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식물의 전기전도도 측정용 마이크로 니들 프로브에 있어서,기판; 상기 기판 위에 설치되며 식물의 수액과 접촉하여 수액의 전기전도도를 측정하는 복수개의 전극; 상기 전극으로부터 소정 거리 이격되면서 상기 전극을 덮는 봉지부; 및상기 봉지부의 상면에 형성되는 금속 도금층을 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브
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청구항 1에 있어서,상기 봉지부에는 관통 구멍이 형성되어 식물의 수액이 상기 전극이 수용되어 있는 상기 봉지부 내의 측정 부피 공간 내로 유입되어 상기 전극과 접촉하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브
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청구항 1에 있어서,상기 기판의 일 단부가 예리하게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브
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청구항 1에 있어서,상기 기판 중에서 식물에 삽입되는 측에 위치하는 박육부(薄肉部)는 반대 측에 위치하는 후육부(厚肉部)에 비하여 두께가 얇게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브
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청구항 1에 있어서,상기 기판 중에서 식물에 삽입되는 측과 반대측에 위치하며, 상기 기판의 폭 방향으로의 크기가 점차 커지도록 테이퍼진 경사면이 설치되어 있는 베이스부에 상기 기판의 길이 방향으로 돌출부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브
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청구항 1에 있어서,상기 전극은 2개가 한 쌍을 이루어 사용되는 2극 측정 셀 전극으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브
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청구항 6에 있어서,상기 전극을 서로 다른 2개가 한 쌍을 이루도록 조합하여 2극 측정 셀 조합을 구성하고, 상기 2극 측정 셀 조합의 각각의 2극 측정 셀의 측정값에 기초하여 해당 2극 측정 셀의 식물체 내의 위치를 확인하는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브
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청구항 1에 있어서,상기 전극의 표면에는 복수개의 금 나노로드가 돌출되도록 형성되어 상기 전극의 표면적이 커지도록 구성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브
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청구항 2에 있어서,상기 봉지부의 관통 구멍을 통하여 식물의 수액은 통과할 수 있지만, 외부 입자나 식물의 조직이 통과할 수 없는 크기로 구성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브
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청구항 1에 있어서, 상기 전극과 연결되는 BUS 선을 외부 터미널과 연결하고 패키징하는 컨택트 패드를; 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브
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청구항 1에 있어서,상기 마이크로 니들 프로브는 길이 방향으로 100㎛ 내지 1cm, 두께 방향으로 10 내지 300㎛, 폭 방향으로 100 내지 500㎛의 수치 범위로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브
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식물의 전기전도도 측정 장치에 있어서,교류전류를 발생시키는 교류전류 발생부와;상기 교류전류 발생부의 구동에 필요한 전원을 공급하는 전원 공급부와;청구항 1 내지 청구항 9, 청구항 11 및 청구항 12 중 어느 한 항에 기재된 마이크로 니들 프로브로서, 상기 교류전류 발생부로부터 교류전류를 전달받고 식물에 삽입되어 목부 내의 수액과 접촉하여 측정 회로를 구성하는 마이크로 니들 프로브와;상기 마이크로 니들 프로브로부터 측정되는 값으로부터 수액의 전기전도도 값을 산출하는 제어부를; 포함하는 것을 특징으로 하는 식물의 전기전도도 측정 장치
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청구항 13에 있어서,상기 마이크로 니들 프로브는 복수개로 구성되어 식물의 복수 지점에서의 전기전도도값을 산출하는 것을 특징으로 하는 식물의 전기전도도 측정 장치
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식물의 전기전도도 측정용 마이크로 니들 프로브를 제조하는 방법에 있어서,기판 상에 실리콘 산화층을 형성하는 단계;상기 실리콘 산화층 상에 전극을 형성하는 단계; 및상기 전극을 덮는 봉지부를 형성하는 단계;를 포함하고,상기 봉지부를 형성하는 단계는,상기 봉지부 내의 공동을 형성하기 위하여 상기 전극을 덮는 희생층을 패터닝하는 단계;상기 희생층 위에 시드 레이어(seed layer)를 형성하는 단계;상기 봉지부의 관통구멍을 설치하기 위해 상기 시드 레이어 상에 몰드를 형성하는 단계;상기 시드 레이어 상에 전기도금을 수행하여 금속 도금층을 형성하는 단계; 및상기 몰드와 상기 희생층을 제거하여 상기 봉지부에 상기 관통구멍과 상기 공동을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브 제조방법
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청구항 15에 있어서,상기 전극을 형성하는 단계는 양극 산화 알루미늄(AAO)) 템플릿을 형성하고 전기도금하여 금 나노로드가 상기 전극 표면에 다수 돌출하여 형성되도록 하는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브 제조방법
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청구항 15에 있어서,상기 기판의 일 단부를 실리콘 불순물 도핑과 선택적인 에칭을 수행하여 예리하게 형성하는 단계를; 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 니들 프로브 제조방법
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