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ＤＣ 바이어스를 이용한 리모트 플라즈마 원자층 증착 장치

  • 기술번호 : KST2014052441
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 내부 공간을 갖는 반응실, 반응실 내부 공간의 일측에 배치되고 박막 형성을 위한 기판이 안치되는 기판 지지대, 반응실의 외측에 설치되어 반응실 내부 공간으로 리모트 플라즈마를 공급하기 위한 리모트 플라즈마 발생부, 리모트 플라즈마의 에너지를 조절할 수 있는 DC 바이어스부와, 반응실 내부로 박막 형성을 위한 소오스 가스를 공급하는 소오스 가스 공급부를 포함하는 원자층 증착 장치가 개시된다.
Int. CL H01L 21/20 (2006.01)
CPC C23C 16/45544(2013.01) C23C 16/45544(2013.01) C23C 16/45544(2013.01) C23C 16/45544(2013.01)
출원번호/일자 1020030017385 (2003.03.20)
출원인 학교법인 한양학원
등록번호/일자 10-0529298-0000 (2005.11.10)
공개번호/일자 10-2004-0082738 (2004.09.30) 문서열기
공고번호/일자 (20051117) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2003.03.20)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 학교법인 한양학원 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전형탁 대한민국 서울특별시노원구
2 김언정 대한민국 서울특별시용산구
3 김주연 대한민국 서울특별시성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)
2 이해영 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)(리앤목특허법인)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 서울 성동구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2003.03.20 수리 (Accepted) 1-1-2003-0097044-45
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2005.02.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2005.03.16 수리 (Accepted) 9-1-2005-0015746-11
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2005.04.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0178287-71
5 의견서
Written Opinion		 2005.06.16 수리 (Accepted) 1-1-2005-0317956-33
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2005.06.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0317957-89
7 등록결정서
Decision to grant		 2005.09.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0458261-85
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2010-5123478-19
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2017-5139199-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
내부 공간을 갖는 반응실; 상기 반응실의 내부 공간의 일측에 배치되고 박막 형성을 위한 기판이 안치되는 기판 지지대;상기 반응실의 외측에 설치되어 상기 반응실 내부 공간으로 리모트 플라즈마를 공급하기 위한 리모트 플라즈마 발생부; 상기 리모트 플라즈마 발생부에서 발생하는 플라즈마의 이온과 전자의 에너지를 조절할 수 있는 DC 바이어스부; 및상기 반응실 내부로 박막 형성을 위한 소오스 가스를 공급하는 소오스 가스 공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 DC 바이어스를 이용한 리모트 플라즈마 원자층 증착 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 소오스 가스를 상기 반응실의 내부 공간으로 유입시키기 위한 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급부를 더 포함하고, 상기 리모트 플라즈마 발생부는 캐리어 가스 공급부와 연통된 것을 특징으로 하는 DC 바이어스를 이용한 리모트 플라즈마 원자층 증착 장치
3 3
제2항에 있어서, 상기 DC 바이어스부는 상기 캐리어 가스 공급부에 설치된 것을 특징으로 하는 DC 바이어스를 이용한 리모트 플라즈마 원자층 증착 장치
4 4
제2항에 있어서, 상기 소오스 가스 공급부는 샤워헤드를 포함하고, 상기 샤워헤드는 상기 캐리어 가스 공급부와 연결되어 있어, 상기 리모트 플라즈마가 상기 기판 측에 샤워 헤드 타입으로 제공되는 것을 특징으로 하는 DC 바이어스를 이용한 리모트 플라즈마 원자층 증착 장치
5 5
제4항에 있어서, 상기 샤워헤드는 상기 소오스 가스를 상기 반응실 내부로 분사하기 위한 분사홀과, 상기 분사홀과 별개로 상기 리모트 플라즈마를 공급하기 위한 관통홀을 구비하여, 상기 소오스 가스가 상기 리모트 플라즈마와 분리된 경로로 상기 기판 측에 샤워 헤드 타입으로 제공되는 것을 특징으로 하는 DC 바이어스를 이용한 리모트 플라즈마 원자층 증착 장치
6 5
제4항에 있어서, 상기 샤워헤드는 상기 소오스 가스를 상기 반응실 내부로 분사하기 위한 분사홀과, 상기 분사홀과 별개로 상기 리모트 플라즈마를 공급하기 위한 관통홀을 구비하여, 상기 소오스 가스가 상기 리모트 플라즈마와 분리된 경로로 상기 기판 측에 샤워 헤드 타입으로 제공되는 것을 특징으로 하는 DC 바이어스를 이용한 리모트 플라즈마 원자층 증착 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.