인가부와 분리부 사이에 미반응시료를 배출시키는 미반응시료 배출부가 위치하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세 유체칩
11 11
1) 제 1항에 따른 미세 유체칩의 유동채널에 시료와 유동용액을 주입하는 단계;2) 상기 주입된 시료가 반응부에서 반응하여 반응물을 형성하는 단계;3) 상기 반응물은 상기 유동채널의 분리부에 존재하는 하나 이상의 나노입자 분리홀을 통과하지 못하고 검출되는 단계; 및4) 상기 검출된 반응물을 분석하는 단계;를 포함하여 제 1항에 따른 미세 유체칩을 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는 생체물질분석방법
12 12
제 11항에 있어서,상기 1)단계의 시료로 자성 나노입자, 생체물질 및 프로브를 주입하며, 상기 2)단계의 반응물의 형성은 상기 자성 나노입자, 생체물질 및 프로브가 반응하여 자성 나노입자-생체물질-프로브 복합체를 형성하는 것을 특징으로 하는 생체물질분석방법
13 13
제 12항에 있어서,상기 자성 나노입자-생체물질-프로브 복합체는 상기 자성 나노입자와 결합된 수용체와 상기 프로브와 결합된 수용체가 상기 생체물질을 인식하여 형성된 자성 나노입자-생체물질-프로브 복합체인 것을 특징으로 하는 생체물질분석방법
14 14
제 11항 또는 제 12항에 있어서,상기 2)단계와 상기 3)단계 사이에는 상기 자성 나노입자와 상기 자성나노입자-생체물질-프로브 복합체가 자기력 인가부에 의해 고정되어 수집되는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 생체물질분석방법
15 15
제 14항에 있어서,상기 고정되어 수집되는 단계 이후에 상기 자기력 인가부에 의해 고정되지 않는 미반응시료를 미반응시료 배출부를 통해 배출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 생체물질분석방법
16 16
제 15항에 있어서,상기 미반응시료 배출 단계 이후에 상기 자기력 인가부의 자기력 인가를 중단하여 상기 자성 나노입자와 상기 자성 나노입자-생체물질-프로브 복합체를 상기 유동채널의 주입부에서 배출부 쪽으로 다시 이동시키는 것을 특징으로 하는 생체물질분석방법
17 17
제 16항에 있어서,상기 자성 나노입자와 상기 자성 나노입자-생체물질-프로브 복합체가 상기 유동채널의 주입부에서 배출부 쪽으로 이동 한 후 상기 자성 나노입자는 제 10항에 따른 상기 나노입자 분리홀을 통과하지만, 상기 자성 나노입자-생체물질-프로브 복합체는 상기 나노입자 분리홀을 통과하지 못하는 것을 특징으로 하는 생체물질분석방법
18 18
1) 실리콘 또는 이를 포함하는 기판에 화학기상증착(CVD, chemical vapor deposition)을 통하여 질화규소 막을 형성하는 단계; 2) 상기 1)단계 후 1~3㎛ 크기의 분리홀을 형성하는 단계; 및3) 상기 형성된 분리홀을 포함한 기판에 화학기상증착(CVD, chemical vapor deposition)을 통하여 산화규소 막을 형성하는 단계; 를 포함하는 제 1항에 따른 나노입자 분리홀이 포함된 미세 유체칩용 분리막의 제조방법
19 19
제 18항에 있어서,상기 3)단계의 산화규소 막을 형성하기 위한 화학기상증착(CVD, chemical vapor deposition)은 분리홀의 크기가 100nm~1,000nm가 될 때까지 화학기상증착(CVD, chemical vapor deposition)하는 것을 특징으로 하는 제 1항에 따른 나노입자 분리홀이 포함된 미세 유체칩용 분리막의 제조방법
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3 US20150314291 US 미국 FAMILY
4 WO2014084545 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 KR101712940 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
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1 교육과학기술부 서울대학교 미래유망 융합기술 파이오니어사업 나노분광학을 이용한 진단시약 후보군 탐색 및 다중질병 진단법 개발