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기판 상에 놓인 감광소재에 광을 조사하여 상기 감광소재를 경화시켜 상기 기판 상에 패턴층을 형성하는 패턴묘화장치로서,상기 기판을 향해 제1 광을 출사하는 제1 광원부;상기 기판에서 반사되는 상기 제1 광을 검출하는 검출부;상기 감광소재를 경화시키기 위한 제2 광을 출사하는 제2 광원부;상기 제1 광 및 상기 제2 광이 상기 기판을 향하도록 경로를 마련하는 필터;상기 필터와 상기 기판 사이에 배치되며, 상기 필터를 경유한 상기 제1 광 및 상기 제2 광을 집광시키는 대물렌즈;상기 대물렌즈와 연결되며, 상기 검출부에서 검출되는 상기 제1 광을 기반으로 상기 대물렌즈와 상기 기판 사이의 간격과 상기 대물렌즈의 초점거리가 일치되도록, 상기 대물렌즈를 이동시키는 제1 렌즈구동부;상기 제2 광원부와 상기 필터 사이에 배치되며, 상기 제2 광을 집광시키는 집광렌즈; 및상기 집광렌즈와 연결되며, 상기 대물렌즈에서 집광되는 상기 제2 광의 초점위치가 가변되도록, 상기 집광렌즈를 이동시키는 제2 렌즈구동부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴묘화장치
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제1항에 있어서,상기 집광렌즈는 광축 방향을 따라 상기 대물렌즈로부터 상대적으로 가깝게 위치하는 제1 위치 및 광축 방향을 따라 상기 대물렌즈로부터 상대적으로 멀리 위치하는 제2 위치 사이에서 이동 가능하게 설치되고,상기 집광렌즈가 상기 제1 위치를 유지하는 경우, 상기 대물렌즈에서 집광되는 상기 제2 광의 초점은 상기 제1 광의 초점과 동일한 위치를 유지하며,상기 집광렌즈가 상기 제1 위치에서 상기 제2 위치로 이동됨에 따라, 상기 대물렌즈에서 집광되는 상기 제2 광의 초점이 상기 제1 광의 초점 상측으로 이동되는 것을 특징으로 하는 패턴묘화장치
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제1항에 있어서,상기 패턴층은 상기 기판의 표면에 형성되는 제1 패턴층 및 상기 제1 패턴층의 상부면에 형성되는 제2 패턴층을 포함하고,상기 제2 패턴층을 형성할 시, 상기 집광렌즈는 미리 형성된 상기 제1 패턴층의 두께에 상응하는 간격으로 이동되는 것을 특징으로 하는 패턴묘화장치
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제1항에 기재된 패턴묘화장치를 이용한 패턴묘화방법으로서,상기 대물렌즈와 상기 기판 사이의 간격과 상기 대물렌즈의 초점거리가 일치되도록 상기 대물렌즈를 이동시키며, 상기 대물렌즈에서 집광되는 상기 제2 광을 이용하여 상기 기판의 표면에 제1 패턴층을 형성하는 제1 패턴층 형성단계; 및상기 대물렌즈에서 집광되는 상기 제2 광의 초점이 상기 제1 패턴층의 상부면에 위치하도록 상기 집광렌즈를 이동시키며, 상기 제1 패턴층의 상부면에 제2 패턴층을 형성하는 제2 패턴층 형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴묘화방법
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제4항에 있어서,상기 제2 패턴층 형성단계는,상기 검출부에서 검출되는 상기 제1 광을 기반으로 상기 대물렌즈와 상기 기판 사이의 간격과 상기 대물렌즈의 초점거리가 일치되도록, 상기 대물렌즈를 이동시키는 기판표면 추적단계; 및상기 제2 광의 초점이 상기 제1 패턴층의 상부면에 위치하도록, 상기 집광렌즈를 이동시키는 제1 패턴층 상부면 추적단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴묘화방법
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제5항에 있어서,상기 제1 패턴층 상부면 추적단계에서, 상기 집광렌즈는 상기 제1 패턴층의 두께에 상응하는 간격으로 이동되는 것을 특징으로 하는 패턴묘화방법
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