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패터닝 장치(PATTERNING DEVICE)

  • 기술번호 : KST2016017289
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 패터닝 장치가 개시된다. 패터닝 장치는 기판; 상기 기판 상에 배치되고 표면에 제1 패턴이 형성되어 있는 패턴층; 상기 패턴층 상에 배치되고 표면에 상기 제1 패턴에 대응하는 제2 패턴이 형성되어 있으며 전원을 공급받는 경우에 열을 발생하는 발열층; 및 서로 이격된 상태로 상기 발열층 상에 배치되고 상기 발열층과 각각 전기적으로 연결된 상기 제1 전극과 제2 전극을 포함할 수 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01) H01L 21/3213 (2006.01) H01L 21/56 (2006.01) H01L 21/768 (2006.01)
CPC H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01)
출원번호/일자 1020160034865 (2016.03.23)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0114532 (2016.10.05) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020150040820   |   2015.03.24
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.03.23)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김태일 대한민국 서울특별시 관악구
2 김광수 대한민국 서울특별시 강북구
3 김종욱 대한민국 경상북도 상주시 복룡냉림길 **
4 유필진 대한민국 서울특별시 강남구
5 탁효원 대한민국 부산광역시 동래구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 박종수 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
3 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2016-0280813-47
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.02.23 수리 (Accepted) 4-1-2017-5028829-43
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0606031-99
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.10.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-1073277-32
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.10.30 수리 (Accepted) 1-1-2017-1073239-18
6 등록결정서
Decision to grant
2018.03.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0200010-64
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판; 상기 기판 상에 배치되고 표면에 제1 패턴이 형성되어 있는 패턴층; 상기 패턴층의 제1 패턴이 형성된 표면을 따라 상기 패턴층을 전체적으로 덮도록 상기 패턴층 상에 배치되어, 표면에 상기 제1 패턴에 대응하는 제2 패턴이 형성되어 있으며 전원을 공급받는 경우에 열을 발생하는 발열층; 및 서로 이격된 상태로 상기 발열층 상에 배치되고 상기 발열층과 각각 전기적으로 연결된 제1 전극과 제2 전극을 포함하고,패터닝의 대상이 되는 고분자층의 표면에 대해서 상기 기판에서 상기 패턴층과 상기 발열층이 순차적으로 형성된 면이 상기 고분자층의 표면과 접촉하면서 상기 발열층이 열을 발생하며, 상기 발열층에서 발생되는 열에 의해서 상기 고분자층이 패터닝되되,상기 고분자층에 형성된 패턴의 폭은 상기 고분자층이 상기 패턴층과 상기 발열층이 순차적으로 형성된 기판의 면과 접촉하는 시간이 증가할수록 넓어지는 것을 특징으로 하는,패터닝 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 각각 상기 발열층 양 단부 상에 배치되어 있는, 패터닝 장치
3 3
제2항에 있어서,상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에서 상기 발열층의 제2 패턴이 형성된 표면을 따라 상기 발열층을 덮도록 상기 발열층 상에 배치되고 상기 제2 패턴에 대응하는 제3 패턴이 표면에 형성되어 있는 보호층을 더 포함하고,상기 고분자층의 표면에 대하여 상기 기판에서 상기 패턴층, 상기 발열층 및 상기 보호층이 순차적으로 형성된 면이 상기 고분자층의 표면과 마주하도록 배치되어 상기 보호층이 상기 고분자층과 직접 접촉하여 상기 고분자층을 패터닝하는 것을 특징으로 하는,패터닝 장치
4 4
제1항에 있어서, 상기 패턴층 및 상기 발열층 사이에 배치되어 상기 고분자층의 패터닝 공정에서 상기 발열층이 열을 발생하는 경우에 상기 발열층과 상기 패턴층의 열팽창계수의 차이에 의해 서로 분리되는 것을 방지하기 위한 접착층을 더 포함하는, 패터닝 장치
5 5
제1항에 있어서, 상기 패턴층은, 경연성(rigid flexible) 특성을 가지는 물질로 이루어진, 패터닝 장치
6 6
제1항에 있어서, 상기 패턴층은, 150℃까지의 온도에도 변형이 발생하지 않는 물질로 이루어진, 패터닝 장치
7 7
제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 패턴층은, 폴리우레탄 아크릴레이트(polyurethane acrylate, PUA), 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS), 퍼플루오로폴리에테르(perfluoropolyether, PFPE), 폴리우레탄(polyurethane, PU), 테프론(tefron) 및 NOA(norland optical adhesive)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는, 패터닝 장치
8 8
제1항에 있어서, 상기 기판은, 폴리카보네이트(polycarbonate, PC), 폴리에스터술폰(polyether sulfone, PES), 폴리아미드(Polyimide, PI), 폴리노르보넨(polynorbonene), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylene naphthalate, PEN), 아릴라이트(arylite) 및 폴리에틸렌프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는, 패터닝 장치
9 9
제1항에 있어서, 상기 발열층은, 백금(platinum), 몰리브덴(molybdenum), 텅스텐(tungsten), 탄탈(tantalum), 금(gold), 은(silver), 그래핀(graphene), 탄소 나노튜브(carbon nanotube), 은 나노와이어(silver nanowire), 구리 나노와이어(cu nanowire), 인듐주석 산화물(indium tin oxide, ITO) 및 플루오린 틴 옥사이드(fluorinated tin oxide, FTO)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는, 패터닝 장치
10 10
제1항에 있어서, 상기 발열층의 두께는, 5 내지 200㎚인, 패터닝 장치
11 11
제4항에 있어서, 상기 접착층은, 크롬(Cr) 또는 티타늄(Ti)을 포함하는, 패터닝 장치
12 12
제4항에 있어서, 상기 접착층의 두께는, 1 내지 100㎚인, 패터닝 장치
13 13
제3항에 있어서,상기 보호층은, 3-(2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoropentyloxy)propyltriethoxysilane(OPF), Trimethoxy(propyl) silane(TMS), 1-hexadecanethiol, 1H,1H,2H,2H-perfluoro-1-decanol, PFTS(1H,1H,2H,2H-perfluorooctyltriethoxysilane)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상으로 이루어진 자기조립 단분자막(self-assembled monolayer, SAM)을 포함하는, 패터닝 장치
14 14
제1항에 있어서,상기 기판은 원통형(cylinder-type)임을 특징으로 하는,패터닝 장치
15 15
제14항에 있어서,상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 원통형 내부를 통해 전기적으로 연결됨을 특징으로 하는,패터닝 장치
16 16
제14항에 있어서,원통형인 상기 기판은 원통의 양단면을 수직으로 연결하는 축을 기준으로 회전가능하도록 구성된,패터닝 장치
지정국 정보가 없습니다
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1 US10025178 US 미국 FAMILY
2 US20160282715 US 미국 FAMILY

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 성균관대학교 산학협력단 기초연구사업-일반연구자지원사업 뇌에 삽입가능한 다기능 랩온어칩 제조와 이의 응용
2 미래창조과학부 세종대학교 산학협력단 미래유망융합기술파이어니어사업 스트레스 호르몬 레벨 조절용 생체삽입용 집적소자 개발