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(a) 상승관(4)과 하강관(2)이 병렬적으로 배치되고, 상승관과 하강관의 상부는 사이클론(1)이 연결되어 있고, 하부는 L-밸브(3)로 연결된 순환유동층 반응기에 지지체 입자를 충진하고, 상승관을 통과하는 운반기체의 유속을 고정하고 L-밸브 하단을 통과하는 운반기체의 유속을 변화시키면서 상기 지지체 입자의 순환속도를 일정하게 유지하는 단계(단계 1); (b)상기 순환유동층 반응기에 타이타니아 전구체 및 반응기체를 주입하는 단계(단계 2); 및 (c)플라즈마를 발생시켜 상기 지지체 표면에 타이타니아 박막을 화학증착시키는 단계(단계 3)를 포함하는 순환유동층 반응기에서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한 미세입자의 타이타니아 박막 제조방법에 있어서, 상기 단계1의 상승관을 통과하는 운반기체의 유속은 54 ~ 56 cm/s이고, L-밸브 하단을 통과하는 운반기체의 유속은 1
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 지지체 입자는 실리카겔 입자임을 특징으로 하는 순환유동층 반응기에서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한 미세입자의 타이타니아 박막 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 실리카겔의 입자 크기는 80 ~ 120 ㎛인 것을 특징으로 하는 순환유동층 반응기에서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한 미세입자의 타이타니아 박막 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 2의 전구체는 티타늄 알콕사이드계의 화합물인 것을 특징으로 하는 순환유동층 반응기에서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한 미세입자의 타이타니아 박막 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 티타늄 알콕사이드계의 화합물은 티타늄 테트라이소프로폭사이드, 티타늄 테트라노말프로폭사이드, 티타늄 테트라에톡사이드 및 티타늄 테트라노말부톡사이드로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 순환유동층 반응기에서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한 미세입자의 타이타니아 박막 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 2의 전구체는 가열용기에 의해 90 ~ 100℃에서 기화시키면서 주입하는 것을 특징으로 하는 순환유동층 반응기에서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한 미세입자의 타이타니아 박막 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 2의 반응기체는 산소임을 특징으로 하는 순환유동층 반응기에서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한 미세입자의 타이타니아 박막 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 반응기체의 농도는 3
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제1항에 있어서, 상기 단계 3의 플라즈마 발생시, 플라즈마의 글로우 방전 영역 확장을 위한 목적으로 아르곤 기체를 주입하는 것을 특징으로 하는 순환유동층 반응기에서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한 미세입자의 타이타니아 박막 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 아르곤 기체의 농도는 0
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마 발생 RF 전력은 350 ~ 400 W인 것을 특징으로 하는 순환유동층 반응기에서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한 미세입자의 타이타니아 박막 제조방법
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