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인체 이식형 센서

  • 기술번호 : KST2019021119
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 인체 이식형 센서에 관한 것으로서, 기판, 상기 기판의 내부에 삽입되는 금속 전극을 포함하고, 상기 금속 전극의 단부는 상기 기판의 표면에서 외부로 노출되며, 상기 금속 전극의 단부 및 상기 기판은 표면에 거칠기를 가지는 나노 패턴이 형성되는 것을 특징으로 한다.
Int. CL A61B 5/00 (2006.01.01)
CPC A61B 5/6846(2013.01) A61B 5/6846(2013.01)
출원번호/일자 1020180051807 (2018.05.04)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-2126464-0000 (2020.06.18)
공개번호/일자 10-2019-0127319 (2019.11.13) 문서열기
공고번호/일자 (20200624) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.05.04)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전호정 서울특별시 성북구
2 서현선 서울특별시 성북구
3 서영민 서울특별시 성북구
4 김유찬 서울특별시 성북구
5 옥명렬 서울특별시 성북구
6 석현광 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 김한 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
3 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.05.04 수리 (Accepted) 1-1-2018-0443951-32
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.04.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.07.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0128318-55
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.12.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0874908-57
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.02.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0112463-47
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2020.02.03 수리 (Accepted) 1-1-2020-0112462-02
7 등록결정서
Decision to grant
2020.06.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0411223-23
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판;상기 기판의 내부에 삽입되는 금속 전극;을 포함하고,상기 금속 전극의 일 단부는 상기 기판의 표면에서 외부로 노출되며,상기 금속 전극의 일 단부 및 상기 기판은 표면에 거칠기를 가지는 나노 패턴이 형성되고,상기 나노패턴이 형성된 영역은 복수개의 영역이 일정 폭을 가지고 서로 이격되어 형성되어 반복된 패턴을 형성하고,상기 복수개의 영역은 일 방향으로 형성되고, 서로 이격되어 평행하게 형성되는, 인체 이식형 센서(sensor)
2 2
제 1 항에 있어서,상기 나노패턴은 인체 내 임의의 면역세포 또는 섬유아세포의 부착과 증식을 억제하는, 인체 이식형 센서(sensor)
3 3
제 1 항에 있어서,상기 나노패턴은 거칠기가 80 nm 내지 250 nm의 범위를 가지는, 인체 이식형 센서(sensor)
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
제 1 항에 있어서,상기 복수개의 영역은 적어도 하나의 영역이 제1 방향으로 형성될 때, 상기 제1 방향과 수직하는 제2 방향으로 다른 영역들이 형성되는, 인체 이식형 센서(sensor)
7 7
제 1 항 내지 제 3 항 및 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 나노패턴이 형성된 영역의 이격 간격은 0
8 8
제 1 항에 있어서,상기 기판은 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS), 실크(Silk), 광경화수지(SU-8) 및 실리콘옥사이드(SiO2) 중 어느 하나인, 인체 이식형 센서(sensor)
9 9
제 1 항에 있어서,상기 금속 전극은 금(Au), 백금(Pt), 은(Ag), 구리(Cu), 철(Fe), 마그네슘(Mg) 및 몰리브데넘(Mo)중 어느 하나를 포함하는, 인체 이식형 센서(sensor)
10 10
제 1 항에 있어서,상기 기판의 표면에 형성되는 나노패턴은 구형 또는 요철구조의 형태를 가지는, 인체 이식형 센서(sensor)
11 11
제 1 항에 있어서,상기 기판의 표면에 형성되는 나노패턴은 인체 내 임의의 면역세포를 면역반응을 억제하는 세포로 분화를 유도하는, 인체 이식형 센서(sensor)
12 12
제 1 항에 있어서,상기 나노패턴은, 펨토초 레이저를 조사하여 형성된, 인체 이식형 센서(sensor)
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.