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원자층 증착 기반의 박막 내 인위적 조성 조절을 통한 고효율 수소 차단 제어막 형성 방법

  • 기술번호 : KST2022021570
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 실시예들은 원자층 증착(Atomic Layer Deposition, ALD) 공정을 이용하여 박막의 조성을 인위적으로 조절하여 형성한 이중 보호층을 통해 대상 소자의 전기적 특성을 최대한 유지하면서 수소를 차단하고 유입을 제어할 수 있는 수소 차단 제어막 형성 방법 및 수소 차단 제어막을 제공한다.
Int. CL H01L 29/786 (2006.01.01) C23C 16/455 (2006.01.01) C23C 16/40 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01)
CPC H01L 29/78606(2013.01) C23C 16/45527(2013.01) C23C 16/40(2013.01) H01L 21/02164(2013.01) H01L 21/02175(2013.01) H01L 21/022(2013.01) H01L 21/0228(2013.01) H01L 29/7869(2013.01)
출원번호/일자 1020210044610 (2021.04.06)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0138665 (2022.10.13) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.04.06)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김형준 서울특별시 영등포구
2 남태욱 서울특별시 서대문구
3 이유진 서울특별시 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인우인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층(역삼동, 중평빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.04.06 수리 (Accepted) 1-1-2021-0402290-59
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.05.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2022.10.07 수리 (Accepted) 4-1-2022-5235822-97
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번호 청구항
1 1
원자층 증착(Atomic Layer Deposition, ALD) 공정 기반의 수소 차단 제어막 형성 방법에 있어서,상기 ALD 공정을 적용하여 저온에서 제1 산화제 기반의 제1 산화제-산화물을 이용하여 대상체에 제1 보호층을 형성하는 단계; 및상기 ALD 공정을 적용하여 저온에서 제2 산화제 기반의 제2 산화제-산화물을 이용하여 상기 제1 보호층에 제2 보호층을 형성하는 단계를 포함하는 ALD 공정 기반의 수소 차단 제어막 형성 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 제1 보호층과 상기 제2 보호층은 적층 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 ALD 공정 기반의 수소 차단 제어막 형성 방법
3 3
제1항에 있어서,상기 대상체에 대해서 상태 밀도(Density Of States, DOS)를 기준으로 상기 적층 구조로 형성된 상기 제1 보호층과 상기 제2 보호층의 수소 차단 정도를 수치적으로 출력하는 것을 특징으로 하는 ALD 공정 기반의 수소 차단 제어막 형성 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 제1 산화제는 오존(O3)을 포함하고, 상기 제1 산화제-산화물은 오존-산화물을 포함하고,상기 제2 산화제는 물(H2O)을 포함하고, 상기 제2 산화제-산화물은 물-산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 ALD 공정 기반의 수소 차단 제어막 형성 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 제1 산화제-산화물을 포함하는 제1 보호층이 수소에 노출되면, C-O 화학종이 수소 원자와 반응하여 C-OH 화학종을 생성하는 방식을 통해 수소를 트랩하고,상기 제2 산화제-산화물을 포함하는 제2 보호층이 수소에 노출되면, C-OH 화학종이 수소 원자와 반응하여 C-O 화학종을 생성하고 수소를 배출하는 것을 특징으로 하는 ALD 공정 기반의 수소 차단 제어막 형성 방법
6 6
제1항에 있어서,상기 제1 산화제-산화물을 포함하는 제1 보호층은 상기 대상체의 문턱 전압을 양의 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 ALD 공정 기반의 수소 차단 제어막 형성 방법
7 7
제1항에 있어서,상기 제1 산화제-산화물을 포함하는 제1 보호층이 수소에 노출되더라도, 상기 대상체는 문턱 전압을 유지하는 것을 특징으로 ALD 공정 기반의 수소 차단 제어막 형성 방법
8 8
제1항에 있어서,상기 제2 산화제-산화물을 포함하는 제2 보호층은 상기 대상체의 문턱 전압을 음의 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 ALD 공정 기반의 수소 차단 제어막 형성 방법
9 9
제1항에 있어서,상기 제2 산화제-산화물을 포함하는 제2 보호층이 수소에 노출되면, 상기 대상체는 문턱 전압을 음의 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 ALD 공정 기반의 수소 차단 제어막 형성 방법
10 10
제1항에 있어서,상기 제1 산화제-산화물과 상기 제2 산화제-산화물은 상기 대상체의 문턱 전압을 서로 반대 방향으로 이동시켜서 채널로서의 특성 변화를 방지하는 것을 특징으로 하는 수소 차단 제어막
11 11
대상체에 형성되는 제1 산화제 기반의 제1 산화제-산화물을 포함하는 제1 보호층; 및상기 제1 보호층에 형성된 제2 산화제 기반의 제2 산화제-산화물을 포함하는 제2 보호층을 포함하는 수소 차단 제어막
12 12
제11항에 있어서,상기 제1 보호층과 상기 제2 보호층은 원자층 증착(Atomic Layer Deposition, ALD) 공정을 기반으로 적층 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 수소 차단 제어막
13 13
제11항에 있어서,상기 제1 산화제는 오존(O3)을 포함하고, 상기 제1 산화제-산화물은 오존-산화물을 포함하고,상기 제2 산화제는 물(H2O)을 포함하고, 상기 제2 산화제-산화물은 물-산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 수소 차단 제어막
14 14
제11항에 있어서,상기 산화물은 알루미늄 산화물, 실리콘 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 타이타늄 산화물, 아연 산화물, 또는 복합 산화물을 적용하는 것을 특징으로 하는 수소 차단 제어막
15 15
제11항에 있어서,상기 제1 산화제-산화물을 포함하는 제1 보호층이 수소에 노출되면, C-O 화학종이 수소 원자와 반응하여 C-OH 화학종을 생성하는 방식을 통해 수소를 트랩하고,상기 제2 산화제-산화물을 포함하는 제2 보호층이 수소에 노출되면, C-OH 화학종이 수소 원자와 반응하여 C-O 화학종을 생성하고 수소를 배출하는 것을 특징으로 하는 수소 차단 제어막
16 16
제11항에 있어서,상기 제1 산화제-산화물을 포함하는 제1 보호층은 상기 대상체의 문턱 전압을 양의 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 수소 차단 제어막
17 17
제11항에 있어서,상기 제1 산화제-산화물을 포함하는 제1 보호층이 수소에 노출되더라도, 상기 대상체는 문턱 전압을 유지하는 것을 특징으로 하는 수소 차단 제어막
18 18
제11항에 있어서,상기 제2 산화제-산화물을 포함하는 제2 보호층은 상기 대상체의 문턱 전압을 음의 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 수소 차단 제어막
19 19
제11항에 있어서,상기 제2 산화제-산화물을 포함하는 제2 보호층이 수소에 노출되면, 상기 대상체는 문턱 전압을 음의 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 수소 차단 제어막
20 20
제11항에 있어서,상기 제1 산화제-산화물과 상기 제2 산화제-산화물은 상기 대상체의 문턱 전압을 서로 반대 방향으로 이동시켜서 채널로서의 특성 변화를 방지하는 것을 특징으로 하는 수소 차단 제어막
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