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투명 기판;상기 투명 기판 상에 형성된 은 나노 와이어 네트워크 층; 및상기 은 나노 와이어 네트워크 층 상에 형성된 고분자 보호막을 포함하고,상기 은 나노 와이어 네트워크 층은 종횡비가 200 ~ 1000000인 은 나노 와이어들의 네트워크를 포함하고,상기 은 나노 와이어는 적어도 한 지점 이상에서 다른 은 나노 와이어와 용융에 의해 접합 또는 교차되어 연결되어 있고,상기 은 나노 와이어는 직경이 1 ~ 10 nm인 은 나노 입자가 표면에 노출되어 있고,상기 은 나노 와이어 간의 연결은 제논 램프의 파장 중 가시광 영역에서, 3 내지 70J/cm2의 펄스 광의 0
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제1항에 있어서, 상기 은 나노 와이어의 직경은 10 ~ 100 ㎚이고, 길이는 2 ~ 100 ㎛인 것을 특징으로 하는 투명 전극
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제1항에 있어서, 상기 은 나노 와이어는 비선형적이거나 구불구불한 형상인 것을 특징으로 하는 투명 전극
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제1항에 있어서, 상기 고분자 보호막은, 폴리우레탄, 폴리에테르우레탄, 폴리우레탄 공중합체, 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스, 아세테이트 부틸레이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트, 셀룰로오스 유도체, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리아크릴 공중합체, 폴리비닐아세테이트 공중합체, 폴리비닐아세테이트, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐알콜, 폴리퍼퓨릴알콜, 폴리스티렌, 폴리스티렌 공중합체, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리프로필렌옥사이드, 폴리에틸렌옥사이드 공중합체, 폴리프로필렌옥사이드 공중합체, 폴리카보네이트, 폴리비닐클로라이드, 폴리카프로락톤, 폴리비닐풀루오라이드, 폴리비닐리덴풀루오라이드 공중합체 및 폴리아마이드로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극
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제1항에 있어서, 상기 은 나노 와이어 네트워크 층의 두께는 10 ~ 500 ㎚이고, 상기 고분자 보호층의 두께는 1 ~ 50 ㎛인 것을 특징으로 하는 투명 전극
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9
제1항에 있어서, 상기 투명 기판은 유리 기판 또는 고분자 필름 기판인 것을 특징으로 하는 투명 전극
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제1항에 있어서, 상기 투명 전극의 광투과율은 80 % 이상이고, 면저항 값은 1 ~ 300 Ω/□인 것을 특징으로 하는 투명 전극
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청구항 11은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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(a)투명 기판 상에 은 나노와이어 분산 용액을 코팅하여 은 나노와이어 네트워크 층을 형성하는 단계;(b)상기 은 나노와이어 네트워크 층 상에 고분자 보호막을 형성하는 단계; 및(c)상기 고분자 보호막이 형성된 은 나노와이어 네트워크 층을 광소결 처리하는 단계를 포함하고,상기 단계 (c)의 광 소결 처리는 제논 램프의 파장 중 가시광 영역에서, 3 내지 70J/cm2의 펄스 광의 0
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제12항에 있어서, 단계 (a) 이전에,(a') 용매에 은 전구체, 은 나노 와이어 성장 유도 고분자 및 분산 첨가제를 투입하고 반응시켜 은 나노 와이어를 형성하고, 상기 은 나노 와이어를 분리 및 세척하는 단계; 및(a'') 상기 분리된 은 나노 와이어를 에탄올, 메탄올, 아세톤 및 THF (TetraHydroFuran)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용매에 분산시켜 상기 은 나노 와이어 분산 용액을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극의 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 은 나노 와이어 분산 용액의 은 나노 와이어의 농도는 0
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제12항에 있어서, 상기 단계 (a)의 코팅 및 상기 단계 (b)의 고분자 보호막의 형성은 각각, 정전 스프레이법, 슬릿 다이 코팅법 및 스크린프린팅법으로 이루어진 군에서 선택되는 하나의 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 투명 전극의 제조방법
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청구항 16은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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제12항에 있어서, 상기 광소결 처리는 1 내지 10회 반복 처리하는 것을 특징으로 하는 투명 전극의 제조방법
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청구항 20은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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청구항 23은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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청구항 25은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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