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TDDB를 방지하는 MTJ 셀 및 그 제작 방법(MAGNETIC TUNNEL JUNCTION CELL FOR PREVENTING TIME DEPENDENT DIELECTRIC BREAKDOWN AND MANUFACTURING METHOD THEREOF)

  • 기술번호 : KST2016005935
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 TDDB(Time Dependent Dielectric Breakdown)를 방지하는 MTJ(Magnetic Tunnel Junction) 셀은 인가되는 전압에 기초하여 조절되는 자화 ??향을 갖는 자유층; 상기 자유층의 조절되는 자화 방향에 대한 기준 자화 방향을 갖는 고정층; 및 상기 자유층과 상기 고정층 사이에 상기 고정층의 평면상 크기 보다 큰 평면상 크기를 갖도록 절연체로 형성되는 절연층을 포함한다.
Int. CL G11C 11/16 (2006.01) H01L 43/08 (2006.01)
CPC H01L 43/08(2013.01) H01L 43/08(2013.01) H01L 43/08(2013.01)
출원번호/일자 1020140093588 (2014.07.23)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0012354 (2016.02.03) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.07.17)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송윤흡 대한민국 경기도 성남시 분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 양성보 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로***길 ** (논현동) 삼성빌딩 *층(피앤티특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.07.23 수리 (Accepted) 1-1-2014-0695486-52
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2015.02.06 수리 (Accepted) 1-1-2015-0130398-26
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2015.07.17 수리 (Accepted) 1-1-2015-0692606-65
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0918171-11
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.02.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0174084-95
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.02.20 수리 (Accepted) 1-1-2017-0174082-04
8 등록결정서
Decision to grant
2017.06.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0391492-35
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
TDDB(Time Dependent Dielectric Breakdown)를 방지하는 MTJ(Magnetic Tunnel Junction) 셀에 있어서, 인가되는 전압에 기초하여 조절되는 자화 ??향을 갖는 자유층; 상기 자유층의 조절되는 자화 방향에 대한 기준 자화 방향을 갖는 고정층; 상기 자유층과 상기 고정층 사이에 상기 고정층의 평면상 크기 및 상기 자유층의 평면상 크기 보다 큰 평면상 크기를 갖도록 절연체로 형성되는 절연층; 및 상기 자유층, 상기 고정층 및 상기 절연층의 측면을 감싸는 ILD를 포함하는 MTJ 셀
2 2
제1항에 있어서,상기 절연층은 상기 고정층에 대해 적어도 어느 한쪽의 길이 방향으로 상기 고정층의 평면상 크기 보다 미리 설정된 비율만큼 큰 평면상 크기를 갖도록 형성되는 MTJ 셀
3 3
제1항에 있어서, 상기 절연층은 상기 고정층이 이방성 에칭(etching)되는 과정에서, 가스 조건 아래 보호되어 형성되는 MTJ 셀
4 4
삭제
5 5
제1항에 있어서, 상기 절연체는 금속 산화물을 포함하는 MTJ 셀
6 6
TDDB(Time Dependent Dielectric Breakdown)를 방지하는 MTJ(Magnetic Tunnel Junction) 셀 제작 방법에 있어서, 기준 자화 방향을 갖는 고정층, 절연체로 형성되는 절연층 및 인가되는 전압에 기초하여 조절되는 자화 ??향을 갖는 자유층을 순서대로 적층하는 단계; 상기 절연층이 상기 고정층의 평면상 크기 및 상기 자유층의 평면상 크기 보다 큰 평면상 크기를 갖도록 상기 고정층 및 상기 자유층을 이방성 에칭(etching)하는 단계; 및 상기 고정층, 상기 절연층 및 상기 자유층의 측면을 감싸도록 ILD를 형성하는 단계를 포함하는 MTJ 셀 제작 방법
7 7
제6항에 있어서,상기 고정층 및 상기 자유층을 이방성 에칭하는 단계는 상기 절연층이 상기 고정층 및 상기 자유층 각각에 대해 적어도 어느 한쪽의 길이 방향으로 상기 고정층 및 상기 자유층 각각의 평면상 크기 보다 미리 설정된 비율만큼 큰 평면상 크기를 갖도록 상기 고정층 및 상기 자유층을 이방성 에칭하는 단계를 포함하는 MTJ 셀 제작 방법
8 8
제6항에 있어서,상기 고정층 및 상기 자유층을 이방성 에칭하는 단계는 가스 조건 아래 상기 절연층을 보호하는 단계를 더 포함하는 MTJ 셀 제작 방법
9 9
삭제
10 10
제6항에 있어서, 상기 고정층, 절연층 및 자유층을 순서대로 적층하는 단계는 금속 산화물을 포함하는 상기 절연체로 상기 절연층을 형성하는 단계를 포함하는 MTJ 셀 제작 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한양대학교 산학협력단 산업기술혁신사업 / 산업핵심기술개발사업 / 전자정보디바이스산업원천기술개발사업(RCMS) 10nm급 STT-MRAM의MTJ 신뢰성 모델링 및 신뢰성 불량에 강인한 회로 기술 연구