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내부를 수직으로 관통하는 통로를 포함하는 제1 지지체층; 및 상기 제1 지지체층 상부에 형성되며, 내부를 수직으로 관통하는 통로를 포함하는 제2 지지체층;을 포함하는 필름으로서, 제1 지지체층 통로의 직경이 제2 지지체층 통로의 직경보다 작고, 제1 지지체층의 통로 전체가 제2 지지체층 통로와 연결되며,상기 제1 지지체층은 비다공성 고분자 재질이고, 제2 지지체층은 다공성 소수성 고분자 재질인, 평면 이중 지질막 제조용 필름
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제1항에 있어서, 상기 제1 지지체층의 표면은 개질되지 않거나, 또는 개질되며, 상기 제1 지지체층의 표면이 개질되는 경우, 상기 제1 지지체층의 표면 전체가 개질되거나, 또는 제1 지지체층의 통로 및 통로의 인근 지역만을 선택적으로 개질시키거나, 제1 지지체층의 통로 및 통로의 인근을 제외한 지역만을 선택적으로 개질시키는 것인, 평면 이중 지질막 제조용 필름
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제2항에 있어서, 상기 제1 지지체층의 표면 개질은, 상기 제1 지지체층의 통로 주변 표면 0
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제1항에 있어서, 상기 제1 지지체층의 하부 및 상기 제2 지지체층의 상부 중에서 선택되는 어느 하나 이상의 면은 친수성의 코팅막을 더 구비한 것인, 평면 이중 지질막 제조용 필름
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제1항에 있어서, 제1 지지체층에 형성된 통로의 직경은 20 nm 내지 500 ㎛인, 평면 이중 지질막 제조용 필름
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제1항에 있어서, 제2 지지체층에 형성된 통로의 직경은 40 nm 내지 1 mm인, 평면 이중 지질막 제조용 필름
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7
제1항에 있어서, 제1 지지체층의 두께가 10 nm 내지 100 ㎛인, 평면 이중 지질막 제조용 필름
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8
제1항에 있어서, 제2 지지체층의 두께가 500 nm 내지 200 ㎛인, 평면 이중 지질막 제조용 필름
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제1항에 있어서, 상기 평면 이중 지질막 제조용 필름은,제2 지지체층 상부에 형성된 제3 지지체층; 및 제1 지지체층 하부에 형성된 제4 지지체층;을 더 포함하고,제3 지지체층은 내부를 수직으로 관통하는 통로을 포함하며, 제3 지지체층의 통로의 직경은 제2 지지체층의 통로보다 직경이 크고, 상기 제2 지지체층의 통로 전체가 제3 지지체층의 통로와 연결되고,제4 지지체층은 내부를 수직으로 관통하는 통로을 포함하며, 제4 지지체층의 통로의 직경은 제1 지지체층의 통로보다 직경이 크고, 상기 제1 지지체층 통로의 전체는 제4 지지체층 통로와 연결되는, 평면 이중 지질막 제조용 필름
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삭제
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제9항에 있어서, 제4 지지체층은 표면이 친수성으로 개질된 고분자 층인, 평면 이중 지질막 제조용 필름
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제1항에 있어서,제1 지지체층, 제2 지지체층은 각각 독립적으로 단층 내지 5층으로 구성된 것인, 평면 이중 지질막 제조용 필름
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1) 웨이퍼상에 폴리디메틸실록산을 떨어뜨린 뒤 스핀코팅하여 필름을 형성하고, 통로를 형성시키는, 제2 지지체층 제조 단계;2) 제2 지지체층 하부에 비다공성 소수성 필름을 부착하는 단계; 및3) 비다공성 소수성 필름에 통로을 형성시켜 제1 지지체층을 제조하되, 상기 통로 전체가 제2 지지체층의 통로와 연결되도록 배치하는 단계;를 포함하는, 평면 이중 지질막 제조용 필름의 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 제2 지지체층 상부에 내부를 관통하는 통로가 형성된 비다공성 친수성의 제3 지지체층을 부착하는 단계;를 더 포함하는, 평면 이중 지질막 제조용 필름의 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 제1 지지체층 하부에 표면이 친수성으로 개질된 고분자 층인 제4 지지체층을 형성시키는 단계;를 더 포함하는, 평면 이중 지질막 제조용 필름의 제조방법
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