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퓸드 실리카 입자로 표면 처리된 격벽 분말을 포함하는감광성 격벽 페이스트 조성물 및 그의 제조방법, 그리고그를 사용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법

  • 기술번호 : KST2015161114
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP) 제조 기술에 관한 것이며, 특히 퓸드 실리카 입자로 표면 처리된 격벽 분말을 포함하는 감광성 격벽 페이스트 조성물 및 그의 제조방법, 그리고 그를 사용한 PDP의 격벽 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명은 사진식각법으로 PDP의 격벽 패턴을 형성함에 있어서, 페이스트 소성 온도를 높이지 않으면서 노광 효율을 증대시킬 수 있는 감광성 격벽 페이스트 조성물을 제공하는데 그 목적이 있다. 본 발명의 감광성 격벽 페이스트 조성물은 무기 격벽 분말에 대해 나노 크기(평균입경 5∼500㎚)의 퓸드 실리카(fumed silica) 입자를 표면 처리하였다. 퓸드 실리카 입자는 무결정성이며 일반 실리카(SiO2)에 비해 순도가 높기 때문에 투명하며 빛의 굴절률이 낮고 광 진행 손실이 적다. 이러한 퓸드 실리카 입자를 평균입경 2∼5㎛ 크기의 불투명한 무기 격벽 분말과 함께 볼밀(ball mill) 등을 사용하여 혼합 및 분쇄한 다음 100∼150℃의 온도로 열처리하고 재분쇄하면 퓸드 실리카 입자가 표면에 결합된 무기 격벽 분말을 얻을 수 있다. 이와 같이 실리카 나노 입자로 표면 처리된 격벽 분말을 이용하여 감광성 격벽 페이스트를 제조한 다음 사진식각법으로 격벽 패턴을 형성하면 격벽 분말의 표면에 결합된 실리카 나노 입자들이 자외선 광이 침투할 수 있는 채널을 형성해 줌으로써 감광성 격벽 페이스트의 노광 효율을 높일 수 있다. 플라즈마 디스플레이 패널, 감광성 격벽 페이스트, 퓸드 실리카 입자, 표면 처리, 노광 효율
Int. CL C03C 17/04 (2006.01.01) B82Y 40/00 (2017.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020020045812 (2002.08.02)
출원인 이비텍(주), (주)이그잭스, 경북대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0497763-0000 (2005.06.17)
공개번호/일자 10-2004-0012298 (2004.02.11) 문서열기
공고번호/일자 (20050803) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.08.02)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 이비텍(주) 대한민국 대구광역시 동구
2 (주)이그잭스 대한민국 경상북도 구미시
3 경북대학교 산학협력단 대한민국 대구광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박이순 대한민국 대구광역시수성구
2 윤상원 대한민국 대구광역시북구
3 백신혜 대한민국 부산광역시해운대구
4 최형석 대한민국 대구광역시북구
5 임무식 대한민국 대구광역시서구
6 박선우 대한민국 서울특별시성동구
7 김봉출 대한민국 경기도이천시
8 신경석 대한민국 경기도이천시대월
9 이효식 대한민국 대전광역시서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신성특허법인(유한) 대한민국 서울특별시 송파구 중대로 ***, ID타워 ***호 (가락동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 경북대학교 산학협력단 대한민국 대구광역시 북구
2 (주)이그잭스 경상북도 구미시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.08.02 수리 (Accepted) 1-1-2002-0251107-68
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document
2002.08.05 수리 (Accepted) 1-1-2002-5195263-18
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2004.06.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2004.07.13 수리 (Accepted) 9-1-2004-0038893-52
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.09.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0396876-76
6 출원인변경신고서
Applicant change Notification
2004.10.12 수리 (Accepted) 1-1-2004-5160891-20
7 의견서
Written Opinion
2004.11.23 수리 (Accepted) 1-1-2004-0547914-75
8 출원인변경신고서
Applicant change Notification
2005.02.11 수리 (Accepted) 1-1-2005-5018139-17
9 등록결정서
Decision to grant
2005.03.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0120969-19
10 출원인변경신고서
Applicant change Notification
2005.06.17 수리 (Accepted) 1-1-2005-5075031-55
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2006.02.15 수리 (Accepted) 4-1-2006-5021269-97
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2006.06.19 수리 (Accepted) 4-1-2006-0014280-97
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2007-5004844-21
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.05.11 수리 (Accepted) 4-1-2007-5073093-45
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.03.26 수리 (Accepted) 4-1-2018-5051994-32
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.23 수리 (Accepted) 4-1-2020-5136893-04
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다관능성 단량체, 다관능성 소중합체 중 선택된 적어도 하나의 물질 8∼20중량%와, 바인더 고분자 5∼20중량%와, 용제 10∼23중량%와, 광개시제 1∼2중량%와, 퓸드 실리카 입자로 표면 처리된 무기 격벽 분말 60∼80중량%를 포함하는 감광성 격벽 페이스트 조성물
2 2
제1항에 있어서, 광증감제, 중합금지제, 분산제, 실리콘계의 소포제, 점증제, 산화방지제 중 선택된 적어도 어느 하나의 첨가제 0
3 3
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 무기 격벽 분말은 글래스 프리트 40∼60중량%와, 세라믹 파우더 10∼25중량%와, 상기 퓸드 실리카 입자 0
4 4
제3항에 있어서, 상기 무기 격벽 분말은 블랙 안료 0
5 5
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 무기 격벽 분말은 평균입경 2∼5㎛이며, 상기 퓸드 실리카 입자는 평균입경 5∼500nm인 것을 특징으로 하는 감광성 격벽 페이스트 조성물
6 6
감광성 격벽 페이스트 조성물 제조방법에 있어서, 글래스 프리트와 세라믹 파우더를 포함하며, 퓸드 실리카 입자가 표면 처리된 무기 격벽 분말을 형성하는 단계; 다관능성 단량체, 다관능성 소중합체 중 선택된 적어도 하나의 물질과, 광개시제와, 첨가제와, 바인더 고분자와, 용매를 포함하는 감광성 용액을 형성하는 단계; 및 상기 퓸드 실리카 입자가 표면 처리된 상기 무기 격벽 분말과 상기 감광성 용액을 혼합 및 분산하는 단계 를 포함하는 감광성 격벽 페이스트 조성물 제조방법
7 7
제6항에 있어서, 상기 퓸드 실리카 입자가 표면 처리된 상기 무기 격벽 분말을 형성하는 단계는, 상기 글래스 프리트, 상기 세라믹 파우더를 포함하는 상기 무기 격벽 분말과 상기 퓸드 실리카 입자를 볼밀(ball mill)을 사용하여 상온에서 10∼60분 동안 혼합 및 분쇄하는 단계; 상기 퓸드 실리카 입자와 혼합 및 분쇄된 상기 무기 격벽 분말을 100∼150℃에서 10∼30분 동안 베이크하는 단계; 베이크된 상기 무기 격벽 분말을 볼밀을 사용하여 상온에서 10∼30분 동안 다시 혼합 및 분쇄하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 격벽 페이스트 조성물 제조방법
8 8
제6항에 있어서, 상기 감광성 용액을 형성하는 단계는, 상기 바인더 고분자와 상기 용매를 혼합 및 용해시키는 단계와, 상기 다관능성 단량체, 다관능성 소중합체 중 선택된 하나 이상의 물질, 상기 광개시제, 상기 첨가제를 상기 용매와 혼합하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 격벽 페이스트 조성물 제조방법
9 9
제6항에 있어서, 상기 퓸드 실리카 입자가 표면 처리된 상기 무기 격벽 분말과 상기 감광성 용액을 혼합 및 분산하기 위하여 3본밀(3 roller mill)을 사용하는 것을 특징으로 하는 감광성 격벽 페이스트 조성물 제조방법
10 10
제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 무기 격벽 분말은 평균입경 2∼5㎛이며, 상기 퓸드 실리카 입자는 평균입경 5∼500㎚인 것을 특징으로 하는 감광성 격벽 페이스트 조성물 제조방법
11 11
제1항의 감광성 격벽 페이스트 조성물을 사용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법에 있어서, 유전체가 도포된 배면기판 상에 상기 감광성 격벽 페이스트 조성물을 150∼250㎛의 두께로 도포하는 단계; 상기 감광성 격벽 페이스트 조성물을 50∼130℃의 온도에서 5∼30분 동안 건조하는 단계; 격벽 형성용 포토마스크를 사용하여 상기 감광성 격벽 페이스트 조성물을 노광하는 단계; 상기 감광성 격벽 페이스트 조성물을 현상하여 격벽 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 격벽 패턴을 450∼600℃의 온도에서 20∼30분 동안 등온 소성하는 단계 를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법
12 11
제1항의 감광성 격벽 페이스트 조성물을 사용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법에 있어서, 유전체가 도포된 배면기판 상에 상기 감광성 격벽 페이스트 조성물을 150∼250㎛의 두께로 도포하는 단계; 상기 감광성 격벽 페이스트 조성물을 50∼130℃의 온도에서 5∼30분 동안 건조하는 단계; 격벽 형성용 포토마스크를 사용하여 상기 감광성 격벽 페이스트 조성물을 노광하는 단계; 상기 감광성 격벽 페이스트 조성물을 현상하여 격벽 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 격벽 패턴을 450∼600℃의 온도에서 20∼30분 동안 등온 소성하는 단계 를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP18502942 JP 일본 FAMILY
2 WO2004012854 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
3 WO2004012854 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 AU2003248494 AU 오스트레일리아 DOCDBFAMILY
2 AU2003248494 AU 오스트레일리아 DOCDBFAMILY
3 AU2003248494 AU 오스트레일리아 DOCDBFAMILY
4 AU2003248494 AU 오스트레일리아 DOCDBFAMILY
5 CN1791561 CN 중국 DOCDBFAMILY
6 JP2006502942 JP 일본 DOCDBFAMILY
7 JP2006502942 JP 일본 DOCDBFAMILY
8 JP2006502942 JP 일본 DOCDBFAMILY
9 WO2004012854 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
10 WO2004012854 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.