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(1) 질산(HNO3), 염산(HCl), 황산(H2SO4), 인산(H3PO4) 및 과산화수소(H2O2)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함한 산화제 용액을 이용하여 탄소나노튜브의 표면을 산 처리하고, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸알콜, 에틸알콜, 이소프로필알콜, 부틸알콜, 에틸렌글라이콜, 폴리에틸렌글라이콜, 테트라하이드로푸란, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아마이드, N-메틸-2-피롤리돈, 헥산, 사이클로헥사논, 톨루엔, 클로로포름, 증류수, 디클로로벤젠, 디메틸벤젠, 트리메틸벤젠, 피리딘, 메틸나프탈렌, 니트로메탄, 아클릴로니트릴, 옥타데실아민, 아닐린 및 디메틸설폭사이드로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 용매에 분산시켜 탄소나노튜브의 분산액을 제조하는 단계; (2) 표면처리제로서, 3-트리메톡시실릴 프로필 메타크릴레이트와 불소의 모노머를 개시제인 2,2-아조비스이소부티로니트릴 하에서 라디칼 중합 반응함으로써 합성하여 불소 고분자 용액을 제조하는 단계; (3) 상기 탄소나노튜브의 분산액과 불소 고분자 용액을 10 : 1 ~ 10의 부피비로 혼합하여 분산시키는 단계; 및 (4) 상기 (3) 단계의 혼합액을 스프레이, 딥 코팅, 스핀코팅, 스크린코팅, 잉크젯프린팅, 패드프린팅, 나이프코팅, 키스코팅 및 그라비아코팅 중에서 선택된 어느 하나의 방법으로 기판에 코팅하여 탄소나노튜브 필름을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브를 이용한 투명전도성 및 초소수성 필름의 제조방법
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