맞춤기술찾기

이전대상기술

스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자

  • 기술번호 : KST2015121780
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 측면형 스핀 소자에 관한 것으로, 상기 측면형 스핀 소자는 기판상에 형성되는 전송채널; 상기 전송채널 상에 형성되는 소스; 및 상기 전송채널 상에 형성되는 드레인 자유층, 드레인 중간층, 및 드레인 고정층으로 이루어지며, 상기 소스로부터 주입되고 상기 전송채널에 의해 확산된 스핀전자에 의해 상기 드레인 고정층에 대한 상기 드레인 자유층의 자기 방향이 변경되는 드레인을 포함할 수 있다.
Int. CL H01L 29/78 (2006.01) H01L 21/336 (2006.01)
CPC H01L 29/66984(2013.01)
출원번호/일자 1020120140275 (2012.12.05)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1417956-0000 (2014.07.03)
공개번호/일자 10-2014-0072983 (2014.06.16) 문서열기
공고번호/일자 (20140814) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.12.05)
심사청구항수 15

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 장준연 대한민국 서울 광진구
2 구현철 대한민국 서울 성북구
3 김형준 대한민국 서울 용산구
4 송진동 대한민국 서울특별시 성북구
5 한석희 대한민국 서울 노원구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.12.05 수리 (Accepted) 1-1-2012-1009088-92
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.08.20 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.10.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0080379-36
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.11.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0812581-61
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2014-0061043-03
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.01.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0061044-48
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
8 등록결정서
Decision to grant
2014.05.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0327783-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판상에 형성되는 전송채널;상기 전송채널 상에 형성되는 소스; 및상기 전송채널 상에 형성되는 드레인 자유층, 드레인 중간층, 및 드레인 고정층으로 이루어지며, 상기 소스로부터 주입되고 상기 전송채널에 의해 확산된 스핀전자에 의해 상기 드레인 고정층에 대한 상기 드레인 자유층의 자기 방향이 변경되는 드레인을 포함하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
2 2
제1항에 있어서, 상기 드레인 자유층은 상기 스핀 전자에 의해 자기 방향이 변경되는 자성체로 구현되고, 상기 드레인 중간층은 비자성금속전도체 또는 절연체로 구현되고, 상기 드레인 고정층은 자기 방향이 고정된 자성체로 구현되는 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
3 3
제2항에 있어서, 상기 소스는 자성체로 구현되는 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
4 4
제3항에 있어서, 상기 스핀 소자는상기 드레인 자유층의 자기 방향이 상기 소스에 인가되는 스핀 전자에 따라 2가지로 가변됨으로써, 두개의 저항값을 가지는 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
5 5
제2항에 있어서, 상기 소스는 상기 스핀 전자에 의해 자기 방향이 변경되는 자성체로 구현되는 소스 자유층;비자성금속전도체 또는 절연체로 구현되는 소스 중간층; 자기 방향이 고정된 자성체로 구현되는 소스 고정층을 포함하는 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
6 6
제5항에 있어서, 상기 스핀 소자는 상기 드레인 자유층의 자기 방향이 상기 소스와 상기 드레인에 인가되는 전원들에 따라 4가지로 가변됨으로써, 4개의 저항값을 가지는 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
7 7
제6항에 있어서, 상기 스핀 소자는 초기화 과정을 통해 상기 소스 고정층과 상기 드레인 고정층의 자화 방향이 상기 전송채널에 수직되게 자화난이축(magnetic hard axis)로 고정시킨 후, 상기 드레인 자유층의 자기 방향을 가변시키는 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
8 8
제3항 또는 제5항에 있어서, 상기 자성체는 CoFe, Co, Ni, NiFe 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 것인 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
9 9
제3항 또는 제5항에 있어서, 상기 자성체는 GaMnAs, InMnAs, GeMn, GaMnN, GaMnP, ZnMnO 중에서 선택되는 어느 하나로 구현되는 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
10 10
제3항 또는 제5항에 있어서, 상기 자성체는 수직자기특성(Perpendicular magnetization)을 갖는 Pd/CoFe, Pt/CoPt 다층구조, 그리고 La(1-x)SrxMnO3(LSMO), CrO2를 포함하는 스핀분극 100%의 반금속(half metal)중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
11 11
제1항에 있어서, 상기 전송채널은 Si 기판, 절연층, 및 Au, Pt, Ag, Al, Cu, Sb 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 금속(metal) 또는 반금속(semi-metal)으로 구현되는 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
12 12
제1항에 있어서, 상기 전송채널은 4족 반도체나 3-5족 반도체 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 재료로 형성된 이종고속반도체로 구현되는 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
13 13
제1항에 있어서, 상기 전송채널은 Si 기판, 절연층, 카본나노튜브(carbon nanotube), 그래핀(graphene)을 포함하는 흑연계 나노구조중에서 하나이거나, 금속 또는 반도체 나노 와이어(nano-wire)를 포함하는 1차원 나노구조인 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
14 14
제1항에 있어서, 상기 전송채널이 이종고속반도체, 나노흑연구조, 또는 나노 와이어로 구현되는 경우, 상기 전송채널과 상기 소스 사이, 상기 전송채널과 상기 드레인 사이에 형성되는 중간막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
15 15
제1항에 있어서, 상기 소스로부터 주입된 스핀전자는 비접촉(non local) 방식에 의해 차지 전류없이 순수 스핀 전류를 생성하고, 스핀확산에 의해 상기 전송 채널을 거쳐 상기 드레인에 전송되는 것을 특징으로 하는 스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.