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미세유동채널에 위치하는 전기화학센서용 미세기준전극 제조 방법

  • 기술번호 : KST2014022253
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 미세한 크기의 기준전극에 선택적으로 멤브레인 코팅을 하여 미세유동채널에 위치하는 전기화학센서용 미세기준전극을 제조하는 방법에 관한 것이다. 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 전기화학센서용 미세기준전극 제조방법은, 기재 표면에 전극용 금속을 증착하여 금속층을 형성하는 제1단계; 상기 기재에 상기 금속층이 채널 내부에 위치하는 미세유동채널을 형성하는 제2단계; 상기 금속층의 표면을 염소화하여 금속/염화금속 기준전극을 형성하는 제3단계; 및 상기 금속/염화금속 기준전극의 표면에 멤브레인을 코팅하되, 멤브레인이 상기 미세유동채널의 내부에만 코팅되도록 잉크젯프린팅방법을 사용하는 제4단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 기준전극에 선택적으로 멤브레인 코팅을 함으로써 기준전극의 크기가 작고 집적화된 센서를 제조할 수 있는 효과가 있다. 특히, 센서의 소형화 및 집적화에 필수적인 미세유동채널이 형성된 기재에 미세기준전극을 쉽게 제조할 수 있는 효과가 있다. 전기화학센서, 미세기준전극, 은/염화은 전극, 미세유동채널, 잉크젯프린팅
Int. CL H01L 21/20 (2006.01) H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 3/108(2013.01) G03F 3/108(2013.01)
출원번호/일자 1020080065028 (2008.07.04)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1000009-0000 (2010.12.03)
공개번호/일자 10-2010-0004710 (2010.01.13) 문서열기
공고번호/일자 (20101210) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.07.04)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이내응 대한민국 경기도 과천시
2 김덕진 대한민국 부산광역시 사하구
3 엔구엔 튜이 녹 튜이 베트남 경기도 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다울 대한민국 서울 강남구 봉은사로 ***, ***호(역삼동, 혜전빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.07.04 수리 (Accepted) 1-1-2008-0485541-54
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.01.21 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.02.19 수리 (Accepted) 9-1-2010-0011418-19
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.05.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0210178-17
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2010.07.16 수리 (Accepted) 1-1-2010-0461460-51
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.08.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0527966-77
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.08.17 수리 (Accepted) 1-1-2010-0527951-93
8 등록결정서
Decision to grant
2010.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0541952-14
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090770-53
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.20 수리 (Accepted) 4-1-2012-5131828-19
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.27 수리 (Accepted) 4-1-2012-5137236-29
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.02.23 수리 (Accepted) 4-1-2017-5028829-43
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번호 청구항
1 1
기재 표면에 전극용 금속을 증착하여 금속층을 형성하는 제1단계; 상기 기재에 상기 금속층이 채널 내부에 위치하는 미세유동채널을 형성하는 제2단계; 상기 금속층의 표면을 염소화하여 금속/염화금속 기준전극을 형성하는 제3단계; 및 상기 금속/염화금속 기준전극의 표면에 멤브레인을 코팅하되, 멤브레인이 상기 미세유동채널의 내부에만 코팅되도록 잉크젯프린팅방법을 사용하는 제4단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기화학센서용 미세기준전극 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 기재의 종류가 실리콘, 플라스틱 또는 글라스 기판 중에서 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 전기화학센서용 미세기준전극 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 전극용 금속이 은, 수은 또는 탈륨 아말감 중에 하나이고, 기준전극이 은/염화은, 수은/염화수은 또는 탈륨 아말감/염화탈륨 기준전극 중에 하나인 것을 특징으로 하는 전기화학센서용 미세기준전극 제조방법
4 4
제3항에 있어서, 상기 전극용 금속을 증착하는 방법이 증기증착법 또는 도금법인 것을 특징으로 하는 전기화학센서용 미세기준전극 제조방법
5 5
제4항에 있어서, 상기 금속층을 염소화하는 방법이 습식법 또는 건식법에 의한 염소화방법인 것을 특징으로 하는 전기화학센서용 미세기준전극 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 제4단계에서 코팅되는 멤브레인이 폴리염화비닐 또는 폴리우레탄인 것을 특징으로 하는 전기화학센서용 미세기준전극 제조방법
7 7
제1항에 있어서, 제4단계에서 잉크젯프린팅방법으로 멤브레인을 형성하는 과정이, 멤브레인용 용액을 이용하여 잉크젯프린팅용 잉크를 준비하는 단계; 상기 잉크를 적재하고, 상기 미세유동채널 및 상기 금속층에 대응하는 패턴의 모양과 크기를 지정하는 단계; 상기 잉크에 양전압 또는 음전압의 펄스전압을 인가하고, 노즐을 통하여 토출하는 단계; 및 토출된 잉크 방울을 소결하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기화학센서용 미세기준전극 제조방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 잉크의 점도가 4 내지 20 cP이고, 표면장력이 24 내지 40 dyne/cm이며, 퍼센트 농도가 0
9 9
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10 10
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11 11
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12 12
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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.