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고분자 프레임의 유기용매 가소화 공정을 통한 3 차원 전자소자 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2019018369
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 실시 예 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자 및 이의 제조방법은 바닥면이 다각형으로 형성되고 상기 바닥면 각각의 모서리로부터 연장 형성되는 인접면을 포함하도록 전개도로 이루어진 고분자 프레임 및 상기 고분자 프레임에 전사되는 유연전자소자를 포함하되, 상기 고분자 프레임은 유기용매 증기에 노출되어 영률이 변화되는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 29/45 (2006.01.01) H01L 29/16 (2006.01.01) H01L 21/3213 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01)
CPC H01L 29/454(2013.01) H01L 29/454(2013.01) H01L 29/454(2013.01) H01L 29/454(2013.01)
출원번호/일자 1020180030484 (2018.03.15)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2019-0108873 (2019.09.25) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.03.15)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 고흥조 광주광역시 북구
2 김기관 광주광역시 북구
3 장훈수 광주광역시 북구
4 강성현 광주광역시 북구
5 김영민 광주광역시 북구
6 유성광 광주광역시 북구
7 유정일 광주광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한상수 대한민국 서울시 서초구 효령로**길 ** *층 (브릿지웰빌딩)(에이치앤피국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 광주광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.03.15 수리 (Accepted) 1-1-2018-0262515-04
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.11.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.12.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0149037-22
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.02.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0130227-23
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2019.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2019-0413841-16
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.05.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0520514-78
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.05.21 수리 (Accepted) 1-1-2019-0520532-90
8 등록결정서
Decision to grant
2019.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0701535-18
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다각형으로 형성되는 바닥면 및 상기 바닥면 각각의 모서리 중 어느 하나의 모서리와 맞닿으며 다각형으로 형성되는 복수 개의 인접면을 포함하도록 전개도와 같은 형상으로 이루어진 고분자 프레임; 및상기 고분자 프레임에 전사되는 유연전자소자를 포함하되,상기 고분자 프레임은 유기용매 증기에 노출되어 영률이 변화되는 것을 특징으로 하는 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자
2 2
제 1 항에 있어서,상기 인접면이 소정의 각도를 이루며 접히는 것을 특징으로 하는 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자
3 3
제 2 항에 있어서,상기 인접면이 삼각형으로 형성되어 접히면서 상기 고분자 프레임이 다각뿔 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자
4 4
제 2 항에 있어서,상기 인접면이 상기 바닥면과 같은 다각형 형상으로 형성되어 접히면서 상기 고분자 프레임이 다면체 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자
5 5
제 1 항에 있어서,상기 고분자 프레임은 두께 분포에 차이를 가지며 접히는 부분의 두께가 접히지 않는 부분의 두께보다 얇은 것을 특징으로 하는 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자
6 6
a) 유연전자소자를 준비하는 단계;b) 고분자 프레임을 준비하는 단계;c) 상기 유연전자소자를 수용성테이프를 통해 상기 고분자 프레임에 전사하는 단계;d) 상기 수용성테이프를 용해하고 상기 고분자 프레임을 유기용매 증기에 노출하여 가소화 시키는 단계; 및e) 상기 고분자 프레임과 상기 유연전자소자가 3차원 형태로 접히는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자 제조방법
7 7
제 6 항에 있어서,상기 a) 단계는 f) 실리콘을 건식전사인쇄방법을 통해 glass 기판에 전사하는 단계;g) 상기 glass 기판에 PI(polyimide)를 코팅하여 절연층을 형성하는 단계;h) 건식식각방법을 통해 상기 PI(polyimide)에 via를 패터닝하는 단계; 및i) 전극소재의 코팅 및 증착을 통해 회로를 구성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자 제조방법
8 8
제 7 항에 있어서,상기 glass 기판은 PI와 GeOx가 코팅되는 것을 특징으로 하는 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자 제조방법
9 9
제 8 항에 있어서,상기 i) 단계 이후에 상기 PI를 코팅하여 보호층을 형성하는 j) 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자 제조방법
10 10
제 9 항에 있어서,상기 j) 단계 이후에 상기 GeOx 층을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자 제조방법
11 11
제 7 항에 있어서, 상기 전극소재는 전도성 금속 또는 이들의 혼합금속, 금속성 원소기반의 소재, 탄소 기반의 소재, 그래핀을 포함하는 전도성 나노소재, 전도성 고분자 또는 이들의 혼합소재 중 어느 하나로 이루어져 전극 회로를 구성하는 것을 특징으로 하는 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자 제조방법
12 12
제 6 항에 있어서,상기 b) 단계는 두께분포를 갖는 상기 고분자프레임을 제작하는 단계; 상기 고분자프레임을 유기용매증기에 노출시켜 가소화 하는 단계; 및상기 고분자프레임의 표면에 유연한 층이 형성되는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자 제조방법
13 13
제 6 항에 있어서,상기 고분자프레임은 아크릴로니트릴부타디엔스티렌(acrylonitrile butadiene styrene), 폴리메틸메타크릴레이트(poly methyl methacrylate), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리아릴레이트(polyallylate), 폴리이미드 (polyimide), 폴리아미드(polyamide), 폴리아미드이미드(polyamideimide), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리에틸렌(polyethylene), 폴리프로필렌(polypropylene), 폴리우레탄(polyurethane), 폴리이스터(polyester), 폴리스타이렌(polystyrene), 폴리메틸실세스퀴옥산(polymethylsilsesquioxane), 폴리에틸렌옥사이드(Polyethylene oxide), 폴리아크릴로나이트릴(Polyacrylonitrile), 폴리비닐리덴플로라이드(Polyvinylidene fluoride), 폴리비닐클로라이드(Polyvinylchloride), 폴리에테르설폰(polyethersulphone), 폴리에테르이미드(polyetherimide), 폴리에테르에테르케톤(polyetheretherketone), 폴리부타디엔테레프탈레이트(polybutadieneterephtalate), 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate), 셀룰로오스트리아세테이트(cellulose triacetate), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(cellulose acetate propinoate), 폴리이소시아누레이트(polyisocyanurate), 폴리메틸실세스퀴옥산(polymethylsilsesquioxane), 폴리페닐렌 설파이드(polyphenylene sulfide), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethyelenen napthalate)중 어느 하나의 고분자물질을 포함하고,이의 가소화 용매로써 아세탈디하이드(Acetaldehyde), 아세틱엑시드(Acetic acid), 아세톤(Acetone), 아세토나이트릴(Acetonitrile), 아세토페네디틴(Acetopheneditin), 아세토페논(Acetophenoe), 아세틸아세톤 (Acetyl acetone), 아세틸클로라이드(Acetyl Chloride), 아세틸나이트라이드(Acetyl nitrite), 아세틸나이트릴 (Acetylnitrile), 아세틸로나이트릴 (Acetylonitrile), 알릴알콜 (Allyl alcohol), 알릴클로라이드(Allyl chloride), 아민(Amines), 암모니아(Ammonia), 암모늄플로라이드(Ammonium fluoride), 아밀아세테이트(Amyl acetate), 아밀클로라이드(Amyl chloride), 아닐린(Aniline), 아닐린클로로하이드레이트(Aniline chlorohydrate), 아쿠아레지아(Aqua regia), 아로마틱하이드로카본(Aromatic hydrocarbons), 아스팔트(Asphalt), 벤잘데하이드(Benzaldehyde), 벤젠(Benzene), 벤젠설포닉엑시드(Benzene sulfonic acid), 벤질아세테이트(Benzyl acetate), 벤질알콜(Benzyl alcohol), 벤질클로라이드(Benzyl chloride), 브로마인(Bromine), 부타디엔(Butadiene), 부탄(Butane), 뷰틸아세테이트(Butyl acetate), 뷰틸아크릴레이트(Butyl acrylate), 뷰틸알콜(Butyl Alcohol), 뷰틸클로라이드(Butyl chloride), 뷰틸이써(Butyl ether), 뷰틸페놀(Butyl phenol), 보론용매(Boron fluides), 브로모폼(Bromoform), 브로모톨루엔(Bromotoluene), 부타디엔메톡시(Butadiene-2,4-p-Methoxy), 뷰틸프탈레이드(Butyl phthalate), 뷰틸렌(Butylene), 뷰틸릭엑시드(Butyric acid), 칼슘비스설파이드(Calcium bisulfide), 칼슘클로라이드(Calcium chloride), 칼슘하이드로옥사이드(Calcium hydroxide), 칼슘하이포클로라이트(Calcium hypochlorite), 캠퍼오일(Camphor oil), 카본모노옥사이드(Carbon monoxide) 카본다이설파이드(Carbon disulfide), 카본테트라클로라이드(Carbon Tetrachloride), 코스틱소다(Caustic soda), 클로릭엑시드(Chloric acid), 클로린(Chlorine), 클로로아세틱엑시드(Chloroacetic acid), 클로로벤젠(Chlorobenzene), 클로로폼(Chloroform), 클로로설포닉엑시드(Chlorosulfonic acid), 클로미아룸(Chrome alum), 크로믹엑시드(Chromic acid), 카퍼사이나이드(Copper cyanide), 카퍼플루오보레이드(Copper fluoborate), 크레오졸(Creosols), 크레오실릭엑시드(Creosylic acid), 크레졸(Cresol), 사이클로헥산(Cyclohexane), 사이클로헥사놀(Cyclohexanol), 사이클로헥사논(Cyclohexanone), 데카하이드로나프탈렌(Decahydronaphthalene), 다이뷰티옥시에틸프탈레이드(Di(butoxyethyl) phthalate), 다이뷰틸프탈레이드(Dibutyl phthalate), 다이클로로에탄(Dichloro ethane), 다이클로로벤젠(Dichlorobenzene), 다이클로로에틸렌(Dichloroethylene), 다이에틸이써(Diethyl ether), 다이에틸아민(Diethylamine), 다이메틸아민(Dimethylamine), 다이메틸폼아미드(Dimethylformamide), 다이옥틸프탈레이드(Dioctyl phthalate), 이써(Ethers), 에틸아세테이트(Ethyl acetate), 에틸알콜(Ethyl alcohol), 에틸벤젠(Ethyl benzene), 에틸이써(Ethyl ether), 에틸렌클로라이드(Ethylene chloride), 에틸렌클로로하이드린(Ethylene chlorohydrin), 에틸렌다이아민(Ethylene diamine), 에틸렌클리콜(Ethylene glycol), 에틸렌옥사이드(Ethylene oxide), 파티엑시드(Fatty acids), 플로린가스(Fluorine gas), 포말데하이드(Formaldehyde), 포레온12(Freon 12), 퍼퓨릴알콜(Furfuryl alcohol), 가솔린(Gasoline), 젤라틴(Gelatin), 글루코스(Glucose), 글리세린(Glycerine), 헵탄(Heptane), 하이드로브로믹엑시드(Hydrobromic acid), 하이드로클로릭엑시드(Hydrochloric acid), 하이드로사이아닉엑시드(Hydrocyanic acid), 하이드로플루오릭엑시드(Hydrofluoric acid), 하이드로젠퍼옥사이드(Hydrogen peroxide), 하이드로젠설파이드(Hydrogen sulfide), 아이오딘(Iodine), 아이소뷰탄(Isobutane), 아이소프로필아세테이트 (Isopropyl acetate), 아이소프로필알콜(Isopropyl alcohol), 아이소프로필이써(Isopropyl ether), 락틱엑시드(Lactic acid), 라노린(Lanolin), 리드아세테이트(Lead acetate), 린시드오일(Linseed oil), 마그네슘클로라이드(Magnesium chloride), 마그네슘설트(Magnesium salts), 머큐리설트(Mercury salts), 메탄(Methane), 메틸아세테이트(Methyl acetate), 메틸알콜(Methyl alcohol), 메틸아민(Methyl amine), 메틸브로마이드(Methyl bromide), 메틸렌클로라이드(Methylene Chloride), 메틸설퍼릭엑시드(Methylsulfuric acid), 모르포린(Morpholine), 나프타(Naphtha), 나프탈렌(Naphthalene), 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특징으로 하는 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자 제조방법
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 광주과학기술원 핵심연구지원 접합 및 접이 기술을 이용한 레고형 초박막 광전자 소자
2 없음 광주과학기술원 GIST 창조적 도전과제 고효율 휴먼-디바이스 네트워크 시스템을 위한 무간극 인터페이스를 갖는 전자피부