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기판 상에 실크 피브로인 박막을 형성하는 단계;상기 실크 피브로인 박막 상에 하드 마스크 박막을 형성하는 단계;상기 실크 피브로인 박막과 호환되는 하드 마스크 식각액을 이용하여 상기 하드 마스크 박막을 포토리소그래피로 패터닝함으로써 하드 마스크 패턴을 생성하는 단계;상기 하드 마스크 패턴에 기초하여 상기 실크 피브로인 박막을 식각하는 단계; 및상기 식각액을 이용하여 상기 하드 마스크 박막을 식각하는 단계를 포함하는 박막 패터닝 방법
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제1항에 있어서,상기 기판은 유연 소재를 포함하는 박막 패터닝 방법
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제1항에 있어서,상기 실크 피브로인 박막을 형성하는 단계는,상기 기판 상에 실크 피브로인 수용액을 스핀 코팅하는 단계;스핀 코팅된 실크 피브로인 수용액을 건조하여 건조된 실크 피브로인을 생성하는 단계; 및상기 건조된 실크 피브로인을 수증기 처리 또는 메탄올 처리하여 결정화함으로써 상기 실크 피브로인 박막을 형성하는 단계를 포함하는 박막 패터닝 방법
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제1항에 있어서,상기 하드 마스크 박막은알루미늄 박막 또는 은 박막을 포함하는 박막 패터닝 방법
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제1항에 있어서,상기 하드 마스크 박막을 형성하는 단계는,금속을 열 증착 또는 스퍼터 증착하는 단계를 포함하는 박막 패터닝 방법
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제1항에 있어서,상기 하드 마스크 박막은 은 박막 또는 알루미늄 박막이고,상기 식각액은,상기 하드 마스크 박막이 은 박막인 경우에 물, 과산화수소 및 암모니아수 혼합 용액이고,상기 하드 마스크 박막이 알루미늄 박막인 경우에 불산 용액인박막 패터닝 방법
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제6항에 있어서,상기 불산 용액은,불산 49%를 1 내지 250배 희석한 용액이고,상기 물, 과산화수소 및 암모니아수 혼합 용액은,물, 과산화수소 및 암모니아수를 5 내지 30:1:1의 비율로 혼합한 용액인박막 패터닝 방법
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제1항에 있어서,상기 하드 마스크 박막 패턴을 생성하는 단계는,상기 하드 마스크 박막 상에 포토레지스트(photoresist) 박막을 형성하는 단계;상기 포토레지스트 박막을 패터닝하는 단계; 및상기 식각액을 이용하여 상기 하드 마스크 박막을 식각하는 단계를 포함하는 박막 패터닝 방법
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제8항에 있어서,상기 포토레지스트 박막을 패터닝하는 단계는,상기 포토레지스트를 노광하는 단계; 및노광된 포토레지스트를 현상하여 상기 포토레지스트 박막을 패터닝하는 단계를 포함하는 박막 패터닝 방법
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제1항에 있어서,상기 실크 피브로인 박막을 식각하는 단계는,상기 실크 피브로인 박막을 화학적 건식 식각하는 단계를 포함하는 박막 패터닝 방법
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제10항에 있어서,상기 화학적 건식 식각하는 단계는,상기 실크 피브로인 박막을 산소 플라즈마로 식각하는 단계를 포함하는 박막 패터닝 방법
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기판 상에 실크 피브로인 박막을 형성하는 단계;상기 실크 피브로인 박막 상에 하드 마스크 박막을 형성하는 단계;상기 하드 마스크 박막 상에 포토레지스트 박막을 패터닝하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;상기 실크 피브로인 박막과 호환되는 식각액을 이용하여 상기 하드 마스크 박막을 식각하는 단계;상기 포토레지스트 박막 상에 패턴용 박막을 형성하는 단계;상부에 상기 패턴용 박막을 포함하는 상기 포토레지스트 패턴을 리프트오프(lift-off)하는 단계; 및상기 식각액을 이용하여 상기 하드 마스크 박막을 식각하는 단계를 포함하는 박막 패터닝 방법
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제12항에 있어서,상기 기판은 유연 소재를 포함하는 박막 패터닝 방법
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제12항에 있어서,상기 실크 피브로인 박막을 형성하는 단계는,상기 기판 상에 실크 피브로인 수용액을 스핀 코팅하는 단계;스핀 코팅된 실크 피브로인 수용액을 건조하여 건조된 실크 피브로인을 생성하는 단계; 및상기 건조된 실크 피브로인을 수증기 처리 또는 메탄올 처리하여 결정화함으로써 상기 실크 피브로인 박막을 형성하는 단계를 포함하는 박막 패터닝 방법
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제12항에 있어서,상기 하드 마스크 박막은,알루미늄(Al) 박막 또는 은(Ag) 박막을 포함하는 박막 패터닝 방법
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제12항에 있어서,상기 패턴용 박막은,금(Au) 박막을 포함하는 박막 패터닝 방법
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제12항에 있어서,상기 하드 마스크 박막 및 상기 패턴용 박막은,열 증착 또는 스퍼터 증착을 이용하여 형성되는박막 패터닝 방법
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제12항에 있어서,상기 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계는,상기 하드 마스크 박막 상에 포토레지스트를 도포하는 단계;상기 포토레지스트를 노광하는 단계; 및노광된 포토레지스트를 현상하여 상기 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 박막 패터닝 방법
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제12항에 있어서,상기 식각액은,상기 하드 마스크 박막만을 선택적으로 식각하는박막 패터닝 방법
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제19항에 있어서,상기 식각액은 불산 용액이고, 상기 하드 마스크 박막은 알루미늄 박막인박막 패터닝 방법
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제12항에 있어서,상기 포토레지스트 패턴을 리프트오프하는 단계는,상기 상부에 패턴용 박막을 포함하는 상기 포토레지스트 패턴을 아세톤 용액을 이용하여 초음파 처리하는 단계를 포함하는 박막 패터닝 방법
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