| 1 |
1
기판을 준비하는 제1 공정;상기 기판의 일면에 제1 박막을 형성하는 제2 공정;상기 제1 박막의 일면에 제1 버퍼층을 형성하는 제3 공정;상기 제1 버퍼층의 일면에 Mg 또는 Mg 합금으로 제2 박막을 형성하는 제4 공정;상기 제2 박막의 일면에 제2 버퍼층을 형성하는 제5 공정;상기 제2 버퍼층의 일면에 제3 박막을 형성하는 제6 공정; 및상기 제3 공정 내지 제6 공정을 반복하여 상기 기판의 일면에 다수의 박막 배열체를 형성하는 제7 공정을 포함하고,상기 제1 버퍼층 및 제2 버퍼층은 Ti층 또는 그래핀(graphene)층인 수소저장합금의 제조방법
|
| 2 |
2
제 1항에 있어서,상기 제3 공정 내지 제6 공정의 반복은 65회 이하로 실시하는 수소저장합금의 제조방법
|
| 3 |
3
제 1항에 있어서,상기 기판이 탄성 기판일 경우, 상기 탄성 기판 일면에 다수의 박막 배열체를 형성한 후 상기 탄성 기판에 인장력을 가하여 상기 박막 배열체의 표면에서 내부로 다수의 나노 갭(nano-gap)을 형성하는 제8 공정을 더 포함하는 수소저장합금의 제조방법
|
| 4 |
4
제 1항에 있어서,상기 기판은 Si 기판인 수소저장합금의 제조방법
|
| 5 |
5
제 3항에 있어서,상기 탄성 기판은 PDMS(polydimethylsiloxane) 기판인 수소저장합금의 제조방법
|
| 6 |
6
제 1항에 있어서,상기 Mg 합금은 Mg와, Ni, Al, Fe, Pd, Cu, V, Sc, Co, Mn 및 Ce중 선택된 1종 또는 2종 이상의 금속의 합금인 수소저장합금의 제조방법
|
| 7 |
7
삭제
|
| 8 |
8
제 1항에 있어서,상기 제1 박막 및 제3 박막은 Pd, Pt, Ni, Al, Fe, Cu, V, Sc, Co, Mn 및 Ce중 선택된 1종 또는 2종 이상의 금속인 수소저장합금의 제조방법
|
| 9 |
9
기판; 및 상기 기판의 일면에 형성된 다수의 박막 배열체를 포함하고,상기 다수의 박막 배열체는 제1 박막; 상기 제1 박막의 일면에 형성된 제1 버퍼층; 상기 제1 버퍼층의 일면에 형성된 Mg 또는 Mg 합금의 제2 박막; 상기 제2 박막의 일면에 형성된 제2 버퍼층; 및 상기 제2 버퍼층의 일면에 형성된 제3 박막을 포함하는 박막 배열체를 반복적으로 포함하고상기 제1 버퍼층 및 제2 버퍼층은 Ti층 또는 그래핀(graphene)층인 수소저장합금
|
| 10 |
10
제 9항에 있어서,상기 기판이 탄성 기판일 경우, 상기 다수의 박막 배열체의 표면에서 내부로 다수의 나노 갭(nano-gap)을 더 포함하는 수소저장합금
|
| 11 |
11
제 9항에 있어서,상기 박막 배열체를 이루는 제1 박막, 제1 버퍼층, 제2 박막, 제2 버퍼층 및 제3 박막은 각각 2nm~40μm의 평균 두께를 갖는 수소저장합금
|
| 12 |
12
제 11항에 있어서,상기 제1 박막과 제3 박막은 2nm~10nm의 평균 두께, 제2 박막은 10nm~100nm의 평균두께 및 제1 버퍼층과 제2 버퍼층은 2nm~10nm의 평균 두께를 갖는 수소저장합금
|
| 13 |
13
제 10항에 있어서,상기 나노 갭(nano-gap)은 평균 깊이가 1nm~10μm인 수소저장합금
|
