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기준 마크의 위치 정보를 사용한 패널의 정렬 방법은,에지 추출을 위한 복수의 기준 마크를 포함하는 기준 마크 이미지에 대한 전처리를 수행하는 단계;전처리된 상기 기준 마크 이미지에서 에지를 추출하고 상기 에지를 기반으로 라벨링 에지를 결정하는 단계;상기 라벨링 에지를 기반으로 에지 특징 매칭을 통해 상기 복수의 기준 마크 각각의 위치를 결정하는 단계;상기 복수의 기준 마크 각각의 위치를 기반으로 상기 패널의 회전 각도를 결정하는 단계; 및상기 회전 각도를 기반으로 상기 패널을 정렬하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서,상기 전처리는 기준 마크 이미지에 대해 가우시안 필터를 기반으로 한 스무딩을 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 라벨링 에지를 결정하는 단계는,상기 기준 마크 이미지에 소벨 마스크를 적용하여 복수의 후보 에지를 결정하는 단계;상기 복수의 후보 에지에 대해 문턱치 처리를 수행하여 복수의 주요 에지를 추출하는 단계; 및상기 복수의 주요 에지 각각을 구성하는 픽셀에 대한 기울기 벡터의 크기 및 방향을 고려하여 상기 라벨링 에지를 결정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
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제3항에 있어서, 상기 라벨링 에지를 기반으로 에지 특징 매칭을 통해 상기 복수의 기준 마크 각각의 위치를 결정하는 단계는,상기 라벨링 에지와 기준 마크의 템플릿 모델에 대한 매칭 오차율을 산출하는 단계;상기 매칭 오차율을 기반으로 상기 라벨링 에지와 상기 템플릿 모델 간의 매칭률을 산출하는 단계; 및상기 매칭률을 기반으로 상기 라벨링 에지가 상기 복수의 기준 마크 중 하나의 기준 마크에 대응되는지 여부를 판단하는 단계를 포함하되,상기 매칭률은 상기 라벨링 에지의 길이 및 상기 템플릿 모델의 에지의 길이를 기반으로 산출되는 것을 특징으로 하는 방법
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제4항에 있어서, 상기 복수의 기준 마크는 제1 기준 마크 및 제2 기준 마크를 포함하고,상기 회전 각도는 아래의 수학식을 기반으로 산출되고, 003c#수학식003e#상기 x1은 상기 제1 기준 마크의 x 축 상의 위치, 상기 y1은 상기 제1 기준 마크의 y 축 상의 위치, 상기 x2은 상기 제2 기준 마크의 x 축 상의 위치, 상기 y2은 상기 제2 기준 마크의 y 축 상의 위치인 것을 특징으로 하는 방법
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기준 마크의 위치 정보를 기반으로 패널을 정렬하는 패널 정렬 장치는,에지 추출을 위한 복수의 기준 마크를 포함하는 기준 마크 이미지에 대한 전처리를 수행하도록 구현되는 전처리부;전처리된 상기 기준 마크 이미지에서 에지를 추출하도록 구현되는 에지 추출부; 상기 에지를 기반으로 라벨링 에지를 결정하도록 구현되는 라벨링부;상기 라벨링 에지를 기반으로 에지 특징 매칭을 수행하도록 구현되는 에지 특징 매칭부;상기 복수의 기준 마크 각각의 위치를 결정하도록 구현되는 기준 마크 위치 결정부;상기 복수의 기준 마크 각각의 위치를 기반으로 상기 패널의 회전 각도를 결정하도록 구현되는 회전 각도 결정부; 및상기 회전 각도를 기반으로 상기 패널을 정렬하도록 구현되는 패널 정렬부를 포함하는 패널 정렬 장치
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제6항에 있어서, 상기 전처리는 기준 마크 이미지에 대해 가우시안 필터를 기반으로 한 스무딩을 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 패널 정렬 장치
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제7항에 있어서, 상기 에지 추출부는 상기 기준 마크 이미지에 소벨 마스크를 적용하여 복수의 후보 에지를 결정하고, 상기 복수의 후보 에지에 대해 문턱치 처리를 수행하여 복수의 주요 에지를 추출하도록 구현되고,상기 라벨링부는 상기 복수의 주요 에지 각각을 구성하는 픽셀에 대한 기울기 벡터의 크기 및 방향을 고려하여 상기 라벨링 에지를 결정하도록 구현되는 것을 특징으로 하는 패널 정렬 장치
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제8항에 있어서,상기 에지 특징 매칭부는 상기 라벨링 에지와 기준 마크의 템플릿 모델에 대한 매칭 오차율을 산출하고, 상기 매칭 오차율을 기반으로 상기 라벨링 에지와 상기 템플릿 모델 간의 매칭률을 산출하고, 상기 매칭률을 기반으로 상기 라벨링 에지가 상기 복수의 기준 마크 중 하나의 기준 마크에 대응되는지 여부를 판단하도록 구현되고,상기 매칭률은 상기 라벨링 에지의 길이 및 상기 템플릿 모델의 에지의 길이를 기반으로 산출되는 것을 특징으로 하는 패널 정렬 장치
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제9항에 있어서,상기 복수의 기준 마크는 제1 기준 마크 및 제2 기준 마크를 포함하고,상기 회전 각도는 아래의 수학식을 기반으로 산출되고, 003c#수학식003e#상기 x1은 상기 제1 기준 마크의 x 축 상의 위치, 상기 y1은 상기 제1 기준 마크의 y 축 상의 위치, 상기 x2은 상기 제2 기준 마크의 x 축 상의 위치, 상기 y2은 상기 제2 기준 마크의 y 축 상의 위치인 것을 특징으로 하는 패널 정렬 장치
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