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다음 단계를 포함하는 대면적 단일 도메인으로 배열된 유기분자의 수직원기둥 또는 라멜라 구조체의 제조방법: (a) 바닥기판과 상부기판 사이에 유기분자를 공간적으로 제한시키는 단계; 및 (b) 상기 바닥기판과 상부기판 사이에 공간적으로 제한된 유기분자를 상기 유기분자의 등방성전이온도 이상으로 가열한 다음, 냉각하여 상기 유기분자를 상기 바닥기판과 상부기판 사이에 수직으로 배열시키는 단계
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제1항에 있어서, 상기 (a)단계는 ;(i) 바닥기판위에 유기분자박막을 형성한 다음, 상부기판을 덮어 바닥기판과 상부기판 사이에 유기분자를 공간적으로 제한시키는 단계;(ii) 바닥기판과 상부기판이 공간적으로 이격된 상태에서, 유기분자가 모세관 현상에 의하여 바닥기판과 상부기판 사이에 박막을 형성하여 바닥기판과 상부기판 사이에 유기분자를 공간적으로 제한시키는 단계; 또는(iii) 바닥기판에 유기분자 박막을 형성한 다음, 박막상부에 (1) 폴리머솔루션 스핀코딩, (2) 카본 스퍼터링(carbon sputtering), 또는 (3) 초기 화학 진공 증착(Initiated chemical vapour deposition, iCVD)을 통해 상부기판을 형성하여 바닥기판과 상부기판 사이에 유기분자를 공간적으로 제한시키는 단계;인 것을 특징으로 하는 대면적 단일 도메인으로 배열된 유기분자의 수직원기둥 또는 라멜라 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 유기분자는 화학식 1~10에서 선택되는 것을 특징으로 하는 대면적 단일 도메인으로 배열된 유기분자의 수직원기둥 또는 라멜라 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, (c) 상부기판을 제거하여 바닥기판에 대해 수직으로 배열된 유기분자를 수득하는 단계; 를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 단일 도메인으로 배열된 유기분자의 수직원기둥 또는 라멜라 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 바닥기판은 실리콘웨이퍼, 유리, ITO, 고분자 필름 또는 상기 기판에 고분자 또는 카본으로 코팅된 기판인 것을 특징으로 하는 대면적 단일 도메인으로 배열된 유기분자의 수직원기둥 또는 라멜라 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 바닥기판과 상부기판의 간격은 1nm~100㎛인 것을 특징으로 하는 대면적 단일 도메인으로 배열된 유기분자의 수직원기둥 또는 라멜라 구조체의 제조방법
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제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 방법으로 제조되는 대면적 단일 도메인으로 배열된 유기분자의 수직원기둥 또는 라멜라 구조체를 이용한 리소그래피 템플릿의 제조방법
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제7항의 방법을 이용하여 제조되는 대면적 단일 도메인으로 배열된 리소그래피 템플릿
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제8항의 리소그래피 템플릿을 이용한 전자소자의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 전자소자는 디스플레이소자 및 태양전지소자 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 전자소자의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 제조방법은 (i) (1)상기 리소그래피 템플릿에 자외선을 조사하여, 유기분자의 일부분을 선택적으로 제거한 다음, 활성화 이온에칭을 통하여, 실리콘 웨이퍼에 패턴을 전사하여 나노구조를 형성하는 단계; 또는 (2) 유기분자의 일부분에 선택적으로 금속 또는 무기물 전구체를 결합시키고, 산화, 환원 또는 유기분자 제거과정을 거쳐 금속 또는 무기물 나노구조체를 형성하는 단계; 및(ii) 상기 나노구조를 이용하여 전자소자를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자소자의 제조방법
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제9항의 제조방법을 이용하여 제조되는 대면적으로 배열된 나노구조를 함유하는 전자소자
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제12항에 있어서, 상기 전자소자는 디스플레이소자 및 태양전지소자 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 전자소자
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제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 방법으로 제조되는 대면적 단일 도메인으로 배열된 유기분자의 수직원기둥 또는 라멜라 구조체를 이용한 투명전극의 제조방법
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제14항에 있어서, 상기 제조방법은 (i) 대면적 단일 도메인으로 배열된 유기분자의 수직원기둥 또는 라멜라 구조체의 중심부분에 금속염을 부착하는 단계;(ii) 산화과정을 통하여 규칙적으로 배열된 산화금속을 수득하고, 산화금속을 이용하여 탄소나노튜브를 성장시키는 단계;(iii) 규칙적으로 배열된 탄소나노튜브를 이용하여 투명전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명전극의 제조방법
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제14항의 제조방법을 이용하여 규칙적으로 배열된 탄소나노튜브를 함유하는 제조되는 투명전극
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제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 방법으로 제조되는 대면적 단일 도메인으로 배열된 유기분자의 수직원기둥 또는 라멜라 구조체를 이용한 멤브레인의 제조방법
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제17항에 있어서, 상기 제조방법은 유기분자의 수직원기둥 또는 라멜라구조체의 중심부가 이온 또는 중금속과 결합이 가능하거나 이온 전도성을 가지도록 제조하는 것을 특징으로 하는 멤브레인의 제조방법
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제17항의 제조방법을 이용하여 제조되는 중심부가 중금속과 결합가능하거나 이온전도성을 가지는 멤브레인
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