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메모리 소자

  • 기술번호 : KST2015142164
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기판 상에 하부 전극, 시드층, 자기 터널 접합, 캐핑층, 합성 교환 반자성층 및 상부 전극이 적층 형성되고, 상기 시드층은 적어도 이중 구조로 형성되며, 적어도 일층이 bcc 구조를 갖는 다결정의 도전 물질로 형성된 메모리 소자가 제시된다.
Int. CL G11C 11/16 (2006.01) H01L 43/02 (2006.01) H01L 43/08 (2006.01) H01L 43/10 (2006.01)
CPC G11C 11/161(2013.01) G11C 11/161(2013.01) G11C 11/161(2013.01) G11C 11/161(2013.01)
출원번호/일자 1020150045170 (2015.03.31)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1661275-0000 (2016.09.23)
공개번호/일자 10-2015-0120857 (2015.10.28) 문서열기
공고번호/일자 (20160929) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020150037230   |   2015.03.18
대한민국  |   1020140046563   |   2014.04.18
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.03.31)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박재근 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 이줜리 중국 서울특별시 동대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남승희 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층(역삼동, 청보빌딩)(아인특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2015-0315074-88
2 등록결정서
Decision to grant
2016.08.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0612824-39
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에 하부 전극, 시드층 및 자기 터널 접합이 적층 형성되고,상기 시드층은 적어도 이중 구조로 형성되며, 적어도 일층이 bcc 구조를 갖는 다결정의 도전 물질로 형성된 메모리 소자
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 하부 전극은 다결정의 도전 물질로 형성되는 메모리 소자
3 3
청구항 2에 있어서, 상기 하부 전극은 텅스텐을 포함하는 제 1 하부 전극과, TiN을 포함하는 제 2 하부 전극의 적층 구조로 형성된 메모리 소자
4 4
청구항 3에 있어서, 상기 하부 전극과 상기 시드층 사이에 형성되며, 탄탈륨을 포함하는 물질로 형성된 버퍼층을 더 포함하는 메모리 소자
5 5
청구항 1 또는 청구항 4에 있어서, 상기 시드층은 bcc로 자기 결정화가 가능한 제 1 시드층 및 bcc 구조의 제 2 시드층의 적층 구조로 형성된 메모리 소자
6 6
청구항 5에 있어서, 상기 제 1 시드층은 MgO를 포함하고, 상기 제 2 시드층은 W를 포함하는 메모리 소자
7 7
청구항 6에 있어서, 상기 제 1 시드층은 상기 자기 터널 접합의 터널 배리어보다 얇은 두께로 형성되는 메모리 소자
8 8
청구항 7에 있어서, 상기 제 1 시드층은 1㎚ 내지 1
9 9
청구항 7에 있어서, 상기 자기 터널 접합의 자성층은 CoFeAl 및 CoFeAlSi중 적어도 어느 하나를 포함하는 메모리 소자
10 10
청구항 5에 있어서, 상기 자기 터널 접합 상에 적층 형성된 캐핑층, 합성 교환 반자성층 및 상부 전극을 더 포함하는 메모리 소자,
11 11
청구항 10에 있어서, 상기 캐핑층은 탄탈륨 및 텅스텐의 적어도 어느 하나를 포함하는 물질로 형성된 메모리 소자
12 12
청구항 11에 있어서, 상기 합성 교환 반자성층은 Pt를 포함하는 물질로 형성된 메모리 소자
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3 KR101583783 KR 대한민국 FAMILY
4 WO2015160092 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
5 WO2015160092 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
6 WO2015160093 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
7 WO2015160093 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
8 WO2015160094 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
9 WO2015160094 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
10 WO2016148391 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN107534081 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 WO2016148391 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한양대학교 중견연구자지원 3차원 적층 cross-bar 수직형 스핀토크 자기저항 메모리 집적화 기술 연구