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반응성 스퍼터링 증착 장치
- 기술번호 : KST2015083622
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 반응성 스퍼터링 증착 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반응 기체를 효과적으로 이온화하기 위해 유도결합 플라즈마(Inductively Coupled Plasma, ICP)를 사용하는 반응성 스퍼터링 증착 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 반응성 스퍼터링 증착 장치는 플라즈마 기체를 내부로 유입하는 유입구 및 반응성 스퍼터링 증착에 사용된 기체를 외부로 배기하는 배기구를 구비하는 챔버; 상기 챔버의 상부에 위치하고 반응 기체를 이온화하여 상기 챔버의 내부에 주입하는 ICP 생성기; 및 상기 챔버의 측면에 위치하고 타겟을 지지하는 적어도 하나 이상의 스퍼터 건로 구성된다. 본 발명은 유도결합 플라즈마를 이용하여 반응 기체의 이온화율을 향상시킴으로써, 공정의 온도를 낮출 수 있고 비교적 적은 비용으로도 박막 증착의 균일성 및 스텝 커버리지을 향상시킬 수 있다.반응성 스퍼터링, 스퍼터링 장치, ICP |
|---|---|
| Int. CL | H01L 21/203 (2006.01) |
| CPC | |
| 출원번호/일자 | 1020070114365 (2007.11.09) |
| 출원인 | 한국전자통신연구원 |
| 등록번호/일자 | 10-0881954-0000 (2009.01.29) |
| 공개번호/일자 | |
| 공고번호/일자 | (20090206) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2007.11.09) |
| 심사청구항수 | 18 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국전자통신연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 정우석 | 대한민국 | 대전시 유성구 |
| 2 | 황치선 | 대한민국 | 대전시 대덕구 |
| 3 | 유민기 | 대한민국 | 서울 노원구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 신영무 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국전자통신연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2007.11.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0806128-62 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2008.06.05 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2008.07.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-2008-0042767-06 |
| 4 | 등록결정서 Decision to grant |
2009.01.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0035134-89 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2009.08.04 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5150899-36 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 반응 기체를 이용하여 기판상에 반응성 스퍼터링 증착을 수행하는 장치에 있어서,플라즈마 기체를 내부로 유입하는 유입구 및 상기 반응성 스퍼터링 증착에 사용된 기체를 외부로 배기하는 배기구를 구비하는 챔버;상기 챔버의 상부에 위치하고 상기 반응 기체를 이온화하여 상기 챔버의 내부에 주입하는 ICP 생성기; 및상기 챔버의 측면에 위치하고 타겟을 지지하는 적어도 하나 이상의 스퍼터 건을 포함하는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 2 |
2 제 1항에 있어서, 상기 ICP 생성기의 하부에 위치하고 상기 ICP 생성기 및 상기 기판 간의 수직 거리를 조정하는 벨로즈를 더 포함하는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 3 |
3 제 1항에 있어서,상기 ICP 생성기는 3 |
| 4 |
4 제 1항에 있어서,상기 ICP 생성기의 하부에 위치하고 상기 유입구로부터 유입되는 상기 플라즈마 기체를 상기 ICP 생성기와 차단하는 차단막을 더 포함하는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 5 |
5 제 4항에 있어서,상기 차단막은 상기 ICP 생성기의 직경보다 120% 내지 200% 큰 직경을 가지는 원통 형태로 형성되는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 6 |
6 제 4항에 있어서,상기 차단막은 알루미나를 포함하는 세라믹 재질로 코팅되는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 7 |
7 제 1항에 있어서,상기 적어도 하나 이상의 스퍼터 건의 기울기는 상기 기판의 수직방향을 기준으로 0도 내지 45도의 각도로 조정되는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 8 |
8 제 1항에 있어서,상기 챔버의 측면에 위치하고 일 측은 상기 적어도 하나 이상의 스퍼터 건을 지지하고 타 측은 상기 챔버의 측벽을 관통하여 외부로 연결되는 스퍼터 건 지지대를 더 포함하는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 9 |
9 제 8항에 있어서,상기 적어도 하나 이상의 스퍼터 건 간의 거리는 상기 스퍼터 건 지지대를 이용하여 조절되는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 10 |
10 제 1항에 있어서, 상기 적어도 하나 이상의 스퍼터 건의 상부에 고정되고 상기 ICP 생성기에 의해 이온화된 상기 반응 기체로부터 상기 적어도 하나 이상의 스퍼터 건을 보호하는 건 셔터를 더 포함하는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 11 |
11 제 10항에 있어서,상기 건 셔터는 스테인레스로 구성되거나 세라믹 재질로 코팅되는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 12 |
12 제 1항에 있어서,상기 적어도 하나 이상의 스퍼터 건은 서로 상이한 종류의 타겟을 지지하는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 13 |
13 제 1항에 있어서,상기 적어도 하나 이상의 스퍼터 건의 길이는 상기 기판의 직경보다 10% 내지 50% 큰 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 14 |
14 제 1항에 있어서,상기 챔버의 하부에 위치하고 상기 기판을 고정하는 기판 지지대를 더 포함하는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 15 |
15 제 14항에 있어서,상기 기판 지지대는 상하로 이동하거나 회전하는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 16 |
16 제 1항에 있어서,상기 기판의 상부에 위치하고 상기 플라즈마 기체를 상기 기판과 차단하는 기판 셔터를 더 포함하는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 17 |
17 제 1항에 있어서,상기 타겟은 상기 적어도 하나 이상의 스퍼터 건의 전면에서 상하로 이동하는 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 18 |
18 제 17항에 있어서,상기 타겟은 상기 적어도 하나 이상의 스퍼터 건보다 10% 내지 20% 큰 반응성 스퍼터링 증착 장치 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | US20100258437 | US | 미국 | FAMILY |
| 2 | WO2009061067 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
DOCDB 패밀리 정보
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | US2010258437 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
| 2 | WO2009061067 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | DOCDBFAMILY |
| 순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 정보통신부 및 정보통신연구진흥원 | 한국전자통신연구원 | IT원천기술개발 | 투명전자 소자를 이용한 스마트 창 |
| 공개전문 정보가 없습니다 |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
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| 특허 등록번호 | 10-0881954-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20071109 출원 번호 : 1020070114365 공고 연월일 : 20090206 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20090128 청구범위의 항수 : 18 유별 : H01L 21/203 발명의 명칭 : 반응성 스퍼터링 증착 장치 존속기간(예정)만료일 : 20200130 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 373,500 원 | 2009년 01월 30일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 436,000 원 | 2012년 01월 16일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 436,000 원 | 2012년 12월 06일 | 납입 |
| 제 6 년분 | 금 액 | 436,000 원 | 2013년 12월 09일 | 납입 |
| 제 7 년분 | 금 액 | 784,000 원 | 2014년 12월 29일 | 납입 |
| 제 8 년분 | 금 액 | 784,000 원 | 2015년 12월 28일 | 납입 |
| 제 9 년분 | 금 액 | 548,800 원 | 2016년 12월 28일 | 납입 |
| 제 10 년분 | 금 액 | 1,230,000 원 | 2017년 12월 26일 | 납입 |
| 제 11 년분 | 금 액 | 615,000 원 | 2018년 12월 26일 | 납입 |
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- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2007.11.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0806128-62 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 | 2008.06.05 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 | 2008.07.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-2008-0042767-06 |
| 4 | 등록결정서 | 2009.01.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0035134-89 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2009.08.04 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5150899-36 |
| 6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1445006461 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2006-S-079-02 |
| 연구과제명 | 투명전자소자를이용한스마트창 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신연구진흥원 |
| 연구주관기관명 | 한국전자통신연구원 |
| 성과제출연도 | 2007 |
| 연구기간 | 200703~200802 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 개발연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
| 과제고유번호 | 1415100593 |
|---|---|
| 세부과제번호 | KI001622 |
| 연구과제명 | 투명전자소자를이용한스마트창 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
| 연구주관기관명 | 한국전자통신연구원 |
| 성과제출연도 | 2009 |
| 연구기간 | 200610~201102 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 응용연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
특허성과
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