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상호 침투형 가교 구조의 고체고분자 전해질 조성물 및 그제조방법

  • 기술번호 : KST2015117236
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 상호 침투형 가교 구조를 기초로 한 새로운 고체 고분자 전해질 조성물 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 리튬이온의 해리 능력이 우수한 폴리알킬렌 글라이콜 고분자와 리튬 이온의 이동도가 높은 폴리실록산 고분자를 완전한 상호 침투형 가교 구조로 형성시켜, 기계적 물성의 저하없이 상온에서 높은 이온전도도를 나타내는 신규 고체고분자 전해질에 관한 것이다. 본 발명에 의해 제조된 고체고분자 전해질은 리튬고분자 이차전지에 적용할 수 있을 정도로 높은 상온 이온전도도 값을 보유하고 있을 뿐만 아니라, 누액 등의 안전성 문제도 개선한 전해질이므로 기존의 리튬이차전지의 대체는 물론 고안전성이 요구되는 전지 시스템에 쉽게 적용이 가능하다.
Int. CL C08G 77/06 (2006.01) C08G 77/14 (2006.01)
CPC C08G 77/06(2013.01) C08G 77/06(2013.01) C08G 77/06(2013.01)
출원번호/일자 1020050064889 (2005.07.18)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0683939-0000 (2007.02.09)
공개번호/일자 10-2007-0010373 (2007.01.24) 문서열기
공고번호/일자 (20070216) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.07.18)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박정기 대한민국 대전광역시 유성구
2 이용민 대한민국 대전광역시 유성구
3 고동현 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 황이남 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2005.07.18 수리 (Accepted) 1-1-2005-0387750-10
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2006.04.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2006.05.11 수리 (Accepted) 9-1-2006-0028666-95
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2006.07.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0426674-78
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2006.09.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0684577-85
6 의견서
Written Opinion		 2006.09.21 수리 (Accepted) 1-1-2006-0684578-20
7 등록결정서
Decision to grant		 2006.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0706619-67
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
1 1
다음 화학식 1로 표시되는 폴리 메틸 실록산 가교제와 다음 화학식 2로 표시되는 폴리알킬렌글라이콜 다이아크릴레이트 가교제를 가교반응시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 상호침투형 가교구조의 고체고분자 전해질
2 2
다음 화학식 5로 표시되는 폴리 메틸 실록산 가교제와 다음 화학식 6로 표시되는 양 말단이 에폭사이드 그룹으로 치환된 폴리에틸렌글라이콜을 가교반응시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 상호침투형 가교구조의 고체고분자 전해질
3 3
제1항 또는 제2항에 있어서, 가교제 함량이 0
4 4
제 3항에 있어서, 리튬염은 LiClO4, LiBF4, LiCF3SO3, LiPF6, LiAsF6, Li(CF3SO2)2N 중에서 선택된 어느 하나 이상임을 특징으로 하는 상호침투형 가교구조의 고분자 전해질 조성물
5 5
제 3항에 있어서, 개시제는 하기의 광경화형 개시제, 열경화형 개시제 중에서 선택된 어느 하나 이상을 사용함을 특징으로 하는 상호침투형 가교구조의 고분자 전해질 조성물
6 6
상호침투형 가교구조의 고체고분자 전해질 제조에 있어서, 화학식 1로 표현되는 폴리메틸실록산의 가교제와 화학식 2로 표현되는 폴리알킬렌글라이콜 다이아크릴레이트의 가교제를 혼합하거나 또는 화학식 5로 표시되는 폴리 메틸 실록산 가교제와 다음 화학식 6로 표시되는 양 말단이 에폭사이드 그룹으로 치환된 폴리에틸렌글라이콜을 혼합하는 단계, 가교제의 혼합물에 화학식 3, 화학식 4로 표현되는 가소제를 단독으로 사용하거나 또는 2종 이상의 혼합물의 가소제를 가교제의 혼합물에 첨가하는 단계와, 가교제와 가소제가 혼합된 혼합물에 리튬염을 첨가하는 단계와, 리튬염이 첨가된 가교제와 가소제의 혼합물에 개시제를 첨가하여 완전하게 섞이도록 교반하는 단계와, 이 혼합물을 수분이 차단된 밀폐상태에서 테플론 기판위에 도포한 후 자외선을 조사하여 고체 고분자 전해질을 제조하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 상호침투형 가교구조의 고분자 전해질조성물의 제조방법
7 7
제 6항에 있어서, 자외선은 1∼10분간 100∼500nm 파장으로 조사하는 것을 특징으로 하는 상호침투형 가교구조의 고분자 전해질조성물의 제조방법
8 8
제 1항 또는 제 2 항의 상호침투형 가교구조의 고분자 전해질 조성물로 이루어진 고분자 전해질을 포함하는 리튬-고분자 이차 전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.