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베어 알루미늄 합금(bare aluminum alloy)으로 이루어진 모재(母材), 및 상기 모재의 표면에 적층된 보호 피막을 구비한 것으로, 상기 보호 피막은, 무공질(無孔質) 산화알루미늄으로 이루어지며, 200 내지 700nm 두께로 상기 모재(母材)의 표면에 적층된 무공질 양극 산화층; 및, 물리적 기상 증착(PVD)에 의해 상기 무공질 양극 산화층 상에 적층되는 것으로, 알루미늄(Al)을 포함하여 이루어지며, 두께가 1 내지 20㎛ 인 보강층;을 구비하는 것을 특징으로 하는, 보호 피막을 구비한 알루미늄 부재
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제1 항에 있어서,상기 모재에는 내경이 0
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표면에 보호 피막을 구비한 알루미늄 부재를 제조하는 방법으로서, 베어 알루미늄 합금(bare aluminum alloy)으로 이루어진 모재(母材)의 표면에, 무공질(無孔質) 산화알루미늄으로 이루어지며 두께가 200 내지 700nm 인 무공질 양극 산화층을 적층하는 무공질 양극 산화층 적층 단계; 및, 상기 무공질 양극 산화층 상에 알루미늄(Al)을 물리적 기상 증착(PVD; physical vapor deposition)하여, 알루미늄을 포함하여 이루어지며 두께가 1 내지 20㎛ 인 보강층을 적층하는 알루미늄 PVD 단계;를 구비하는 것을 특징으로 하는, 보호 피막을 구비한 알루미늄 부재의 제조 방법
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제3 항에 있어서,상기 알루미늄 PVD 단계는, 산소(O2) 기체가 채워진 환경에서 순수 알루미늄(pure aluminum)을 물리적 기상 증착하는 단계를 구비하고,상기 알루미늄 PVD 단계를 통해 형성된 보강층은 산화알루미늄(Al2O3)으로 이루어진 것을 특징으로 하는, 보호 피막을 구비한 알루미늄 부재의 제조 방법
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제4 항에 있어서,상기 산화알루미늄(Al2O3)으로 이루어진 보강층은 상기 산소(O2) 기체가 채워진 환경에서 순수 알루미늄을 물리적 기상 증착하는 단계를 복수 회 반복하여 적층 형성되고, 상기 산소 기체가 채워진 환경에서 순수 알루미늄을 물리적 기상 증착하는 단계를 1회 수행할 때 상기 보강층의 두께가 0
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제3 항에 있어서,상기 알루미늄 PVD 단계는, 질소(N2) 기체가 채워진 환경에서 순수 알루미늄(pure aluminum)을 물리적 기상 증착하는 단계를 구비하고,상기 알루미늄 PVD 단계를 통해 형성된 보강층은 질화알루미늄(AlN)으로 이루어진 것을 특징으로 하는, 보호 피막을 구비한 알루미늄 부재의 제조 방법
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제6 항에 있어서,상기 질화알루미늄(AlN)으로 이루어진 보강층은 상기 질소(N2) 기체가 채워진 환경에서 순수 알루미늄을 물리적 기상 증착하는 단계를 복수 회 반복하여 적층 형성되고, 상기 질소 기체가 채워진 환경에서 순수 알루미늄을 물리적 기상 증착하는 단계를 1회 수행할 때 상기 보강층의 두께가 0
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제3 항에 있어서,상기 보강층은 순수 알루미늄(pure aluminum)으로 이루어진 것을 특징으로 하는, 보호 피막을 구비한 알루미늄 부재의 제조 방법
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제3 항에 있어서,상기 모재에는 내경이 0
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제3 항에 있어서,상기 무공질 양극 산화층 적층 단계는, 상기 모재를 중성 전해액(neutral electrolyte)에 침잠시키고, 상기 모재를 양극으로 하여 전기 분해하는 중성 전해액 전기 분해 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는, 보호 피막을 구비한 알루미늄 부재의 제조 방법
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제10 항에 있어서,상기 무공질 양극 산화층 적층 단계 이후에, 진공 환경 또는 질소 기체가 채워진 환경에서 상기 무공질 양극 산화층이 적층된 모재를 열처리하는 열처리 단계;를 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 보호 피막을 구비한 알루미늄 부재의 제조 방법
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