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화합물 분말의 용탕 표면 반응 장치 및 이를 이용한 표면 반응 방법

  • 기술번호 : KST2015149811
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 내부에 형성된 중공을 통해 공급된 화합물 분말을, 로에 수용된 금속 또는 금속합금의 용탕의 표면으로 공급하는 분사유닛과, 상기 분사유닛의 하단에 결합 형성되고, 상기 용탕과 반응하지 않는 재질로 이루어지며, 상기 용탕의 표면에 침지되어 회전하는 반응촉진유닛을 포함하는, 화합물 분말의 용탕 표면 반응 장치 및 이를 이용한 표면 반응 방법에 관한 것이다.
Int. CL C22C 1/02 (2006.01) C22C 1/04 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020100123288 (2010.12.06)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1263187-0000 (2013.05.06)
공개번호/일자 10-2012-0062154 (2012.06.14) 문서열기
공고번호/일자 (20130510) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.12.06)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김세광 대한민국 서울특별시 동작구
2 윤영옥 대한민국 인천광역시 남구
3 이진규 대한민국 인천광역시 연수구
4 서정호 대한민국 서울특별시 마포구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 나동규 대한민국 대전광역시 서구 문예로 **, *층 ***호(둔산동, 오성빌딩)(특허법인오암)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 나이스엘엠에스 충청남도 예산군
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.12.06 수리 (Accepted) 1-1-2010-0800943-10
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.01.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.02.17 수리 (Accepted) 9-1-2012-0012693-06
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.08.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0459501-58
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2012.10.05 수리 (Accepted) 1-1-2012-0808932-63
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2012.11.06 수리 (Accepted) 1-1-2012-0910874-28
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.12.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-1019422-28
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.12.07 수리 (Accepted) 1-1-2012-1019438-58
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
12 등록결정서
Decision to grant		 2013.02.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0080474-69
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
내부에 형성된 중공을 통해 공급된 화합물 분말을, 로에 수용된 금속 또는 금속합금의 용탕의 표면으로 공급하는 분사유닛;상기 분사유닛의 하단에 결합 형성되고, 상기 용탕과 반응하지 않는 재질로 이루어지며, 상기 용탕의 표면에 침지되어 회전하는 반응촉진유닛; 및 상기 분사유닛으로 공급될 화합물 분말을 수용하는 저장부, 상기 저장부의 내부와 통하도록 연결되는 관부, 및 상기 관부를 통해 상기 분사유닛으로 공급되는 화합물 분말에 가스를 불어넣는 공기주입기를 가지며, 상기 공기주입기에서 불어넣는 가스의 압력에 의해 상기 관부를 통하여 화합물 분말을 상기 분사유닛으로 공급하는 공급유닛;을 포함하며, 상기 저장부에는, 수용된 화합물 분말 중 비산되는 입자를 선별하도록, 상기 공기주입기와 연결되어 상기 화합물 분말 내부로 통하는 주입관; 및 상기 비산되는 화합물 분말의 미세입자가 포집되는 포집구;가 더 형성되는, 화합물 분말의 용탕 표면 반응 장치
2 2
청구항 1에 있어서,상기 반응촉진유닛은,원통형으로 내부 공간이 비어 있는 회전체; 상기 분사유닛과 연통되어 상기 화합물을 외부로 배출하도록, 상기 회전체의 둘레 표면과 바닥부에 용탕 표면으로 통하도록 형성된 하나 이상의 배출구; 및상기 회전체의 둘레 표면과 바닥부에 형성된 복수 개의 임펠러;로 형성된 것을 특징으로 하는, 화합물 분말의 용탕 표면 반응 장치
3 3
내부에 형성된 중공을 통해 공급된 화합물 분말을, 로에 수용된 금속 또는 금속합금의 용탕의 표면으로 공급하는 분사유닛; 및 상기 분사유닛의 하단에 결합 형성되고, 상기 용탕과 반응하지 않는 재질로 이루어지며, 상기 용탕의 표면에 침지되어 회전하는 반응촉진유닛;을 포함하며, 상기 반응촉진유닛은, 원통형으로 내부 공간이 비어 있는 회전체; 상기 분사유닛과 연통되어 상기 화합물을 외부로 배출하도록, 상기 회전체의 둘레 표면과 바닥부에 용탕 표면으로 통하도록 형성된 하나 이상의 배출구; 상기 회전체의 둘레 표면과 바닥부에 형성된 복수 개의 임펠러;를 포함하고, 상기 반응촉진유닛은,상기 용탕의 표면에 침지되어 초음파를 발생시켜, 상기 용탕의 표면과 상기화합물 분말의 반응을 촉진시키는 초음파분산기;를 포함하는 화합물 분말의 용탕 표면 반응 장치
4 4
청구항 1에 있어서,상기 분사유닛에서 분기되어,상기 분사유닛의 측면에 상기 분사유닛과 별도의 라인으로 형성되며, 상기 용탕에 화합물 분말을 분사할 수 있도록, 내부에 중공이 형성된 관 형태인 복수 개의 보조분사라인이 더 형성되는 것을 특징으로 하는, 화합물 분말의 용탕 표면 반응 장치
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
내부에 형성된 중공을 통해 공급된 화합물 분말을, 로에 수용된 금속 또는 금속합금의 용탕의 표면으로 공급하는 분사유닛; 상기 분사유닛의 하단에 결합 형성되고, 상기 용탕과 반응하지 않는 재질로 이루어지며, 상기 용탕의 표면에 침지되어 회전하는 반응촉진유닛; 및 상기 분사유닛으로 공급될 화합물 분말을 수용하는 저장부, 상기 저장부의 내부와 통하도록 연결되는 관부, 및 상기 관부를 통해 상기 분사유닛으로 공급되는 화합물 분말에 가스를 불어넣는 공기주입기를 가지며, 상기 공기주입기에서 불어넣는 가스의 압력에 의해 상기 관부를 통하여 화합물 분말을 상기 분사유닛으로 공급하는 공급유닛;를 포함하며,상기 공급유닛은, 상기 저장부에 수용된 화합물 분말을 가열할 수 있도록 상기 저장부를 가열할 수 있는 가열기;를 더 포함하는 화합물 분말의 용탕 표면 반응 장치
8 8
삭제
9 9
청구항 1에 있어서,상기 화합물 분말은,CaO와 SiO2 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 화합물 분말의 용탕 표면 반응 장치
10 10
청구항 1에 있어서,상기 금속 또는 금속합금은,마그네슘, 마그네슘합금, 알루미늄 및 알루미늄합금 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 화합물 분말의 용탕 표면 반응 장치
11 11
금속 또는 금속합금 용탕의 표면에 분사유닛을 통해 화합물 분말을 공급하는 단계; 상기 용탕의 표면에서 환원반응을 촉진하기 위해 반응촉진유닛을 상기 용탕 표면에 침지하여 가동하는 단계;를 포함하며, 상기 공급하는 단계는, 상기 화합물 분말읏 상기 용탕 표면으로 공급하기 위해 공급유닛을 가동하는 단계;를 더 포함하고,상기 가공하는 단계는, 상기 공급유닛에 수용된 분말 중 미세입자를 분리하는 단계;를 더 포함하는 화합물 분말의 용탕 표면 반응 방법
12 12
청구항 11에 있어서,상기 가동하는 단계는,상기 용탕의 표면에서 반응촉진유닛을 회전시키는 단계;를 포함하는, 화합물 분말의 용탕 표면 반응 방법
13 13
청구항 12에 있어서,상기 회전시키는 단계는,상기 반응촉진유닛이 상기 용탕의 표면에 형성된 슬래그층을 통과하여, 슬래그층 아래의 상기 용탕의 표면에 침지되는 단계;를 포함하는, 화합물 분말의 용탕 표면 반응 방법
14 14
청구항 11에 있어서,상기 가동하는 단계는,상기 반응촉진유닛을 상기 용탕의 표면에서 상하좌우로 이동시키면서 화합물 분말과 상기 용탕 표면의 반응을 촉진하는 단계;를 포함하는, 화합물 분말의 용탕 표면 반응 방법
15 15
청구항 11에 있어서,상기 가동하는 단계는,상기 반응촉진유닛에 형성된 임펠러의 회전에 의하여 상기 용탕 표면에서의 반응이 촉진되는 단계;를 포함하는, 화합물 분말의 용탕 표면 반응 방법
16 16
청구항 11에 있어서,상기 반응촉진유닛에 형성된 초음파분산기를 이용하여 상기 화합물 분말을 분산시키는 단계;를 더 포함하는, 화합물 분말의 용탕 표면 반응 방법
17 17
청구항 11에 있어서,상기 분사유닛과 별도로 형성되는 보조분사라인을 통하여 화합물 분말을 상기 용탕의 표면에 분사하는 단계;를 더 포함하는, 화합물 분말의 용탕 표면 반응 방법
18 18
삭제
19 19
삭제
20 20
청구항 11에 있어서,상기 분리하는 단계는,상기 화합물 분말이 저장되어 있는 용기인 저장부에 가스가 공급되는 단계;상기 가스의 공급에 의하여 화합물 분말이 비산되는 단계;상기 비산된 분말이 포집되는 단계; 및상기 포집된 분말이 상기 저장부에 연결된 관부를 통하여 이동하는 단계;를 포함하는, 화합물 분말의 용탕 표면 반응 방법
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1 WO2012077900 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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