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레이저 직접 박막 패터닝 방법

  • 기술번호 : KST2014009506
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따라서 병렬식 레이저 프린팅에 의한 박막 패터닝 방법이 제공된다. 상기 방법은 입자를 포함하는 박막이 형성되어 있고, 광투과성인 유리 또는 플라스틱 소스 기판을 제공하는 단계로서, 상기 박막은 상기 입자를 함유하는 용액을 상온에서의 용액 적층에 의해 상기 소스 기판 상에 형성되며, 상기 입자는 상기 박막 중에 응집된 형태로 존재하는 것인 상기 소스 기판 제공 단계와, 상기 박막이 형성된 소스 기판 표면에 대향하여 그리고 상기 소스 기판에 형성된 박막과 접촉 상태로 혹은 인접하여 광투과성 또는 불투명 재질의 리시버 기판을 배치하는 단계와, 펄스 레이저 빔 조사 수단으로부터 나오는 펄스 레이저 빔을 공간적 광 변조기를 통해 통과시켜, 상기 소스 기판을 조사하는 단계로서, 상기 공간적 광 변조기는 사용자가 원하는 임의의 형태의 패턴으로 형성되어 상기 펄스 레이저 빔의 에너지 밀도를 공간적으로 변조시켜 통과시키며, 상기 패턴에 대응하여 상기 펄스 레이저 빔이 상기 소스 기판을 통과하여 상기 입자 박막에 조사되도록 하는 것인, 상기 펄스 레이저 빔 조사 단계와, 상기 입자 박막에 조사되는 펄스 레이저에 의한 상기 소스 기판에서의 패터닝 단계로서, 상기 공간적 광 변조기에 의해 에너지 밀도가 공간적으로 변조되어 상기 패턴에 대응되는 입자 박막 부위에 조사된 펄스 레이저의 에너지 밀도가 임계값 이상이면, 입자의 열탄성 효과에 의한 힘이 입자와 기판 사이의 결합력보다 크게 되어, 상기 레이저가 조사된 입자 박막 부위가 기판으로부터 분리되어, 상기 공간적 광 변조기의 패턴에 대응되는 패턴이 입자 박막에 형성되도록 하는 것인, 상기 소스 기판에서의 병렬 방식의 패터닝 단계와, 상기 리시버 기판에서의 프린팅 단계로서, 상기 소스 기판에서의 패터닝 단계 중에 상기 입자 박막으로부터 분리된 입자들을 열탄성력에 의해 상기 리시버 기판을 향해 구동시켜 상기 리시버 기판 상에 적층되도록 함으로써, 상기 소스 기판에 형성된 패턴과 대응되는 패턴을 갖는 박막을 상기 리시버 기판 상에 형성하는, 상기 리시버 기판에서의 병렬 방식의 프린팅 단계 및 상기 리시버 기판에 형성된 박막에 대해 열처리를 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) H01L 21/027 (2011.01)
CPC G03F 7/0025(2013.01) G03F 7/0025(2013.01) G03F 7/0025(2013.01) G03F 7/0025(2013.01)
출원번호/일자 1020080049471 (2008.05.28)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0951778-0000 (2010.04.01)
공개번호/일자 10-2009-0123411 (2009.12.02) 문서열기
공고번호/일자 (20100408) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.05.28)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이명규 대한민국 서울 송파구
2 신현권 대한민국 서울 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김승욱 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로 ***, ***호(서초동, 두산베어스텔)(아이피마스터특허법률사무소)
2 이채형 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 ** (대치동 동구빌딩 *층) Neo국제특허법률사무소

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.05.28 수리 (Accepted) 1-1-2008-0380323-23
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2009.07.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.08.14 수리 (Accepted) 9-1-2009-0047294-18
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.01.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0029474-14
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.03.17 수리 (Accepted) 1-1-2010-0167926-17
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.03.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0167927-52
7 등록결정서
Decision to grant		 2010.03.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0129270-20
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5252006-10
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
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번호 청구항
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입자를 포함하는 박막이 형성되어 있고, 광투과성인 유리 또는 플라스틱 소스 기판을 제공하는 단계로서, 상기 박막은 상기 입자를 함유하는 용액을 상온에서의 용액 적층에 의해 상기 소스 기판 상에 형성되며, 상기 입자는 상기 박막 중에 응집된 형태로 존재하는 것인 상기 소스 기판 제공 단계와, 상기 박막이 형성된 소스 기판 표면에 대향하여 그리고 상기 소스 기판에 형성된 박막과 접촉 상태로 혹은 인접하여 광투과성 또는 불투명 재질의 리시버 기판을 배치하는 단계와, 펄스 레이저 빔 조사 수단으로부터 나오는 펄스 레이저 빔을 공간적 광 변조기를 통해 통과시켜, 상기 소스 기판을 조사하는 단계로서, 상기 공간적 광 변조기는 사용자가 원하는 임의의 형태의 패턴으로 형성되어 상기 펄스 레이저 빔의 에너지 밀도를 공간적으로 변조시켜 통과시키며, 상기 패턴에 대응하여 상기 펄스 레이저 빔이 상기 소스 기판을 통과하여 상기 입자 박막에 조사되도록 하는 것인, 상기 펄스 레이저 빔 조사 단계와, 상기 입자 박막에 조사되는 펄스 레이저에 의한 상기 소스 기판에서의 패터닝 단계로서, 상기 공간적 광 변조기에 의해 에너지 밀도가 공간적으로 변조되어 상기 패턴에 대응되는 입자 박막 부위에 조사된 펄스 레이저의 에너지 밀도가 임계값 이상이면, 입자의 열탄성 효과에 의한 힘이 입자와 기판 사이의 결합력보다 크게 되어, 상기 레이저가 조사된 입자 박막 부위가 기판으로부터 분리되어, 상기 공간적 광 변조기의 패턴에 대응되는 패턴이 입자 박막에 형성되도록 하는 것인, 상기 소스 기판에서의 병렬 방식의 패터닝 단계와, 상기 리시버 기판에서의 프린팅 단계로서, 상기 소스 기판에서의 패터닝 단계 중에 상기 입자 박막으로부터 분리된 입자들을 열탄성력에 의해 상기 리시버 기판을 향해 구동시켜 상기 리시버 기판 상에 적층되도록 함으로써, 상기 소스 기판에 형성된 패턴과 대응되는 패턴을 갖는 박막을 상기 리시버 기판 상에 형성하는, 상기 리시버 기판에서의 병렬 방식의 프린팅 단계 및 상기 리시버 기판에 형성된 박막에 대해 열처리를 수행하는 단계 를 포함하는 것을 특징으로 하는 병렬식 레이저 프린팅에 의한 박막 패터닝 방법
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청구항 7에 있어서, 상기 입자는 나노미터 크기의 입자 또는 마이크로미터 크기의 입자인 것인 병렬식 레이저 프린팅에 의한 박막 패터닝 방법
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청구항 8에 있어서, 상기 입자는 나노미터 크기 또는 마이크로 크기의 전도성 금속 입자인 것인 병렬식 레이저 프린팅에 의한 박막 패터닝 방법
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청구항 8에 있어서, 상기 입자는 상기 펄스 레이저를 흡수할 수 있는 나노미터 크기 또는 마이크로미터 크기의 반도체 입자 또는 상기 펄스 레이저를 흡수할 수 있는 나노미터 크기 또는 마이크로미터 크기의 유전체 입자인 것인 병렬식 레이저 프린팅에 의한 박막 패터닝 방법
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청구항 7에 있어서, 상기 펄스 레이저 빔 조사 수단은 나노세컨드의 펄스폭을 갖는 Nd:YAG 펄스 레이저를 조사하는 것을 특징으로 하는 병렬식 레이저 프린팅에 의한 박막 패터닝 방법
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1 교육부 연세대학교 산업협력단 기초연구지원기초과학(기초과학1) AG 나노 입자 배열의 광학적 제어 및 패터닝