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초음속 유동 적층성형기술을 이용한 스퍼터링 타겟의 제조방법

  • 기술번호 : KST2014009583
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 초음속 유동 적층성형기술을 이용한 스퍼터링 타겟의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 대면적에서 결정립 크기를 균일하게 분포시키는 것이 어려울 뿐만 아니라 다양한 형상의 스퍼터링 타겟을 제조하는 것이 곤란하였던 종래기술에 비하여 타겟의 크기와 형상에 구애 받지 않고 스퍼터링 타겟을 용이하게 제조할 수 있는 신규한 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 스퍼터링 타겟의 제조방법은 모재를 준비하는 단계; 상기 모재의 표면에 초음속 유동 적층성형기술을 이용하여 스퍼터링 타겟용 원료 분말을 코팅하여 적층체를 형성하는 단계; 및 상기 모재 표면에 코팅된 적층체를 회수하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 스퍼터링, 초음파 유동 적층성형, 저온분사, 결정립
Int. CL C23C 14/34 (2006.01.01) C23C 24/04 (2006.01.01) C23C 14/04 (2006.01.01) C23C 14/02 (2006.01.01) C23C 14/14 (2006.01.01) H01L 21/203 (2006.01.01)
CPC C23C 14/34(2013.01) C23C 14/34(2013.01) C23C 14/34(2013.01) C23C 14/34(2013.01) C23C 14/34(2013.01) C23C 14/34(2013.01)
출원번호/일자 1020080046704 (2008.05.20)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0994973-0000 (2010.11.11)
공개번호/일자 10-2009-0120751 (2009.11.25) 문서열기
공고번호/일자 (20101118) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.05.20)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이창희 대한민국 서울 송파구
2 최한신 대한민국 경기도 고양시 일산서구
3 강기철 대한민국 경남 마산시 구
4 김형준 대한민국 경상북도 포항시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.05.20 수리 (Accepted) 1-1-2008-0356967-08
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.06.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.07.14 수리 (Accepted) 9-1-2009-0041250-70
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0213553-40
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.06.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0408301-23
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2010-0408300-88
7 등록결정서
Decision to grant
2010.11.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0503455-43
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
모재를 준비하는 단계; 상기 모재의 표면에 초음속 유동 적층성형기술을 이용하여 스퍼터링 타겟용 원료 분말을 코팅하여 적층체를 형성하는 단계; 및 상기 모재 표면에 코팅된 적층체를 회수하는 단계;를 포함하고, 상기 초음파 유동 적층성형기술에서 사용되는 공정 가스의 온도는 450~550℃인 것을 특징으로 하는 스퍼터링 타겟의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서, 초음속 유동 적층성형기술을 이용하여 스퍼터링 타겟용 원료분말을 코팅할 때, 원하는 형상의 스퍼터링 타겟에 대응하는 마스크를 이용하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 타겟의 제조방법
3 3
제 1 항에 있어서, 스퍼터링 타겟의 형상이 튜브형일 경우, 회전하는 원통 또는 튜브 형상의 모재 표면에 분말을 초음속 유동 적층성형기술을 이용하여 분사하여 스퍼터링 타겟 형상의 코팅을 형성한 후 상기 타겟을 모재로부터 분리하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 타겟의 제조방법
4 4
삭제
5 5
제 1 항에 있어서, 초음파 유동 적층성형기술에서 사용되는 공정 가스의 압력은 2
6 6
제 1 항에 있어서, 스퍼터링 타겟 제조용 분말의 직경은 5~200㎛인 것을 특징으로 하는 스퍼터링 타겟의 제조방법
7 7
제 1 항에 있어서, 원료분말을 코팅하기 이전에 모재의 표면에 조도를 부여하기 위하여 전처리를 실시하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 타겟의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술부 한양대학교 산학협력단 국가지정연구실 사업 Kinetic spray 코팅 기술의 과학적 이론기반 구축 및응용기술개발