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극미세 고분산형 은나노 콜로이드 제조방법 및 그에 의해 제조된 극미세 고분산형 은나노 콜로이드

  • 기술번호 : KST2015162942
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 극미세 고분산형 은나노 콜로이드 제조방법 및 그에 의해 제조된 극미세 고분산형 은나노 콜로이드에 관한 것으로, 카치온계 리피드 및 카치온계 고분자 수용액 중에서 질산은과 소디움 보로하이드레이트의 반응에 의해 은나노 콜로이드를 제조함으로써 수중에서의 은나노 콜로이드의 응집을 배제할 수 있는 특징이 있다. 본 발명은 카치온계 리피드 및 카치온계 고분자 수용액 중 어느 하나의 조건에서 질산은과 소디움 보로하이드레이트를 첨가하여 환원한 다음, 10,000rpm 이하에서 15분 동안 1차 원심분리한 후 24,000rpm 이상으로 1시간 동안 2차 원심분리하여 콜로이드 입자의 크기가 20nm 내지 280nm인 극미세 고분산형 은나노 콜로이드를 제조함으로써 은나노 콜로이드 입자 사이의 응집을 배제하여 우수한 분산성을 가지도록 함을 특징으로 한다. 상기와 같이 구성된 본 발명은, 적당한 카치온계 리피드 혹은 카치온계 고분자 수용액 하에서 환원시키고 다단계 원심분리를 함으로써 극미세 고분산형 은나노 콜로이드를 제조하는 것이 가능하였으며, 이를 통하여 은나노 콜로이드 입자 사이의 응집을 배제하여 우수한 분산성을 제공할 수 있다는 효과가 있다. 은나노 콜로이드, 극미세 고분산형, 폴리에틸렌이민, 입도분포
Int. CL B22F 9/24 (2011.01) C01G 5/00 (2011.01) B01J 13/00 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC B01J 13/0047(2013.01) B01J 13/0047(2013.01) B01J 13/0047(2013.01) B01J 13/0047(2013.01) B01J 13/0047(2013.01) B01J 13/0047(2013.01)
출원번호/일자 1020080081060 (2008.08.19)
출원인 경북대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0022400 (2010.03.02) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.08.19)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경북대학교 산학협력단 대한민국 대구광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최진현 대한민국 대구광역시 북구
2 김한도 대한민국 대구 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박해봉 대한민국 대구광역시 수성구 동대구로 ***, *층(범어동, 태윤빌딩)(법무법인창공분사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.08.19 수리 (Accepted) 1-1-2008-0590920-96
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.11.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0482484-16
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2010.01.22 수리 (Accepted) 1-1-2010-0046042-12
4 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2010.05.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0192481-13
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.03.26 수리 (Accepted) 4-1-2018-5051994-32
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.23 수리 (Accepted) 4-1-2020-5136893-04
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번호 청구항
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은나노 콜로이드 제조방법에 있어서, 카치온계 리피드 및 카치온계 고분자 수용액 중 어느 하나의 조건에서 질산은과 소디움 보로하이드레이트를 첨가하여 환원한 다음, 10,000rpm 이하에서 15분 동안 1차 원심분리한 후 20,000rpm 이상으로 1시간 동안 2차 원심분리하여 은나노 콜로이드 입자 사이의 응집을 배제하여 우수한 분산성을 가지도록 함을 특징으로 하는 극미세 고분산형 은나노 콜로이드 제조방법
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제 1항에 있어서, 카치온계 리피드 및 카치온계 고분자로는 DOPE(1,2-디올레옥시-L-R-글리세로-3-포스파티딜에탄올아민)와 DOTMA(N-[1-(2,3-디올레일옥시)프로판]-N,N,N-트리메틸암모늄 클로라이드), DOTAP(N-[1-(2,3-디올레옥시)]-N,N,N -트리메틸암모늄프로판 클로라이드), PEI(폴리에틸렌이민) 및 키토산 중 어느 하나로 선택되어 사용됨을 특징으로 하는 극미세 고분산형 은나노 콜로이드의 제조방법
3 3
은나노 콜로이드에 있어서, 카치온계 리피드 및 카치온계 고분자 수용액 중 어느 하나의 조건에서 질산은과 소디움 보로하이드레이트를 첨가하여 환원시킨 다음, 10,000rpm 이하에서 15분 동안 1차 원심분리한 후 20,000rpm 이상으로 1시간 동안 2차 원심분리하여 입자의 크기가 20nm 내지 280nm로 구성됨을 특징으로 하는 극미세 고분산형 은나노 콜로이드
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