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아조벤젠 필름을 이용한 반사방지막 또는 반사막 및 그의제조방법

  • 기술번호 : KST2015173914
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 아조벤젠 필름을 이용한 반사방지막 또는 반사막 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 아조벤젠 화합물을 포함하는 필름의 표면에 아조벤젠의 흡수영역의 광선을 조사하는 단일 공정으로 다양한 경사 굴절률을 갖는 파동형상 곡면의 미세표면요철구조를 형성시키고, 이를 주형으로 하여 몰딩법을 적용함으로써 실리콘 고무, 자외선 중합물질로 간단하게 상기 형성된 미세표면요철구조를 대면적으로 전이시키는 단계로 이루어진다. 본 발명에 의하면 기존의 다단계 반사방지막 제작시의 단점으로 지적되었던 높은 제작 비용, 낮은 환경 안정성, 입사각 의존성 및 좁은 파장영역에서의 문제를 발생하지 않으며, 후 공정 단계가 필요 없는 노광 단일 공정에 의해 주형을 제작할 수 있고, 몰딩법에 의하여 미세표면요철구조가 형성된 막의 대량생산이 가능하며, 미세구조 패턴의 중첩원리를 이용하여 다양한 형상의 미세표면요철구조를 성형할 수 있어서 광학소자, 태양전지 및 디스플레이 등 반사방지막 또는 반사막을 필요로 하는 소자에 용이하게 적용할 수 있는 효과가 부여된 반사방지막 또는 반사막을 제조할 수 있다.` 아조벤젠, 몰딩, 실리콘 고무, 노광, 반사방지막, 반사막
Int. CL G02B 1/11 (2006.01)
CPC G02B 1/111(2013.01) G02B 1/111(2013.01) G02B 1/111(2013.01)
출원번호/일자 1020040018100 (2004.03.17)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자 10-0547251-0000 (2006.01.20)
공개번호/일자 10-2005-0094030 (2005.09.26) 문서열기
공고번호/일자 (20060126) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.03.17)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김동유 대한민국 광주광역시북구
2 유성종 대한민국 광주광역시북구
3 성영은 대한민국 광주광역시북구
4 염준호 대한민국 광주광역시북구
5 김미정 대한민국 광주광역시북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이학수 대한민국 부산광역시 연제구 법원로 **, ****호(이학수특허법률사무소)
2 백남훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, KTB네트워크빌딩**층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2004.03.17 수리 (Accepted) 1-1-2004-0110439-62
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.07.27 수리 (Accepted) 4-1-2004-0031183-30
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2005.07.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2005.08.12 수리 (Accepted) 9-1-2005-0048614-55
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2005.09.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0452971-43
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2005.11.07 수리 (Accepted) 1-1-2005-0640270-19
7 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2005.12.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0728563-22
8 의견서
Written Opinion		 2005.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2005-0728565-13
9 등록결정서
Decision to grant		 2006.01.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0018423-11
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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아조벤젠 필름의 표면에 300 ∼ 600 nm 파장의 광선을 노광시켜 미세표면요철구조를 형성시킨 아조벤젠 주형을 제조하는 단계,상기 아조벤젠 주형으로, 몰딩법에 의하여 대면적으로 실리콘 고무에 미세표면요철구조를 전이시켜 실리콘 고무 주형을 제조하는 단계, 및 상기 실리콘 고무 주형으로 하고, 몰딩법에 의하여 대면적으로 트리메틸올-프로판 디아릴에테르, 트리메틸올-프로판 트리스티올 및 이소포론 디이소시아네이트 에스테르를 주성분으로 하고, 여기에 벤조페놀 광중합 개시제가 포함된 자외선 중합물질에 자외선을 조사하면서 미세표면요철구조를 전이시켜 자외선 중합주물을 제조하는 단계 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사방지막의 제조방법
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아조벤젠 고분자 필름의 표면에 300 ∼ 600 nm 파장의 광선을 노광시켜 미세표면요철구조를 형성시킨 아조벤젠 주형을 제조하는 단계,상기 아조벤젠 주형으로, 몰딩법에 의하여 대면적으로 실리콘 고무에 미세표면요철구조를 전이시켜 실리콘 고무 주형을 제조하는 단계,상기 실리콘 고무 주형으로 하고, 몰딩법에 의하여 대면적으로 트리메틸올-프로판 디아릴에테르, 트리메틸올-프로판 트리스티올 및 이소포론 디이소시아네이트 에스테르를 주성분으로 포함하는 혼합물에 벤조페놀 광중합 개시제가 함유된 자외선 중합물질에 자외선을 조사하면서 미세표면요철구조를 전이시켜 자외선 중합주물을 제조하는 단계, 및 상기 자외선 중합주물의 표면에, 금속 및 고분자 중에서 선택된 물질을 증착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사막의 제조방법
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