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내부에 기판이 장입되는 챔버;상기 챔버 내에 반응 가스를 공급하는 가스 공급 장치;상기 반응 가스 중 적어도 일부를 해리시켜 결정성 나노 입자를 형성하는 에너지원; 및상기 기판 상부에 개폐 가능하게 설치되며, 상기 반응 가스 및 상기 에너지원으로부터 방출되는 열 중 적어도 하나를 기판에 대해 차단하는 기판 차단부;를 포함하며, 상기 기판 차단부는 상기 기판에 박막이 증착되는 시간을 지연시키기 위하여 기판을 개폐 시키는 동작이 시간에 의존하여 행해지며, 상기 기판 차단부는,상기 기판의 상면을 차단하는 차단부 본체와상기 차단부 본체의 측면에 일체로 형성되어 상기 기판의 측면을 차단하는 차단부 측면을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 기판 차단부는 상기 챔버를 분할하는 플레이트인 것을 특징으로 하는 박막 제조 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 기판 차단부는 상기 차단부 본체와 상기 차단부 측면을 상기 기판에 대하여 회전시켜 기판을 개폐할 수 있는 회전축을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 박막 제조 장치
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제 3 항에 있어서,상기 차단부 본체는 평면 플레이트인 것을 특징으로 하는 박막 제조 장치
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제 3 항에 있어서, 상기 차단부 본체는 돔형 플레이트인 것을 특징으로 하는 박막 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 가스 공급 장치는 상기 기판에 형성되는 박막의 원소를 포함하는 제 1 반응 가스와, 상기 기판상에 비결정성 물질의 형성을 억제하는 제 2 반응 가스를 제공하는 것을 특징으로 하는 박막 제조 장치
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제 2 항에 있어서, 상기 플레이트에 의해 분할된 챔버의 일부분에 작용하는 제 1 진공 펌프와, 상기 플레이트가 제거되었을 때 챔버 전체에 작용하는 제 2 진공 펌프를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 박막 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 에너지원은 상기 가스 공급 장치와 상기 기판 사이에 설치된 열선 구조체를 포함하는 박막 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 기판과 연결되고 상기 기판에 전기장을 형성시키는 바이어스 인가부를 추가적으로 포함하는 박막 제조 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 반응 가스는 HCl 를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 제조 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 기판 차단부에 박막 증착이 지연되는 시간은 3 내지 10분인 것을 특징으로 하는 박막 제조 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 기판 차단부에 박막 증착이 지연되는 시간은 5분인 것을 특징으로 하는 박막 제조 장치
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