맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

레이저 간섭을 이용한 미세 패턴의 형성방법

  • 기술번호 : KST2015174922
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 레이저광의 간섭 현상을 이용한 미세 패턴의 형성방법이 개시된다. 평행광인 레이저는 광로차를 발생시키는 수단에 의해 간섭 레이저광의 형태로 시료 또는 기판에 조사된다. 기판은 포토레지스트로 도포되고, 노광 및 현상에 의해 규칙적으로 배열된 다수의 패턴들이 동시에 형성된다. 또한, 스탬프인 투명 기판을 이용하고, 투명 기판 상에 간섭 마스킹패턴을 이용하여 원하는 영역에 선택적으로 규칙적인 패턴들을 동시에 형성할 수 있다.광결정, 미세 패턴, 간섭, 도파로, 리소그래피
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01)
출원번호/일자 1020070098296 (2007.09.28)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2009-0032796 (2009.04.01) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.09.28)
심사청구항수 4

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박정규 대한민국 광주 북구
2 정건영 대한민국 광주 북구
3 김상묵 대한민국 광주 북구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인이상 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2007.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2007-0702404-53
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.08.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.09.11 수리 (Accepted) 9-1-2008-0054982-31
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.01.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0029817-68
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2009.03.19 수리 (Accepted) 1-1-2009-0164851-42
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.03.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0164899-22
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.03.19 수리 (Accepted) 1-1-2009-0164893-59
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2009.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0313638-21
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
레이저광을 발생시키는 단계;레이저광을 평행광으로 형성하는 단계;상기 평행광에 광로차를 부여하여 간섭 레이저광을 형성하는 단계; 및시료에 상기 간섭 레이저광을 조사하여 규칙적인 패턴을 동시에 형성하는 단계를 포함하는 미세 패턴의 형성방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 간섭 레이저광은, 시료에 직접 입사되는 직접 평행광; 및상기 평행광에 광로차를 부여하여 지연된 평행광으로 구성되고,상기 직접 평행광이 상기 시료에 입사되는 입사각과 상기 지연된 평행광이 상기 시료에 입사되는 입사각은 동일한 것을 특징으로 하는 미세 패턴의 형성방법
3 3
제2항에 있어서, 상기 간섭 레이저광의 파장은 하기의 수학식에 따르는 것을 특징으로 하는 미세 패턴의 형성방법
4 4
레이저광을 발생시키는 단계;상기 레이저광을 평행광으로 형성하는 단계;상기 평행광에 광로차를 부여하여 간섭 레이저광을 형성하는 단계;상기 간섭 레이저광을 시료에 1차로 조사하는 단계;상기 간섭 레이저광이 1차로 조사된 시료를 회전시키는 단계; 및상기 회전된 시료에 상기 간섭 레이저광을 2차로 조사하여 규칙적인 패턴들을 동시에 형성하는 단계를 포함하는 미세 패턴의 형성방법
5 5
제4항에 있어서, 상기 시료를 회전시키는 회전각은 60° 또는 90°인 것을 특징으로 하는 미세 패턴의 형성방법
6 6
제4항에 있어서, 상기 간섭 레이저광은, 시료에 직접 입사되는 직접 평행광; 및상기 평행광에 광로차를 부여하여 지연된 평행광으로 구성되고,상기 직접 평행광이 상기 시료에 입사되는 입사각과 상기 지연된 평행광이 상기 시료에 입사되는 입사각은 동일한 것을 특징으로 하는 미세 패턴의 형성방법
7 7
제1 기판 상에 간섭마스킹 패턴을 형성하는 단계;상기 간섭마스킹 패턴을 투명 기판에 전사하는 단계;상기 간섭마스킹 패턴이 전사된 투명 기판을 포토레지스트가 도포된 제2 기판에 결합시키는 단계; 및상기 투명 기판이 결합된 제2 기판에 간섭 레이저광을 조사하여 규칙적인 패턴을 동시에 형성하는 단계를 포함하는 미세 패턴의 형성방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 투명 기판은 PDMS(polydimethylsiloxane)로 이루어진 것을 특징으로 하는 미세 패턴의 형성방법
9 9
제7항에 있어서, 상기 간섭 레이저광이 상기 투명 기판의 간섭마스킹 패턴을 통과하는 경우, 산란 현상에 의해 광간섭 현상이 차단되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴의 형성방법
10 10
제7항에 있어서, 상기 제2 기판에 규칙적인 패턴을 동시에 형성하는 단계는,상기 간섭 레이저광은 상기 제2 기판에 조사하는 단계; 및상기 간섭 레이저광에 의해 조사된 포토레지스트에 대해 현상공정을 수행하여, 규칙적인 패턴을 동시에 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴의 형성방법
11 11
제7항에 있어서, 상기 제2 기판에 규칙적인 패턴을 동시에 형성하는 단계는,상기 간섭 레이저광을 1차로 상기 제2 기판에 조사하는 단계;상기 간섭 레이저광이 1차로 조사된 상기 제2 기판을 회전시키는 단계; 상기 회전된 제2 기판에 상기 간섭 레이저광을 2차로 조사하는 단계; 및상기 간섭 레이저광에 의해 조사된 포토레지스트에 대해 현상공정을 수행하여, 규칙적인 패턴을 동시에 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴의 형성방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.