요약 | 본 발명은 강유전성 전계효과 트랜지스터에 있어서, 게이트전극의 누설전류를 차단하기 위한 방법으로서, P(S-r-MMA)(poly(styrene-random-methylmethacrylate))를 게이트전극과 강유전성 고분자 게이트절연체 사이에 삽입층으로 사용하는 것을 특징으로 한다. PVDF-TrFE, 트랜지스터, 전계효과, 강유전성 고분자, 게이트 누설전류, FeFET, P(S-r-MMA) |
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Int. CL | H01L 29/78 (2006.01) |
CPC | H01L 27/11585(2013.01) H01L 27/11585(2013.01) H01L 27/11585(2013.01) H01L 27/11585(2013.01) H01L 27/11585(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020090099160 (2009.10.19) |
출원인 | 연세대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-1075620-0000 (2011.10.14) |
공개번호/일자 | 10-2011-0042479 (2011.04.27) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20111021) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2009.10.19) |
심사청구항수 | 10 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 연세대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 서대문구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 박철민 | 대한민국 | 서울특별시 마포구 |
2 | 장지연 | 대한민국 | 인천광역시 남구 |
3 | 류두열 | 대한민국 | 경기도 고양시 덕양구 |
4 | 신창학 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 |
5 | 김은경 | 대한민국 | 서울특별시 용산구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김윤보 | 대한민국 | 서울특별시 구로구 디지털로**길 ** ***호(구로동, 삼성아이티밸리)(특허법인현) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 연세대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 서대문구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2009.10.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0637530-63 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2010.12.22 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2011.01.19 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0005421-06 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.02.10 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0075890-52 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.02.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0101999-38 |
6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.02.14 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0101998-93 |
7 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.08.22 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0470303-94 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5252006-10 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5062749-37 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.06.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5088566-87 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5114224-78 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 게이트전극; 상기 게이트전극 상의 P(S-r-MMA)(poly(styrene-r-methylmethacrylate)) 박막; 상기 P(S-r-MMA) 상의 강유전성 고분자 게이트절연체; 상기 강유전성 고분자 게이트절연체 상의 반도체층; 및 상기 반도체층 상의 소스전극 및 드레인전극을 갖는 강유전성 전계효과 트랜지스터 |
2 |
2 제1항에서, 상기 강유전성 고분자 게이트절연체가 PVDF-TrFE(poly(vinylidene fluoride-co-trifluoroethylene)), PVDF(poly(vinylidene fluoride)), P(VDCN-alt-VAc)(poly(vinylidene cyanide-alt-vinylacetate)) 또는 Nylon 11 중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 강유전성 전계효과 트랜지스터 |
3 |
3 제1항에서, 상기 반도체층이 유기반도체인 것을 특징으로 하는 강유전성 전계효과 트랜지스터 |
4 |
4 제3항에서, 상기 유기반도체가 펜타센, TIPS-펜타센(Triisopropylsilylethynyl pentacene), P3HT(poly(3-hexylthiophene)) 또는 MEH-PPV(poly[2-methoxy-5-(2'-ethyl-hexyloxy)-1,4-phenylenevinylene])인 것을 특징으로 하는 강유전성 전계효과 트랜지스터 |
5 |
5 삭제 |
6 |
6 게이트전극 상에 P(S-r-MMA) 용액을 스핀코팅 및 가열에 의한 경화를 통하여 박막형태의 삽입층을 제조하는 단계(I); 상기 P(S-r-MMA) 삽입층 위에 강유전성 고분자 용액을 스핀코팅하여 박막형태의 강유전성 고분자 게이트절연체를 제조하는 단계(II); 상기 강유전성 고분자 게이트절연체 상에 반도체층을 형성시키는 단계(III); 및 상기 반도체층 상에 소스전극 및 드레인전극을 형성시키는 단계(IV)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 강유전성 전계효과 트랜지스터의 제조방법 |
7 |
7 제6항에서, 상기 단계(II)의 강유전성 고분자가 PVDF-TrFE, PVDF, P(VDCN-alt-VAc) 또는 Nylon 11 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 강유전성 전계효과 트랜지스터의 제조방법 |
8 |
8 제7항에서, 상기 단계(II)의 강유전성 고분자가 PVDF-TrFE인 것을 특징으로 하는 강유전성 전계효과 트랜지스터의 제조방법 |
9 |
9 제8항에서, 상기 단계(II)에서 PVDF-TrFE 용액의 스핀코팅 후 열적 어닐링 과정을 더 거치는 것을 특징으로 하는 강유전성 전계효과 트랜지스터의 제조방법 |
10 |
10 제6항에서, 상기 단계(III)의 반도체층으로서 유기반도체를 사용하는 것을 특징으로 하는 강유전성 전계효과 트랜지스터의 제조방법 |
11 |
11 제10항에서, 상기 유기반도체가 펜타센, TIPS-펜타센(Triisopropylsilylethynyl pentacene), P3HT(poly(3-hexylthiophene)) 또는 MEH-PPV(poly[2-methoxy-5-(2'-ethyl-hexyloxy)-1,4-phenylenevinylene])인 것을 특징으로 하는 강유전성 전계효과 트랜지스터의 제조방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
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순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 서울특별시 | 연세대학교 산학협력단 | 서울시 산학연 협력사업(2006년 기술기반구축사업) | 나노기술을 이용한 바이오 융합산업 혁신클러스터 |
특허 등록번호 | 10-1075620-0000 |
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표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20091019 출원 번호 : 1020090099160 공고 연월일 : 20111021 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20110822 청구범위의 항수 : 10 유별 : H01L 29/78 발명의 명칭 : P(S-r-MMA)를 삽입층으로 사용하는 강유전성 전계효과 트랜지스터 및 그 제조방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
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1 |
(권리자) 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 217,500 원 | 2011년 10월 14일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 182,000 원 | 2014년 08월 29일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 198,380 원 | 2016년 01월 05일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 182,000 원 | 2016년 10월 10일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 336,000 원 | 2017년 10월 11일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 240,000 원 | 2018년 10월 08일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 254,400 원 | 2019년 12월 05일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
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1 | [특허출원]특허출원서 | 2009.10.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0637530-63 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2010.12.22 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2011.01.19 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0005421-06 |
4 | 의견제출통지서 | 2011.02.10 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0075890-52 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.02.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0101999-38 |
6 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.02.14 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0101998-93 |
7 | 등록결정서 | 2011.08.22 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0470303-94 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5252006-10 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5062749-37 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.06.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5088566-87 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5114224-78 |
기술번호 | KST2014051546 |
---|---|
자료제공기관 | NTB |
기술공급기관 | 연세대학교 |
기술명 | FFM 소자 원천기술 개발 |
기술개요 |
본 발명은 강유전성 전계효과 트랜지스터에 있어서, 게이트전극의 누설전류를 차단하기 위한 방법으로서, P(S-r-MMA)(poly(styrene-random-methylmethacrylate))를 게이트전극과 강유전성 고분자 게이트절연체 사이에 삽입층으로 사용하는 것을 특징으로 한다. PVDF-TrFE, 트랜지스터, 전계효과, 강유전성 고분자, 게이트 누설전류, FeFET, P(S-r-MMA) |
개발상태 | 기술개발진행중 |
기술의 우수성 | |
응용분야 | 반도체 소재 |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | 라이센스, |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1345096876 |
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세부과제번호 | 과C6A2005 |
연구과제명 | 휴먼트로닉스정보소재사업단 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 연세대학교 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200603~201302 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
과제고유번호 | 1415109131 |
---|---|
세부과제번호 | 10030559 |
연구과제명 | 차세대 고성능 유기나노 소재 및 프린팅 공정기술 개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 서울대학교 |
성과제출연도 | 2010 |
연구기간 | 200709~201108 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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