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무반사 격자패턴의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015011281
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 무반사 격자패턴의 제조방법 및 무반사 격자패턴이 집적된 광소자의 제조방법에 관한 것으로, 기판 상에 홀로그램 리소그라피를 이용하여 감광막 패턴을 형성하는 단계와, 상기 감광막 패턴을 리플로우(Reflow)시켜 일정 크기의 곡률 반경을 갖는 감광막 렌즈 패턴을 형성하는 단계와, 상기 기판 자체의 상면에 광파장 이하의 주기를 갖는 끝이 뾰족한 쐐기형의 무반사 격자패턴이 형성되도록 상기 감광막 렌즈 패턴을 포함한 기판의 전면을 식각하는 단계를 포함함으로써, 제조 공정이 간단하며, 공기와 반도체 물질간의 굴절률차로 인해 발생하는 빛의 반사량을 최소화할 수 있을 뿐만 아니라 광소자(optical device) 분야에 용이하게 적용할 수 있는 효과가 있다.무반사, 격자패턴, 나노렌즈, 감광막, 홀로그램 리소그라피, 건식 식각법
Int. CL B82Y 30/00 (2011.01) G02B 5/18 (2006.01) G02B 1/11 (2006.01)
CPC G02B 1/111(2013.01) G02B 1/111(2013.01) G02B 1/111(2013.01) G02B 1/111(2013.01)
출원번호/일자 1020080133583 (2008.12.24)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자 10-1390401-0000 (2014.04.23)
공개번호/일자 10-2010-0075000 (2010.07.02) 문서열기
공고번호/일자 (20140429) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020130031559;
심사청구여부/일자 Y (2011.10.31)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송영민 대한민국 광주광역시 북구
2 이용탁 대한민국 광주광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정태훈 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, A동 ****호(문정동, 엠스테이트)(특허법인 티앤아이)
2 오용수 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, A동 ****호(문정동, 엠스테이트)(특허법인 티앤아이)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 광주광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.12.24 수리 (Accepted) 1-1-2008-0889105-25
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2011.10.31 수리 (Accepted) 1-1-2011-0854243-02
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.01.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0066372-82
5 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2013.03.25 수리 (Accepted) 1-1-2013-0256243-11
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.03.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0256266-50
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.08.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0585732-00
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.10.28 수리 (Accepted) 1-1-2013-0974324-52
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.10.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0974326-43
10 등록결정서
Decision to grant		 2014.02.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0121257-09
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번호 청구항
1 1
기판 상에 홀로그램 리소그라피를 이용하여 감광막 패턴을 형성하는 단계;상기 감광막 패턴을 리플로우(Reflow)시켜 일정 크기의 곡률 반경을 갖는 감광막 렌즈 패턴을 형성하는 단계; 및상기 기판 자체의 상면에, 200nm 내지 400nm의 광파장 이하의 주기를 갖고, 기판의 표면으로부터 상측의 공기층으로 갈수록 횡단면적이 좁아지면서 끝이 뾰족한 쐐기형의 무반사 격자패턴이 형성되도록 상기 감광막 렌즈 패턴을 포함한 기판의 전면을 식각하는 단계를 포함하는 무반사 격자패턴의 제조방법
2 2
제1 항에 있어서,상기 감광막 패턴은,광결정 패턴 무늬를 갖는 광으로 상기 기판의 상부에 형성된 감광막을 1차 노광하고, 상기 기판을 90도 회전하여 2차 노광하며, 포토마스크를 이용하여 상기 감광막 패턴이 형성될 부위를 마스킹 및 노광한 후 이를 현상함으로써 원하는 부위에 2차원 격자구조 패턴이 형성되도록 하는 것을 특징으로 하는 무반사 격자패턴의 제조방법
3 3
제2 항에 있어서,상기 광결정 패턴의 주기는 광원의 파장, 격자 오더(Grating Order) 또는 입사광의 각도 중 적어도 어느 하나의 조건에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 무반사 격자패턴의 제조방법
4 4
제2 항에 있어서,상기 기판의 회전은 0도에서 90도까지 조절하여 다양한 형상의 2차원 격자구조 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 무반사 격자패턴의 제조방법
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제1 항에 있어서,상기 감광막 렌즈 패턴의 곡률 반경 및 적재율은 상기 리플로우에 대한 가열 온도 또는 시간을 이용하여 조절하는 것을 특징으로 하는 무반사 격자패턴의 제조방법
6 6
제1 항에 있어서,상기 리플로우 온도는 120℃ 내지 400℃ 범위인 것을 특징으로 하는 무반사 격자패턴의 제조방법
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제1 항에 있어서,상기 무반사 격자패턴은 플라즈마 건식 식각법을 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 무반사 격자패턴의 제조방법
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제7 항에 있어서,상기 건식 식각 시 가스량, 압력, 구동 전압 중 적어도 어느 하나의 조건을 조절하여 무반사 격자패턴의 높이를 조절함으로써 원하는 종횡비(aspect ratio)를 얻도록 하는 것을 특징으로 하는 무반사 격자패턴의 제조방법
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제1 항에 있어서,상기 기판은 투명 글래스인 것을 특징으로 하는 무반사 격자패턴의 제조방법
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5 WO2010074486 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 US2011092007 US 미국 DOCDBFAMILY
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3 WO2010074486 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
4 WO2010074486 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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