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전자빔을 방출하는 전자빔 장치;열차폐 코팅막을 형성하기 위한 코팅 모재;상기 전자빔 장치와 대응되게 이격되어 설치되고 균일한 코팅을 위해 회전가능하게 설치되며 코팅 소스를 포함하는 타겟; 플라즈마를 상기 코팅 모재에 방사하기 위한 플라즈마 발생장치; 및상기 코팅 모재와 상기 플라즈마 발생장치 사이에 전계를 형성하여 상기 플라즈마 발생장치에서 발생된 플라즈마를 가속시키기 위해 상기 코팅 모재에 전기적으로 연결되는 애노드 전극을 포함하며,상기 플라즈마 발생장치에서 플라즈마를 상기 코팅 모재에 방사하면서 상기 전자빔 장치의 전자빔에 의해 상기 코팅 소스를 기화시켜 기화된 상기 코팅 소스가 상기 코팅 모재에 증착되게 하는 것을 특징으로 하는 열차폐 코팅 장치
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마 발생장치는,가스유로가 형성된 본체; 상기 가스유로의 하류에 설치되는 상부전극;상기 상부전극과 하방으로 이격되어 설치되는 하부전극;상기 하부전극을 지지하는 하부전극 지지브라켓; 및공정가스가 플라스마 상태에서 코팅 모재에 분사될 수 있는 복수개의 분사홀을 포함하며, 상기 가스유로를 통해 공정가스가 공급되는 상태에서 상기 상부전극과 상기 하부전극 사이에 고전압이 인가되어 플라즈마를 발생시키고, 상기 분사홀을 통해 상기 플라즈마를 코팅 모재로 분사하는 것을 특징으로 하는 열차폐 코팅 장치
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제1항에 있어서, 상기 코팅 모재는,전자빔에 의해 상기 코팅 소스가 기화된 증기와, 플라즈마가 균일하게 도포될 수 있도록 일정한 속도로 회전하며, 상기 코팅 모재를 지지하는 홀더에 상기 코팅 모재를 가열하기 위한 가열수단이 더 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 열차폐 코팅 장치
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제1항에 있어서, 상기 열차폐 코팅 장치는,상기 코팅 모재의 코팅 두께를 측정하는 두께검출센서를 더 포함하며, 상기 두께검출센서를 이용하여 상기 코팅 모재에 코팅되는 두께를 제어하는 것을 특징으로 하는 열차폐 코팅 장치
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제1항에 있어서, 상기 타겟은 교차 증착 또는 복합 코팅을 위해 복수개 구비되는 것을 특징으로 하는 열차폐 코팅 장치
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제1항에 있어서, 상기 코팅 소스는,파이로클로어 결정구조의 (GdxLa1-x)2(CeyZr1-y)2O7 (여기서, x,y는 0 보다 크거나 같고 1 보다 작거나 같은 실수임(0≤x,y≤1)) 소결체로 이루어진 것을 특징으로 하는 열차폐 코팅 장치
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파이로클로어 결정구조의 (GdxLa1-x)2(CeyZr1-y)2O7 (여기서, x,y는 0 보다 크거나 같고 1 보다 작거나 같은 실수임(0≤x,y≤1)) 소결체를 제조하는 단계;상기 소결체를 코팅 소스로 하여 타겟에 장착하고 상기 타겟을 일정한 속도로 회전시키는 단계;전자빔 장치로 상기 타겟에 전자빔을 조사하여 상기 코팅 소스가 기화되게 하여 코팅 모재에 코팅하는 단계; 및상기 코팅하는 단계 동안에 플라즈마 발생장치로 플라즈마를 방사하고, 상기 코팅 모재와 상기 플라즈마 발생장치 사이에 전계를 형성하여 상기 플라즈마 발생장치에서 발생된 플라즈마를 가속시켜 상기 코팅 모재를 플라즈마 처리하는 단계를 포함하는 열차폐 코팅 방법
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제7항에 있어서, 전자빔에 의해 상기 코팅 소스가 기화된 증기와, 플라즈마가 균일하게 도포될 수 있도록 일정한 속도로 상기 코팅 모재를 회전시키면서, 가열수단을 이용하여 상기 코팅 모재를 가열하는 것을 특징으로 하는 열차폐 코팅 방법
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제7항에 있어서, 상기 코팅 모재의 코팅 두께를 측정하는 두께검출센서를 이용하여 상기 코팅 모재에 코팅되는 두께를 제어하는 것을 특징으로 하는 열차폐 코팅 방법
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제7항에 있어서, 상기 소결체를 제조하는 단계는,파이로클로어(pyrochlore) 결정 구조의 A2B2O7 조성을 갖도록 A 사이트(site)에 첨가될 원소를 포함하는 Gd2O3 및 La2O3 분말과, B 사이트(site)에 첨가될 원소를 함유하는 CeO2 및 ZrO2 분말을 칭량하는 단계;산화물 분말들을 혼합하여 분쇄하는 단계;분쇄된 분말을 몰드에 장입하고 가압 성형하는 단계; 및성형한 시편을 1300℃～1600℃의 온도에서 30분～6시간 동안 소결하는 단계를 포함하는 열차폐 코팅 방법
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