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플레시블 다층 투명 전극의 제조 방법
- 기술번호 : KST2014035649
- 담당센터 :
- 전화번호 :
| 요약 | 본 발명은 다층 투명 전극의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로 실리콘옥시나이트라이드/은/실리콘옥시나이트라이드의 구조를 가지는 다층 투명 전극에서 실리콘옥시나이트라이드의 하부/상부 산화물층 또는 은 금속층을 스퍼터링 공정에 의해 형성시 주입되는 아르곤 기체 또는 산소 기체의 유량을 조절하여 다층 투명 전극의 전도도와 투과도를 제어할 수 있는 다층 투명 전극의 제조 방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 다층 투명 전극은 실리콘옥시나이트라이드의 하부 산화물/은/실리콘옥시나이트라이드 상부 산화물을 이용함으로써, 낮은 제조 단가로 다층 투명 전극을 제조할 수 있다. 또한 본 발명에 따른 다층 투명 전극은 스퍼터링 공정시 주입되는 산소 유량에 따라 투명 전극의 전도성을 제어함으로써, 요구되는 투명 전극의 전도성을 용이하게 조절할 수 있으며, 전도성의 투명 전극과 부도성의 박막을 동일한 타겟을 이용하여 동시에 제조할 수 있다. |
|---|---|
| Int. CL | H01B 13/00 (2006.01) H01B 5/14 (2006.01) H01L 51/50 (2006.01) |
| CPC | H01L 51/5215(2013.01) H01L 51/5215(2013.01) H01L 51/5215(2013.01) H01L 51/5215(2013.01) H01L 51/5215(2013.01) H01L 51/5215(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020100090385 (2010.09.15) |
| 출원인 | 경희대학교 산학협력단 |
| 등록번호/일자 | 10-1145916-0000 (2012.05.07) |
| 공개번호/일자 | 10-2012-0028506 (2012.03.23) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20120515) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 등록 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2010.09.15) |
| 심사청구항수 | 8 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 경희대학교 산학협력단 | 대한민국 | 경기도 용인시 기흥구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김한기 | 대한민국 | 경기도 수원시 영통구 |
| 2 | 조충기 | 대한민국 | 대구광역시 달성군 다사읍 서재 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 서재승 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 봉은사로 ***-*(논현동) ***호(스카이국제특허사무소) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 립하이 주식회사 | 충청남도 아산시 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2010.09.15 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0599133-83 |
| 2 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.10.20 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0604838-52 |
| 3 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2011.12.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-1015117-80 |
| 4 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2012.01.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0035886-30 |
| 5 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2012.01.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0035762-88 |
| 6 | 등록결정서 Decision to grant |
2012.05.01 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0258114-88 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.03.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5029677-09 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.08.19 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5164254-26 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 산화물과 금속으로 이루어진 다층 투명 전극의 제조 방법에 있어서,투명 기판 위에 실리콘옥시나이트라이드 타켓을 이용하여 스퍼터링 공정으로 하부 산화물층을 형성하는 단계;상기 형성한 하부 산화물층의 상면에 은 타켓을 이용하여 스퍼터링 공정으로 은 금속층을 형성하는 단계; 및상기 형성한 은 금속층의 상면에 실리콘옥시나이트라이드 타겟을 이용하여 스퍼터링 공정으로 상부 산화물층을 형성하는 단계를 포함하며,상기 투명 전극의 전도도 또는 투과도는 상기 하부 산화물층, 은 금속층 또는 상기 상부 산화물층 형성을 위한 스퍼터링 공정시 주입되는 아르곤 기체 또는 산소 기체의 유량에 따라 제어되는 것을 특징으로 하는 투명 전극의 제조 방법 |
| 2 |
2 제 1 항에 있어서, 상기 하부 산화물층, 은 금속층 또는 상기 상부 산화물층의 형성을 위한 스퍼터링 공정시 주입되는 산소 기체의 유량이 0 |
| 3 |
3 삭제 |
| 4 |
4 제 2 항에 있어서,상기 투명 전극의 투과도를 가시광선 대역에서 80% 이상으로 유지하기 위하여 상기 하부 산화물층, 은 금속층 또는 상기 상부 산화물층의 형성을 위한 스퍼터링 공정시 주입되는 산소 기체의 유량은 0 |
| 5 |
5 산화물과 금속으로 이루어진 다층 구조의 투명 전극에 있어서,상기 투명 전극은 투명 기판;상기 투명 기판의 상면에 실리콘옥시나이트라이드 타켓을 이용하여 스퍼터링 공정으로 형성되는 하부 산화물층;상기 하부 산화물층의 상면에 은 타켓을 이용하여 스퍼터링 공정으로 형성되는 은 금속층; 및상기 은 금속층의 상면에 실리콘옥시나이트라이드 타켓을 이용하여 스퍼터링 공정으로 형성되는 상부 산화물층을 포함하며,상기 하부 산화물층, 은 금속층 또는 상기 상부 산화물층의 형성을 위한 스퍼터링 공정시 주입되는 아르곤 기체 또는 산소 기체의 유량에 따라 상기 투명 전극의 전도도 또는 투과도가 제어되는 것을 특징으로 하는 투명 전극 |
| 6 |
6 제 5 항에 있어서, 상기 하부 산화물층, 은 금속층 또는 상기 상부 산화물층의 형성을 위한 스퍼터링 공정시 주입되는 산소 기체의 유량이 0 |
| 7 |
7 삭제 |
| 8 |
8 제 6 항에 있어서,상기 투명 전극의 투과도를 가시광선 대역에서 80% 이상으로 유지하기 위하여 상기 하부 산화물층, 은 금속층 또는 상기 상부 산화물층의 형성을 위한 스퍼터링 공정시 주입되는 산소 기체의 유량은 0 |
| 9 |
9 제 5 항에 있어서, 상기 은 금속층의 두께는8nm 내지 12nm인 것을 특징으로 하는 투명 전극 |
| 10 |
10 제 5 항에 있어서, 상기 하부 산화물층 또는 상부 산화물층의 두께는30nm 내지 100nm인 것을 특징으로 하는 투명 전극 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 경기도 | 경희대학교 산학협력단 | 국제공동연구사업 | 차세대 Flexible Display 핵심 재료부품 연구 |
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1145916-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20100915 출원 번호 : 1020100090385 공고 연월일 : 20120515 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20120501 청구범위의 항수 : 8 유별 : H01B 5/14 발명의 명칭 : 플렉시블 다층 투명 전극의 제조 방법 존속기간(예정)만료일 : |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 경희대학교 산학협력단 경기도 용인시 기흥구... |
| 2 |
(권리자) 립하이 주식회사 충청남도 아산시 ... |
| 2 |
(의무자) 경희대학교 산학협력단 경기도 용인시 기흥구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 178,500 원 | 2012년 05월 08일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 151,200 원 | 2015년 04월 17일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 151,200 원 | 2016년 04월 15일 | 납입 |
| 제 6 년분 | 금 액 | 151,200 원 | 2017년 05월 04일 | 납입 |
| 제 7 년분 | 금 액 | 404,000 원 | 2018년 03월 02일 | 납입 |
| 제 8 년분 | 금 액 | 202,000 원 | 2019년 04월 26일 | 납입 |
| 제 9 년분 | 금 액 | 202,000 원 | 2020년 04월 22일 | 납입 |
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2010.09.15 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0599133-83 |
| 2 | 의견제출통지서 | 2011.10.20 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0604838-52 |
| 3 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2011.12.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-1015117-80 |
| 4 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2012.01.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0035886-30 |
| 5 | [명세서등 보정]보정서 | 2012.01.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0035762-88 |
| 6 | 등록결정서 | 2012.05.01 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0258114-88 |
| 7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.03.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5029677-09 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.08.19 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5164254-26 |
| 기술번호 | KST2014035649 |
|---|---|
| 자료제공기관 | NTB |
| 기술공급기관 | 기술보증기금(신탁) |
| 기술명 | 플레시블 다층 투명 전극의 제조 방법 |
| 기술개요 |
본 발명은 다층 투명 전극의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로 실리콘옥시나이트라이드/은/실리콘옥시나이트라이드의 구조를 가지는 다층 투명 전극에서 실리콘옥시나이트라이드의 하부/상부 산화물층 또는 은 금속층을 스퍼터링 공정에 의해 형성시 주입되는 아르곤 기체 또는 산소 기체의 유량을 조절하여 다층 투명 전극의 전도도와 투과도를 제어할 수 있는 다층 투명 전극의 제조 방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 다층 투명 전극은 실리콘옥시나이트라이드의 하부 산화물/은/실리콘옥시나이트라이드 상부 산화물을 이용함으로써, 낮은 제조 단가로 다층 투명 전극을 제조할 수 있다. 또한 본 발명에 따른 다층 투명 전극은 스퍼터링 공정시 주입되는 산소 유량에 따라 투명 전극의 전도성을 제어함으로써, 요구되는 투명 전극의 전도성을 용이하게 조절할 수 있으며, 전도성의 투명 전극과 부도성의 박막을 동일한 타겟을 이용하여 동시에 제조할 수 있다. |
| 개발상태 | 기술개발완료 |
| 기술의 우수성 | |
| 응용분야 | 전극 제조 방법 |
| 시장규모 및 동향 | |
| 희망거래유형 | 기술매매, |
| 사업화적용실적 | |
| 도입시고려사항 |
| 과제고유번호 | 1415127557 |
|---|---|
| 세부과제번호 | B0008316 |
| 연구과제명 | 디스플레이부품소재 지역혁신센터 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 지식경제부 |
| 연구주관기관명 | 경희대학교 산학협력단 |
| 성과제출연도 | 2012 |
| 연구기간 | 200412~201402 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 개발연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
특허성과
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| 심판사항 정보가 없습니다 |
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