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하기 화학식 1로 나타내는 것을 특징으로 하는, 가돌리늄 착물;[화학식 1]상기 화학식 1에서,Linker는 *-(CH2)n-A-*를 나타내고,n은 0 내지 5 중 어느 하나의 정수를 나타내고,A는 *-COO-*, *-CO-*, *-CONH-*, *-O-* 또는 *-C5N(RaRb)-*를 나타내며,R은 수소원자, 히드록시기, 탄소수 1 내지 5를 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 5를 갖는 알콕시기, 탄소수 5 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 4 내지 20을 갖는 헤테로아릴기 또는 *-NR1R2를 나타내며,Ra, Rb, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1 내지 5를 갖는 알킬기를 나타낸다
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제1항에 있어서,상기 화학식 1로 나타내는 가돌리늄 착물은, 하기 화학식 2로 나타내는 것을 특징으로 하는, 가돌리늄 착물;[화학식 2] 이때, 상기 화학식 2에서 R은 수소원자, 히드록시기, 탄소수 1 내지 5를 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 5를 갖는 알콕시기, 탄소수 5 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 4 내지 20을 갖는 헤테로아릴기 또는 *-NR1R2를 나타내며, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1 내지 5를 갖는 알킬기를 나타낸다
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제2항에 있어서,상기 화학식 2에서 R은 디메틸아민기인 것을 특징으로 하는, 가돌리늄 착물
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제1항에 있어서,상기 화학식 1로 나타내는 가돌리늄 착물은, 하기 화학식 3으로 나타내는 것을 특징으로 하는, 가돌리늄 착물;[화학식 3]이때, 상기 화학식 3에서 R은 수소원자, 히드록시기, 탄소수 1 내지 5를 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 5를 갖는 알콕시기, 탄소수 5 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 4 내지 20을 갖는 헤테로아릴기 또는 *-NR1R2를 나타내며, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1 내지 5를 갖는 알킬기를 나타낸다
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제4항에 있어서,상기 화학식 3에서 R은 디메틸아민기인 것을 특징으로 하는, 가돌리늄 착물
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제1항에 있어서,가돌리늄이 적어도 1 이상의 물 분자와 배위하는 것을 특징으로 하는, 가돌리늄 착물
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7
제1항에 있어서,7T 이상의 고자기장 범위에서 4 mM-1s-1 이상의 자기이완도를 나타내는 것을 특징으로 하는, 가돌리늄 착물
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8
제1항에 있어서,역전 시간(inversion time)에 기반하여 얻어진 T1 이완시간에 의존하는 자기이완도(r1)와, 에코 시간(echo time)에 기반하여 얻어진 T2 이완시간에 의존하는 자기이완도(r2)가 7T 이상의 고자기장 범위에서 모두 4 mM-1s-1 이상으로 나타나는 것을 특징으로 하는,가돌리늄 착물
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9
제1항에 있어서,7T 내지 10T의 고자기장 범위에서 4 mM-1s-1 내지 7 mM-1s-1 의 자기이완도를 나타내는 것을 특징으로 하는, 가돌리늄 착물
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하기 화학식 1로 나타내는 가돌리늄 착물을 포함하는 것을 특징으로 하는, MRI 조영제;[화학식 1]상기 화학식 1에서,Linker는 *-(CH2)n-A-*를 나타내고,n은 0 내지 5 중 어느 하나의 정수를 나타내고,A는 *-COO-*, *-CO-*, *-CONH-*, *-O-* 또는 *-C5N(RaRb)-*를 나타내며,R은 수소원자, 히드록시기, 탄소수 1 내지 5를 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 5를 갖는 알콕시기, 탄소수 5 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 4 내지 20을 갖는 헤테로아릴기 또는 *-NR1R2를 나타내며,Ra, Rb, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1 내지 5를 갖는 알킬기를 나타낸다
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제10항에 있어서,7T 내지 10T의 고자기장 범위에서 4 mM-1s-1 내지 7 mM-1s-1 의 자기이완도를 나타내는 것을 특징으로 하는,MRI 조영제
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제10항에 있어서,역전 시간(inversion time)에 기반하여 얻어진 T1 이완시간에 의존하는 자기이완도(r1)와, 에코 시간(echo time)에 기반하여 얻어진 T2 이완시간에 의존하는 자기이완도(r2)가 7T 이상의 고자기장 범위에서 모두 4 mM-1s-1 이상으로 나타나는 것을 특징으로 하는,MRI 조영제
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제10항에 있어서,상기 화학식 1로 나타내는 가돌리늄 착물은가돌리늄에 배위된 적어도 1 이상의 물 분자를 포함하는 것을 특징으로 하는,MRI 조영제
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제10항에 있어서,베타아밀로이드를 표적하는 것을 특징으로 하는, MRI 조영제
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하기 화학식 1-1로 나타내는 찰콘계 화합물을 합성하는 단계;[화학식 1-1]상기 화학식 1-1로 나타내는 화합물을 이용하여 하기 화학식 1-2로 나타내는 화합물을 합성하는 단계;[화학식 1-2]상기 화학식 1-2로 나타내는 화합물 이용하여 하기 화학식 1-3으로 나타내는 리간드를 형성하는 단계; 및[화학식 1-3]상기 화학식 1-3으로 나타내는 화합물과 가돌리늄 클로라이드 헥사하이드레이트를 이용하여 하기 화학식 1로 나타내는 가돌리늄 착물을 합성하는 단계를 포함한다
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제15항에 있어서,상기 찰콘계 화합물을 합성하는 단계는메탄올(methanol)에 p-하이드록시아세토페논(p-hydroxyacetophenone)과 KOH 수용액, p-디메틸아미노벤즈알데히드(p-dimethylaminobenzaldehyde)를 혼합하여 반응시켜 침전물을 얻는 단계; 및상기 침전물과 1,3-디브로모프로판을 반응시켜 상기 화학식 1-1에서 R은 디메틸아민기이고 n이 3이고 A는 *-O-*이며 X는 Br인 화합물을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는,가돌리늄 착물의 제조 방법
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제15항에 있어서,상기 찰콘계 화합물을 합성하는 단계는에탄올(ethanol)에 4′-아미노아세토페논(4′-aminoacetophenone)과 KOH 수용액, p-디메틸아미노벤즈알데히드(p-dimethylaminobenzaldehyde)를 혼합하여 반응시켜 침전물을 얻는 단계; 및상기 침전물과 클로로아세틸 클로라이드(chloroacetyl chloride)을 반응시켜 상기 화학식 1-1에서 R은 디메틸아민기이고 n이 1이고 A는 *-CONH-*이며 X는 Cl인 화합물을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는,가돌리늄 착물의 제조 방법
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