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미세 공간 대류 조립 방법을 이용한 콜로이드 결정의제조방법

  • 기술번호 : KST2015118405
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 미세 공간 대류 조립 방법을 이용한 콜로이드 결정의 제조방법에 관한 것으로 보다 상세하게는 두 기판 사이에 콜로이달 현탁액(colloidal suspension)을 주입하고, 모세관 힘에 의해 콜로이드 입자들이 자기 조립하여 기판상에 이차원(two-dimensional) 및/또는 삼차원(three-dimensional)의 콜로이드 결정을 제조하는 방법에 관한 것이다.본 발명은 콜로이드 현탁액의 용매를 제거함으로써 콜로이드 현탁액 용매의 제거에 따라 콜로이드 입자들을 메니스커스로 이동시키는 흐름(convective flow)을 조절할 수 있다. 이러한 콜로이드 입자들의 흐름조절로 인해 기존의 방법으로는 용이하지 않은 다양한 크기의 콜로이드 입자를 빠른 시간 내에 대면적의 이차원 콜로이드 결정 및/또는 삼차원 콜로이드 결정을 제조할 수 있다. 본 발명은 미세 공간 대류조립(Confined convective assembly) 방법을 이용하여 제조한 이차원 콜로이드 결정 및/또는 삼차원 콜로이드 결정을 바이오 센서 및 소자, 정보 저장 매체, 디스플레이 소자, 광학소자 등에 광범위하게 이용할 수 있다.
Int. CL B01J 13/00 (2006.01)
CPC B01J 13/0052(2013.01) B01J 13/0052(2013.01)
출원번호/일자 1020060007475 (2006.01.24)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0683942-0000 (2007.02.09)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20070216) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.01.24)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박오옥 대한민국 서울 강남구
2 김문호 대한민국 경북 청도군
3 임상혁 대한민국 경북 포항시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 황이남 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2006.01.24 수리 (Accepted) 1-1-2006-0055286-17
2 공지예외적용주장대상(신규성,출원시의특례)증명서류제출서
Submission of Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)		 2006.01.25 수리 (Accepted) 1-1-2006-5007511-76
3 공지예외적용주장대상(신규성,출원시의특례)증명서류제출서
Submission of Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)		 2006.01.25 수리 (Accepted) 1-1-2006-5007510-20
4 등록결정서
Decision to grant		 2006.11.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0699567-15
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
두 기판 사이의 미세 공간에 콜로이드 현탁액을 주입하는 단계, 콜로이드 현탁액의 용매를 제거하면서 한쪽 기판을 움직여 두 기판 사이의 미세 공간에 메니스커스(meniscus)를 형성하는 단계, 콜로이드 현탁액 용매의 제거에 의해 메니스커스의 콜로이드 현탁액의 용매가 제거되면서 발생하는 모세관 힘에 의해 콜로이드 입자들이 자기 조립하여 기판상에 콜로이드 결정이 형성되는 단계를 포함함을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 기판은 유리 기판, 실리콘 기판, 알루미늄 기판, 실리카 기판, 금 기판, 폴리스티렌 기판, 폴리에스터 기판, 폴리다이메틸실록산(PDMS) 기판 콜로이드 결정을 포함하는 기판 중에서 선택된 어느 하나 임을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 두 개의 기판 중에서 콜로이드 결정이 형성될 기판은 고분자, 금속, 무기물 중에서 선택된 어느 하나의 입자로부터 형성된 콜로이드 결정을 포함하는 기판을 적용하여 다층 구조의 콜로이드 결정을 얻을 수 있는 콜로이드 결정의 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 두 기판 사이의 미세 공간은 10∼100㎛ 임을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 콜로이드 현탁액은 고분자 입자, 무기물 입자, 금속입자 중에서 선택된 어느 하나 이상의 입자를 포함하는 콜로이드 현탁액 임을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 콜로이드 현탁액의 콜로이드 입자는 0
7 7
제1항에 있어서, 콜로이드 현탁액 중의 용매는 물, 탄소수가 1∼10개인 알콜, 지방족 유기용매, 방향족 유기용매 중에서 선택된 어느 하나 임을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
8 8
제1항에 있어서, 콜로이드 현탁액의 농도는 0
9 9
제1항에 있어서, 움직이는 기판은 1∼1000㎛/s의 속도로 움직이는 것을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
10 10
제1항에 있어서, 콜로이드 현탁액의 용매 제거는 더운 공기를 콜로이드 현탁액에 공급하여 콜로이드 현탁액의 용매를 증발시켜 제거하거나, 고온의 수증기를 콜로이드 현탁액에 공급하여 콜로이드 현탁액의 용매를 증발시켜 제거하거나, 가열장치를 이용하여 콜로이드 현탁액의 용매를 증발시켜 제거하거나, 또는 기판을 포함하는 콜로이드 제조에 필요한 장비를 온도, 습도를 제어할 수 있는 챔버(chamber)에 넣어 챔버의 온도를 조절하여 실시함을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
11 11
제1항에 있어서, 자기조립된 콜로이드 입자의 공극에 반도체, 금속, 금속산화물, 유기물, 유기물 유도체 중에서 선택된 어느 하나 이상을 충전하는 단계를 추가로 더 포함함을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
12 12
제5항에 있어서, 고분자 입자는 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리아크릴레이트, 폴리알파메틸스티렌, 폴리페닐메타크릴레이트, 폴리디페닐메틸메타크릴레이트, 폴리시클로헥실메타크릴레이트, 스티렌-아크릴로니트를(SAN) 공중합체, 스티렌-메틸메타크릴레이트 공중합체 중에서 선택된 어느 하나 이상임을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
13 13
제5항에 있어서, 금속입자는 금, 은, 알루미늄, 백금, 티타늄, 카드뮴, 철 중에서 선택된 어느 하나 이상임을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
14 14
제5항에 있어서, 무기물 입자는 실리카(SiO2), 이산화티타늄(TiO2), 지르코리아(ZrO2), 산화니켈(NiO), 산화제이주석(SnO2) 중에서 선택된 어느 하나 이상임을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
15 15
제11항에 있어서, 반도체는 Si, CdS, CdSe, GaAs, GaAlAs, ZnS, Ge 중에서 선택된 어느 하나 이상임을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
16 16
제11항에 있어서, 금속은 금, 은, 알루미늄, 알루미늄, 백금, 티타늄, 카드뮴, 철 중에서 선택된 어느 하나 이상임을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
17 17
제11항에 있어서, 금속산화물은 산화알루미늄, 산화철, 산화아연, 산화 마그네숨, 산화 안티몬 중에서 선택된 어느 하나 이상임을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
18 18
제11항에 있어서, 유기물 및 유기물 유도체는 폴리(파라-페닐렌비닐렌), 폴리티오펜, 폴리(파라-페닐렌), 폴리퀴놀린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌, 폴리플로렌, 폴리다이메틸실록산(PDMS), 폴리티오펜, 폴리우레탄 중에서 선택된 어느 하나 이상의 유기물 및 이들 유기물의 유도체 임을 특징으로 하는 콜로이드 결정의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.