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화학식 I로 표시되는 아이속사졸 유도체 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염: [화학식 I]상기 화학식 I에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 C1-C20의 직쇄 또는 분지의 알킬, C3-C10의 사이클로알킬, 치환 또는 비치환된 아릴 및 치환 또는 비치환된 헤테로 아릴이다
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청구항 1에 있어서, 상기 화학식 I의 R1은 R2는 각각 독립적으로 C1-C20의 직쇄 또는 분지의 알킬, C3-C10의 사이클로알킬, 비치환되거나 -F,-Cl,-Br,-I,-CN,-CF3,-OH, 페닐기, C1-C10의 알콕시기, 아미노기, 또는 에 의해 일치환 또는 다치환된 C3-C24의 아릴 및 비치환되거나 -F,-Cl,-Br,-I,-CN,-CF3,-OH, 페닐기, C1-C10의 알콕시기, 아미노기, 또는 에 의해 일치환 또는 다치환된 것으로 단일 또는 복수개의 N, O 또는 S의 헤테로 원자를 갖는 C3-C24의 헤테로 아릴인, 아이속사졸 유도체 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염
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청구항 1에 있어서, 상기 화학식 I의 R1은 ,,,및 중에서 선택되는 어느 하나이며; R2는, , , , , , , ,, , , , , 및중에서 선택되는 어느 하나인, 아이속사졸 유도체 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염
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청구항 1에 있어서, 상기 아이속사졸 유도체 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염은 하기 1a 내지 15a, 1b 내지 15b, 1c 내지 15c, 1d 내지 15d, 1e 내지 15e 및 1f 내지 15f로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 중 하나 이상을 포함하는 것인, 아이속사졸 유도체 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염: , , , ,, , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , ,, , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , ,및
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청구항 1에 있어서, 상기 아이속사졸 유도체 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염은 하기 4b, 6b, 10b, 12b 내지 14b, 2a, 11b, 10e, 11e, 11f, 3e 내지 8e 및 13e 내지 15e 로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물 중 하나 이상을 포함하는 것인, 아이속사졸 유도체 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염: , ,, , , ,, , , ,,,,,,,
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극성 비양성자성 용매 중의 화학식 III의 구조를 갖는 옥심에 N-클로로숙신이미드를 첨가하고 교반하여 제1혼합물을 제조하는 단계; 및상기 제1혼합물과 화학식 IV의 구조를 갖는 말단 알카인을 반응 시키는 단계를 포함하는 아이속사졸 유도체 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염의 제조방법:[화학식 III]상기 화학식 III에 있어서, R2는 C1-C20의 직쇄 또는 분지의 알킬, C3-C10의 사이클로알킬, 치환 또는 비치환된 아릴 및 치환 또는 비치환된 헤테로 아릴이며; [화학식 IV]상기 화학식 IV에 있어서, R1은 C1-C20의 직쇄 또는 분지의 알킬, C3-C10의 사이클로알킬, 치환 또는 비치환된 아릴 및 치환 또는 비치환된 헤테로 아릴이다
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극성 비양성자성 용매 중의 화학식 III의 구조를 갖는 옥심에 N-클로로숙신이미드를 첨가하고 교반하여 제1혼합물을 제조하는 단계; 상기 제1혼합물과 하기 화학식 V의 구조를 갖는 말단 알카인을 반응 시켜 제1반응물을 형성하는 단계; 및 상기 제1반응물을 디프로텍션 시키는 단계를 포함하는 아이속사졸 유도체 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염의 제조방법:[화학식 III]상기 화학식 III에 있어서, R2는 C1-C20의 직쇄 또는 분지의 알킬, C3-C10의 사이클로알킬, 치환 또는 비치환된 아릴 및 치환 또는 비치환된 헤테로 아릴이다
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알킬 알코올 및 물이 4:1 내지 6:1 범위로 혼합된 용매 중의 화학식 III의 구조를 갖는 옥심에 PIFA 및 화학식 IV의 구조를 갖는 말단 알카인을 첨가하여 제2혼합물을 제조하는 단계; 및상기 제2혼합물을 상온에서 교반하여 반응시키는 단계를 포함하는 아이속사졸 유도체 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염의 제조방법: [화학식 III]상기 화학식 III에 있어서, R2는 C1-C20의 직쇄 또는 분지의 알킬, C3-C10의 사이클로알킬, 치환 또는 비치환된 아릴 및 치환 또는 비치환된 헤테로 아릴이며; [화학식 IV]상기 화학식 IV에 있어서, R1은 C1-C20의 직쇄 또는 분지의 알킬, C3-C10의 사이클로알킬, 치환 또는 비치환된 아릴 및 치환 또는 비치환된 헤테로 아릴이다
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청구항 1 내지 3 중 어느 하나의 아이속사졸 유도체 화합물 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염을 유효성분으로 함유하는 암 치료용 또는 예방용 조성물
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